【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种对诸如板的待处理对象执行等离子体处理的等离子体处理装置。
技术介绍
等离子体处理被公知为一种用于清洗或刻蚀待处理对象(诸如其上安装有电子部件的板)的表面处理方法。在等离子体处理中,待处理的板被放在形成处理腔的真空腔内。然后,在处理腔内产生等离子体放电,以使得作为等离子放电的结果而产生的离子和电子作用于板的表面,从而执行所希望的表面处理。例如通过离子和电子的微观作用而引起等离子体处理。因而,难以通过诸如可视检查的简单方法来可靠地检查在过程期间是否执行了适当的处理。为此原因,对于检查是否对已经历了等离子处理步骤的板合适地执行了等离子处理的方法,已使用了简单的替换手段(见专利文件1和2)。在专利文件1中,在待处理的板的表面上形成具有不同颜色和形状的多层判断标记,并且,根据判断标记的可视改变来判断等离子体移除判断标记的程度。此外,在专利文件2中,在处理之后将板从真空腔撤出的撤出路径上提供标记单元,并且,在处理之后被撤出的板上,用笔来作出显示板已被处理的线状标记。相关技术文件专利文件专利文件1 JP-A-11-26917专利文件2 JP-A-2000- ...
【技术保护点】
1.一种等离子体处理装置,包括:真空腔,形成容纳待处理对象的处理腔;等离子体处理执行部分,其在所述处理腔中减小的压力状态下,将等离子体产生气体引入所述处理腔中,通过施加高频电压来在所述处理腔中产生等离子体放电,并对所述处理腔中容纳的待处理对象执行等离子体处理;操作条件参数存储部分,存储被设置为所述等离子体处理执行部分的操作条件的操作条件参数;装置控制部分,其基于所述操作条件参数来控制所述等离子体处理执行部分;放电状态检测单元,其通过分析与等离子体的改变对应的电势改变来检测放电状态,并基于检测结果,对每个待处理对象判断放电状态的质量;历史信息存储部分;日期和时间数据创建部分, ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:野野村胜,
申请(专利权)人:松下电器产业株式会社,
类型:发明
国别省市:JP
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