本发明专利技术涉及一种液晶取向剂、液晶取向膜的形成方法、液晶显示元件以及化合物。本发明专利技术提供一种能够形成能通过光取向法而赋予液晶分子的取向控制力，并且在用于垂直取向型的液晶显示元件时，垂直取向控制力和涂布性的平衡优良，另一方面，在用于TN型、STN型或横电场方式的液晶显示元件时，取向控制力也优良的液晶取向膜的液晶取向剂。上述液晶取向剂含有具有以下述式(1’-1)所表示的结构为代表的特定结构的放射线敏感性聚合物。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种液晶取向剂、液晶取向膜的形成方法、液晶显示元件以及化合物。 更详细而言，涉及一种能够形成液晶分子的取向控制力优良的液晶取向膜的液晶取向剂以及显示品质优良的液晶显示元件。
技术介绍
一直以来，已知有通过具有液晶取向膜的带透明电极的基板，将具有正介电各向异性的向列型液晶形成夹层结构，并根据需要使液晶分子的长轴在基板间连续地扭转0 360°而形成的TN(扭曲向列)型和STN(超扭曲向列)型等液晶显示元件(参见专利文献 1 禾口 2)。在这种液晶显示元件中，为了使液晶分子相对于基板面以规定方向取向，需要在基板表面上设置液晶取向膜。该液晶取向膜通常由使用人造丝等布材在一个方向对基板表面上所形成的有机膜表面进行摩擦的方法(摩擦法)而形成。但是，在通过摩擦处理形成液晶取向膜时，由于在工序中容易产生灰尘或静电，因此，存在有灰尘附着在取向膜表面上，从而导致发生显示不良的问题。特别是在具有TFT(薄膜晶体管)元件的基板的情况下，还存在有因产生的静电而导致TFT元件的电路损坏，造成成品率下降的原因的问题。此外，今后在越来越高精细化的液晶显示元件中，随着像素的高密度化，在基板表面上不可避免地产生凹凸，因此进行均勻的摩擦处理变得越来越困难。因此，作为在液晶显示元件中控制液晶分子取向的其它方法，提出了对形成在基板表面上的聚乙烯基肉桂酸酯、聚酰亚胺、偶氮苯衍生物等感光性薄膜照射偏振或非偏振光的放射线，从而赋予液晶取向能力的光取向法。根据该方法，不会产生静电或灰尘，并且可以实现均勻的液晶取向(参见专利文献3 13)。另一方面，作为和上述不同的液晶显示元件的操作方式，还已知有使具有负介电各向异性的液晶分子在基板上垂直取向方式的VA(垂直取向)型液晶显示元件。在该操作方式中，当在基板间施加电压，从而使液晶分子趋向与基板平行的方向时，需要使液晶分子从基板法线方向向基板面内的一个方向倾斜。作为实现该情况的方法，例如，已经提出了在基板表面上设置突起的方法、在透明电极上设置条纹的方法、通过使用摩擦取向膜，使液晶分子从基板法线方向向基板面内的一个方向稍微倾斜(预倾斜)的方法等。已知前述光取向法还可以有效用作在垂直取向型的液晶显示元件中，控制液晶分子倾斜方向的方法。也就是说，通过使用由光取向法赋予取向控制能力和预倾角表现性的垂直取向性的液晶取向膜，可以均勻地控制施加电压时液晶分子的倾斜方向(参见专利文献11 12和14 16)。然而，在通过光取向法形成适用于TN型、STN型或垂直取向型液晶显示元件的液晶取向膜时，迄今尚未知能够稳定表现出足以适合工业程度的液晶取向控制力的液晶取向剂。特别是在用于垂直取向型的液晶显示元件时，应当表现出与基板面的垂直方向上的液晶取向控制力、构成液晶取向膜的聚合物不得不具有刚直的液晶状结构，因此存在有含有该聚合物的液晶取向剂的涂布性或印刷性受损的问题，并且迄今尚未知兼具有良好的液晶取向性和良好涂布性的垂直取向型液晶取向剂。然而近年来，已经提出了仅在对向配置的一对基板的一侧上形成电极，并在与基板平行的方向上产生电场的横电场方式(IPS方式)的液晶显示元件(参见专利文献17)。 该横电场方式的液晶显示元件是仅在对向配置的一对基板的一侧上形成电极，并在与基板平行的方向上产生电场方式的液晶显示元件，它与在两基板上形成电极，并在与基板垂直的方向上产生电场的以往纵电场方式的液晶显示元件相比，已知其具有广视角特性，并且能够进行高品质的显示。横电场方式的液晶显示元件，由于液晶分子仅在与基板平行的方向上进行电场响应，因此不会产生液晶分子长轴方向的折射率变化的问题，并且即使在改变视角时，观察者视觉确认的对比度和显示颜色的浓淡变化也小，因此无论视角如何，都能够进行高品质的显示。然而，在通过光取向法形成适用于这种横电场方式的液晶显示元件的液晶取向膜时，已经指出液晶分子的取向控制力不足，因此需要改善。现有技术日本特开昭56-91277号公报日本特开平1-1205 号公报日本特开平6487453号公报日本特开平10-251646号公报日本特开平1H815号公报日本特开平11-15M75号公报日本特开2000-144136号公报日本特开2000-319510号公报日本特开2000-281724号公报日本特开平9497313号公报日本特开2003-307736号公报日本特开2004-163646号公报日本特开2002-250924号公报日本特开2004-83810号公报日本特开平9-211468号公报日本特开2003-114437号公报美国专利第5拟8733号说明书日本特开昭63191922号公报日本特开2010-097188号公报“、f ^ - fT ^法”科学”，(株)m承風社发行，1988年， 154-161 页
