本发明专利技术的感光性树脂组合物含有：（ａ）成分：由包含下述通式（１）所表示的化合物的第１硅烷化合物水解缩合而得的第１硅氧烷树脂、（ｂ）成分：溶解所述（ａ）成分的溶剂、和（ｃ）成分：酚类和二叠氮基萘醌磺酸的酯或醇类和二叠氮基萘醌磺酸的酯。［式１中，Ｒ１表示有机基团，Ａ表示２价的有机基团，Ｘ表示水解性基团，同一分子内的多个Ｘ可以相同，也可以不同。］。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种感光性树脂组合物、二氧化硅系覆膜的形成方法、以及具备通过该方法所形成的二氧化硅系覆膜的半导体装置、平面显示装置以及电子设备用部件。
技术介绍
在液晶显示装置等平面显示装置或半导体装置的制作中，使用了层间绝缘膜。通常，对于层间绝缘膜而言，对由气相沉积或涂布所形成的膜，通过光致抗蚀剂进行蚀刻，从而形成图案。并且，在形成微细图案时，通常使用气相蚀刻。然而，气相蚀刻存在有装置成本高，并且处理速度慢的问题。因此，为了降低成本而进行了层间绝缘膜用感光性材料的开发。特别是在液晶显示装置中，由于在用于像素电极和栅/漏配线间的绝缘以及设备平坦化的层间绝缘膜中需要形成接触孔，因此要求一种具有正型感光特性的层间绝缘膜用感光性材料。进一步，液晶显示装置中的层间绝缘膜要求透明性。此外，在使图案化了的膜作为层间绝缘膜残留并使用时，希望其是介电常数小的膜。为了适应这种要求，例如，已经提出了专利文献1和2中所公开的层间绝缘膜的形成方法。专利文献1中公开了一种层间绝缘膜的形成方法，其含有形成包含聚硅氮烷和光酸产生剂的感光性聚硅氮烷组合物的涂膜的工序、以图案状地对前述涂膜照射光的工序、 和溶解除去前述涂膜的照射部分的工序。此外，专利文献2中公开了一种由包含硅氧烷树脂和二叠氮基醌化合物的组合物所形成的层间绝缘膜。专利文献1 日本特开2000-181069号公报 专利文献2 日本特开2006-178436号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题 然而，在使用前述专利文献1所述的膜作为层间绝缘膜时，需要水解聚硅氮烷，将聚硅氮烷结构转化为聚硅氧烷结构。这时，如果膜中的水分不足，则有无法充分进行水解的问题。此外，在聚硅氮烷的水解中，由于产生了挥发性高的氨，因此制造装置的腐蚀等成为问题。此外，由包含专利文献2所述的硅氧烷树脂和二叠氮基醌化合物的组合物所形成的层间绝缘膜，存在有耐热性不足的问题。因此，本专利技术目的在于提供一种能够比较容易地形成可以用作层间绝缘膜的二氧化硅系覆膜的、且形成的二氧化硅系覆膜的耐热性和分辨率优异的感光性树脂组合物，以及使用该感光性树脂组合物的二氧化硅系覆膜的形成方法。此外，本专利技术目的还在于提供一种具备通过该方法所形成的二氧化硅系覆膜的半导体装置、平面显示装置以及电子设备用部件。解决问题的方法 为了达成前述目的，本专利技术提供一种感光性树脂组合物，其含有(a)成分由包含下述通式(1)所表示的化合物的第1硅烷化合物水解缩合而得的第1硅氧烷树脂、(b)成分溶解所述(a)成分的溶剂、和(c)成分酚类和二叠氮基萘醌磺酸的酯或醇类和二叠氮基萘醌磺酸的酯。 权利要求1.一种感光性树脂组合物，其含有(a)成分由包含下述通式(1)所表示的化合物的第1硅烷化合物水解缩合而得的第1 硅氧烷树脂、(b)成分溶解所述(a)成分的溶剂、和(c)成分酚类和二叠氮基萘醌磺酸的酯或醇类和二叠氮基萘醌磺酸的酯；式(1)中，R1表示有机基团，A表示2价的有机基团，X表示水解性基团，同一分子内的多个X可以相同，也可以不同。2.如权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中所述(c)成分包含酚类和二叠氮基萘醌磺酸的酯或具有一个以上芳基的醇类和二叠氮基萘醌磺酸的酯。