控制结型场效应晶体管的器件制造技术

技术编号:7127839 阅读:314 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种使得能够使用习惯用于控制MOSFET/IGBT的栅极控制电路控制JFET晶体管的器件。该器件包括:由串联的电容器(C1)和栅极电阻器(Rg)组成的第一单元,所述第一单元连接在控制电路(10)的第一输出端(100)与JFET晶体管的栅极(G)之间;由串联的二极管(D1)和放电电阻器(R1)组成的第二单元,所述第二单元连接在第一单元的电容器(C1)与栅极电阻器(Rg)之间,还连接到栅极控制电路(10)的第二输出端(101)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及控制JFET(结型场效应晶体管)晶体管的器件。
技术介绍
JFET晶体管是包含其功能是允许或禁止电流在漏极⑶与源极⑶之间流动的控制栅极(G)的已知电源开关。如果栅极与源极之间的电压Ves接近零,则这样的晶体管是耗尽型(常开)晶体管。这意味着在控制电压Ves不存在的情况下,漏极-源极沟道导通或者是导通的。相反,如果在不存在栅极与源极之间的电压Ves的情况下漏极-源极沟道不导通,则JFET晶体管是增强型(常闭)晶体管。耗尽型JFET晶体管要求将负电压Ves施加在栅极与源极之间,以便将晶体管截止。 这种电压通常位于-5V到-15V之间。增强型JFET晶体管要求将正电压Ves施加在栅极与源极之间,以便将晶体管导通。 这种正电压通常位于+IV到+3V之间。由于JFET晶体管相对较新,还没有设计出专门控制它们的器件。因此,美国专利 6,661,276已经建议生产一种用于控制增强型JFET晶体管的器件,该增强型JFET晶体管包含习惯用于控制MOSFET (金属氧化物半导体场效应晶体管)晶体管的栅极控制电路10。 这种控制器件显示在附图IA中。如文献US 6,661,276所述,传本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种控制JFET晶体管的器件,其特征在于,它包含:-包含第一输出端(100)和与JFET晶体管的源极(S)连接的第二输出端(101)的栅极控制电路(10);-由串联的电容器(C1)和栅极电阻器(Rg)组成的第一组件,所述第一组件连接在控制电路(10)的第一输出端(100)与JFET晶体管的栅极(G)之间;以及-由串联的二极管(D1)和放电电阻器(R1)组成的第二组件,该第二组件一端连接在第一组件的电容器(C1)与栅极电阻器(Rg)之间,而另一端与栅极控制电路(10)的第二输出端(101)连接。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:S卡考伊特
申请(专利权)人:施耐德电器工业公司
类型:发明
国别省市:FR

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1