加热器定位调整装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种加热器定位调整装置，用于调整位于腔体内的加热器的位置，腔体上设有腔体盖，加热器包括水平设置的加热盘和竖直设置的支撑杆，支撑杆的上端固定连接于加热盘的底部中心处，支撑杆的下端穿越腔体的底板并形成向下的延伸段，加热器定位调整装置包括对准机构和调整定位机构；对准机构包括观察镜和顶部中心处设有中心标记的加热器盖，所述观察镜设置在所述腔体盖的中心通孔处，所述观察镜的中心部位设有对准标记；所述调整定位机构设置在所述延伸段的外周。通过加热器盖上的中心标记和设置于腔体盖中心处的观察镜的对准标记进行校准，使得加热器始终安装在腔体的中心部位，提高晶圆表面沉积的薄膜的均匀性，进而提高产品良率。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种加热器定位调整装置。
技术介绍
化学气相沉积(Chemical Vapor D印osition，简称CVD)是一种用来产生纯度高、 性能好的固态材料的化学技术。半导体产业使用此技术在晶圆(基底)上形成薄膜。典型的CVD制程是将晶圆暴露在一种或多种不同的反应气体下，通过反应气体的原子、分子间化学反应，使得反应气体中的某些成分分解，而在基体上形成薄膜。如图1所示，现有进行CVD制程的工艺腔包括加热器110、腔体120和腔体盖130， 所述腔体盖130设置在所述腔体120的上方，所述腔体盖130和所述腔体120组成一个密封的工艺腔。所述加热器110包括水平设置的加热盘111和竖直设置的支撑杆112，所述支撑杆112的上端固定连接于所述加热盘111的底部中心处，所述支撑杆112的下端穿越所述腔体120的底板121并形成向下的延伸段。所述支撑杆112的下部即延伸段通过螺钉 140固定。在使用过程中，加热器110需要定期从工艺腔中取出进行维护，并且加热器110 损坏后也需要进行更换。但每次安装后，加热器110的加热盘111的中心经常和腔体120 的中心发生偏离，使得固定于腔体内本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种加热器定位调整装置，用于调整位于腔体内的加热器的位置，所述腔体上设有腔体盖，所述加热器包括水平设置的加热盘和竖直设置的支撑杆，所述支撑杆的上端固定连接于所述加热盘的底部中心处，所述支撑杆的下端穿越所述腔体的底板并形成向下的延伸段，其特征在于，所述加热器定位调整装置包括对准机构和调整定位机构；所述对准机构包括观察镜和顶部中心处设有中心标记的加热器盖，所述观察镜设置在所述腔体盖的中心通孔处，所述观察镜的中心部位设有对准标记；所述调整定位机构设置在所述延伸段的外周。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：许亮，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31