技术实现思路
本专利技术鉴于上述情况而进行，其目的是提供一种能够形成可以通过光取向法而赋予液晶分子的取向控制力，并且在用于垂直取向型的液晶显示元件时，垂直取向控制力和涂布性的平衡优良，另一方面，在用于TN型、STN型或横电场方式的液晶显示元件时，取向控制力也优良的液晶取向膜的液晶取向剂。本专利技术的另一目的是提供一种液晶取向控制力优良，并且显示品质也优良的液晶显示元件。本专利技术的其它目的和优点，由以下说明获悉。第一，本专利技术的上述目的和优点由一种液晶取向剂达成，其含有具有由下述式 (1’) (3’)各自所表示的结构构成的群组中选出的至少一种结构的放射线敏感性聚合物，权利要求1. 一种液晶取向剂，其特征在于含有放射线敏感性聚合物，该放射线敏感性聚合物具有由下述式(1’) (3’)各自所表示的结构构成的群组中选出的至少一种结构，2.如权利要求1所述的液晶取向剂，其中，上述放射线敏感性聚合物是具有由上述式 (1’) (3’)各自所表示的结构构成的群组中选出的至少一种结构的放射线敏感性聚有机硅氧烷。3.如权利要求2所述的液晶取向剂，其中，上述放射线敏感性聚有机硅氧烷是具有环氧基的聚有机硅氧烷与从由下述式(1) C3)各自所表示的化合物构成的群组中选出的至少一种化合物的反应生成物，4.如权利要求1 3任一项所述的液晶取向剂，其进一步含有由聚酰胺酸和聚酰亚胺构成的群组中选出的至少一种聚合物，其中，该聚合物不含有上述式(1’ ) (3，)各自所表示的结构中的任一种结构。5.如权利要求1 3任一项所述的液晶取向剂，其进一步含有聚有机硅氧烷，其中，该聚有机硅氧烷不含有上述式(1’) (3’)各自所表示的结构中的任一种结构。6.一种液晶取向膜的形成方法，其特征在于经过在基板上涂布权利要求1 5任一项所述的液晶取向剂而形成涂膜，并对该涂膜照射放射线的工序。7.一种液晶显示元件，其特征在于具有由权利要求1 5任一项所述的液晶取向剂所形成的液晶取向膜。8.如权利要求7所述的液晶显示元件，其中上述式(1’) (3’)中的R1为氢原子、氟原子、碳原子数为1 5的烷基或碳原子数为1 5的氟代烷基，并且液晶显示元件为TN 型、STN型或横电场方式的液晶显示元件。9.如权利要求8所述的液晶显示元件，其中液晶显示元件为横电场方式的液晶显示元件。10.如权利要求7所述的液晶显示元件，其中上述式(1’) (3’)中的基团R1为碳原子数为5 30的烷基或碳原子数为5本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种液晶取向剂，其特征在于含有放射线敏感性聚合物，该放射线敏感性聚合物具有由下述式（１’）～（３’）各自所表示的结构构成的群组中选出的至少一种结构，式（１’）～（３’）中，Ｒ１为氢原子、氟原子、碳原子数为１～３０的烷基或碳原子数为１～３０的氟代烷基，或具有类固醇骨架的１价基团，Ｒ２为亚环己基或亚苯基，Ｒ３为亚苯基或下述式（Ｒ３－１）所表示的基团，式（Ｒ３－１）中，Ｘ１为＋－ＣＯＯ－或＋－ＯＣＯ－或氧原子，其中，带有“＋”的连接键与亚苯基连接，ｄ为０或１，当ｄ为０时，ｅ为０～１２的整数，当ｄ为１时，ｅ为１～１２的整数，Ｘ为单键、氧原子、硫原子、亚甲基、碳原子数为２或３的亚烷基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＮＨ－、＊－ＣＯＯ－或＊－ＯＣＯ－，其中，带有“＊”的连接键与Ｒ２连接，Ｚ１和Ｚ２中的一者为羰基，另一者为亚甲基或氧原子，ａ为０～３的整数，ｂ为０或１，ｃ为０～３的整数，其中，当ａ为２或３时，存在的多个Ｒ２和Ｘ各自可以相同，也可以不同。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：安田博幸，永尾隆，坂本昌巳，
申请(专利权)人：JSR株式会社，国立大学法人千叶大学，
类型：发明
国别省市：JP
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