本发明专利技术涉及一种液晶取向剂、液晶取向膜的制造方法和液晶显示元件。本发明专利技术提供了一种在具有精细凹凸的面板上的涂布性乃至印刷性优异，同时通过少量的放射线照射量的光取向法就能赋予良好的液晶取向性(预倾角体现性)，且能赋予烧屏特性优异的液晶取向膜的液晶取向剂。上述液晶取向剂包含具有特定感光性结构的聚有机硅氧烷以及聚合物，该聚合物为从聚酰胺酸和将该聚酰胺酸脱水闭环得到的聚酰亚胺组成的群中选出的至少一种，该聚酰胺酸为将四羧酸二酐与二胺反应得到，该二胺包括：具有碳原子数为4～20的烷基、碳原子数为4～20的烷氧基、连接两个以上6元环结构的基团、或具有类固醇结构的基团的二胺；以及具有羧基的二胺。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶取向剂、液晶取向膜的制造方法和液晶显示元件。
技术介绍
在液晶显示元件中，为了在相对于基板面的规定方向上对液晶分子进行取向，在基板表面设置液晶取向膜。该液晶取向膜通常通过用人造丝等布料在基板表面上形成的有机膜表面上，以一个方向上摩擦的方法(打磨法)形成。这在横电场方式的液晶显示元件中也是同样的。然而，如果通过打磨处理形成液晶取向膜，具有下述问题在打磨工序中容易产生灰尘或静电，因此会在取向膜表面附着灰尘，从而成为显示不佳的原因，除此之外， 在具有TFT(薄膜晶体管)元件的基板的情况下，由于产生的静电，还会有破坏TFT元件的电路而导致产品成品率降低这样的问题。因此，作为在液晶盒中使液晶取向的其他方法，提出了在基板表面上形成的放射线敏感性的有机薄膜中照射偏光或非偏光的放射线，从而赋予液晶取向能力的光取向法(参见专利文献1 6)。通过该光取向法，可以在工序中不产生灰尘或静电，形成均勻的液晶取向。此外，作为液晶显示元件，已知以TN(扭曲向列)型、STN(超扭曲向列)型等为代表的使用具有正介电各向异性的向列型液晶的水平取向模式的液晶显示元件，以及使用具有负介电各向异性的向列型液晶的垂直(Homeotropic)取向模式的VA(垂直取向)型液晶显示元件。在该工作模式中，在基板间施加电压，使液晶分子朝向与基板平行的方向倾斜时，液晶分子必须从基板法线方向朝向一定的方向倾斜。作为此方法，可以采用例如在基板表面设置突起的方法；在透明电极上设置带状条纹的方法、通过使用打磨取向膜，从而使液晶分子倾斜，由基板法线方向朝向基板面内的一个方向(预倾斜)的方法等。上述光取向方法能用作在垂直取向模式的液晶显示元件中，控制液晶分子倾斜方向的方法。即，已知通过使用能通过光取向方法赋予取向控制能力和预倾角体现性的垂直取向性的液晶取向膜， 从而能均勻控制施加电压时的液晶分子倾斜方向(专利文献1、2和4 6)。由此，通过光取向法制备的液晶取向膜，能有效适用于各种液晶显示元件。然而， 为了在有机薄膜中通过光取向法赋予液晶取向能力，必须照射10，000J/m2以上的强放射线，由于构成有机薄膜的分子切断会产生性能恶化的问题，此外，还会引起放射线照射装置的随时间恶化(例如紫外线灯的光照射强度的随时间恶化)，从降低液晶显示元件制造成本的观点来看，存在问题。此外，指出了通过光取向法形成的液晶取向膜即使在形成初始具有预倾角体现性，其有时也会随时间改变，要求进行改善。该点在使用光取向法时，作为通过非常少的放射线照射量就体现良好的液晶取向性能的新液晶取向膜材料，报道了由在分子内导入特定感光性部位的聚酰胺酸或聚酰亚胺构成的材料(专利文献7 9)。在这些文献中记载的液晶取向剂通过500 3，000J/m2左右的放射线照射，就能形成显示出良好液晶取向性的液晶取向膜，是优异的材料。然而，对于近年来液晶显示元件的高精细化和高速响应性，人们的期望越来越大， 为此，需要继续改善基板构成等的硬面上进行改善。因此，在基板面上不可避免地会产生复杂的高度差，且为了在该高度差部分上确保良好的目视确认性，对于液晶取向剂的涂布性或印刷性的要求比目前增加很多。