3.如权利要求1或2所述的感光性树脂组合物，其进一步含有(d)成分由不包含所述通式(1)所表示的化合物、但包含下述通式( 所表示的化合物的第2硅烷化合物水解缩合而得的第2硅氧烷树脂；R2nSiX4^n (2)式O)中，R2表示H原子或有机基团，X表示水解性基团，η表示O 3的整数，当η为 2以下时，同一分子内的多个X可以相同，也可以不同，当η为2或3时，同一分子内的多个 R2可以相同，也可以不同。4.如权利要求1 3中任一项所述的感光性树脂组合物，其中所述第1硅烷化合物进一步包含下述通式( 所表示的化合物； 式(3)中，R3表示有机基团，X表示水解性基团，同一分子内的多个X可以相同，也可以不同。5.如权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中所述(b)成分包含选自醚乙酸酯系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂、醇系溶剂和酮系溶剂中的至少一种溶剂。6.一种二氧化硅系覆膜的形成方法，其含有将权利要求1 5中任一项所述的感光性树脂组合物涂布在基板上并干燥，得到涂膜的涂布工序、对所述涂膜的规定部分进行曝光的第1曝光工序、除去所述涂膜的曝光的所述规定部分的除去工序、和对除去了所述规定部分的涂膜进行加热的加热工序。7.—种二氧化硅系覆膜的形成方法，其含有将权利要求1 5中任一项所述的感光性树脂组合物涂布在基板上并干燥，得到涂膜的涂布工序、对所述涂膜的规定部分进行曝光的第1曝光工序、除去所述涂膜的曝光的所述规定部分的除去工序、对除去了所述规定部分的涂膜进行曝光的第2曝光工序、和对除去了所述规定部分的涂膜进行加热的加热工序。8.一种半导体装置，其具有基板，和通过权利要求6或7所述的形成方法在该基板上所形成的二氧化硅系覆膜。9.一种平面显示装置，其具有基板，和通过权利要求6或7所述的形成方法在该基板上所形成的二氧化硅系覆膜。10.一种电子设备用部件，其具有基板，和通过权利要求6或7所述的形成方法在该基板上所形成的二氧化硅系覆膜。全文摘要本专利技术的感光性树脂组合物含有(a)成分由包含下述通式(1)所表示的化合物的第1硅烷化合物水解缩合而得的第1硅氧烷树脂、(b)成分溶解所述(a)成分的溶剂、和(c)成分酚类和二叠氮基萘醌磺酸的酯或醇类和二叠氮基萘醌磺酸的酯。。文档编号G03F7/023GK102187278SQ20098014172公开日2011年9月14日 申请日期2009年3月16日 优先权日2008年10月21日专利技术者青木阳介, 阿部浩一, 粕谷圭 申请人:日立化成工业株式会社本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种感光性树脂组合物，其含有：（ａ）成分：由包含下述通式（１）所表示的化合物的第１硅烷化合物水解缩合而得的第１硅氧烷树脂、（ｂ）成分：溶解所述（ａ）成分的溶剂、和（ｃ）成分：酚类和二叠氮基萘醌磺酸的酯或醇类和二叠氮基萘醌磺酸的酯；式（１）中，Ｒ１表示有机基团，Ａ表示２价的有机基团，Ｘ表示水解性基团，同一分子内的多个Ｘ可以相同，也可以不同。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：青木阳介，
申请(专利权)人：日立化成工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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