此外，在具有根据光取向法的液晶取向膜的液晶显示元件中，存在残影和烧屏的问题，期望对其进行改善。尤其是由于上述预倾角引起的在画面上产生的亮度差，观察者会认为是烧屏，急需对其进行改善。 如上所述，尚未知晓下述液晶取向剂，并且非常期望提供该液晶取向剂。该液晶取向剂能根据少量的放射线照射量有利地体现光取向法的优点，且能够形成显示出改善了的残影特性和烧屏特性的液晶取向膜。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2003-307736号公报专利文献2 日本特开2004-163646号公报专利文献3 日本特开2002-2509 号公报专利文献4 日本特开2004-83810号公报专利文献5 日本特开平9-211468号公报专利文献6 日本特开2003-114437号公报专利文献7 :W02009/25385A1专利文献8 :W02009/25386A1专利文献9 :W02009/25388A1专利文献10日本特开昭63-291922号公报非专利文献非专利文献 1 :T. J. Scheffer et. al. J. App 1. Phys. vol. 19，p2013 (1980)
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述事情做出的，其目的在于提供一种在具有精细凹凸的面板上的涂布性或印刷性优异，同时通过少量的放射线照射量的光取向法就能赋予良好的液晶取向性(预倾角体现性)，且能赋予烧屏特性优异的液晶取向膜的液晶取向剂。本专利技术的另一目的是提供一种具有由上述液晶取向剂形成的烧屏特性优异的液晶取向膜，长期可靠性优异的液晶显示元件。本专利技术的另一目的和优点可以由以下说明体现。本专利技术的上述目的和优点其一是通过一种液晶取向剂实现，其含有(A)具有下式(Al)表示的结构的聚有机硅氧烷，权利要求1. 一种液晶取向剂，其含有(A)具有下式(Al)表示的结构的聚有机硅氧烷，2.如权利要求1所述的液晶取向剂，其中，上述二胺还包括(bl)二胺，其具有碳原子数为4 20的烷基、碳原子数为4 20的烷氧基、具有连接两个以上6元环结构的基团或具有类固醇结构的基团。3.如权利要求1或2所述的液晶取向剂，其中，上述(A)聚有机硅氧烷是具有环氧基的聚有机硅氧烷与具有上式(Al)表示的结构的羧酸的反应产物。4.如权利要求3所述的液晶取向剂，其中，上述( )二胺是下式(b2-l)表示的化合物，5.如权利要求3所述的液晶取向剂，其中，上述(bl)二胺是包含具有类固醇结构的基团的二胺。6.一种液晶取向膜的形成方法，其特征在于，涂布权利要求1 5任一项所述的液晶取向剂形成涂膜，向该涂膜照射放射线。7.一种液晶显示元件，其特征在于具有由权利要求1 5任一项所述的液晶取向剂形成的液晶取向膜。全文摘要本专利技术涉及一种液晶取向剂、液晶取向膜的制造方法和液晶显示元件。本专利技术提供了一种在具有精细凹凸的面板上的涂布性乃至印刷性优异，同时通过少量的放射线照射量的光取向法就能赋予良好的液晶取向性(预倾角体现性)，且能赋予烧屏特性优异的液晶取向膜的液晶取向剂。上述液晶取向剂包含具有特定感光性结构的聚有机硅氧烷以及聚合物，该聚合物为从聚酰胺酸和将该聚酰胺酸脱水闭环得到的聚酰亚胺组成的群中选出的至少一种，该聚酰胺酸为将四羧酸二酐与二胺反应得到，该二胺包括具有碳原子数为4～20的烷基、碳原子数为4～20的烷氧基、连接两个以上6元环结构的基团、或具有类固醇结构的基团的二胺；以及具有羧基的二胺。文档编号C09K19/56GK102241991SQ20111012860公开日2011年11月16日 申请日期2011年5月13日 优先权日2010年5月14日专利技术者大场佑树, 宫本佳和, 熊谷勉, 秋池利之 申请人:Jsr株式会社本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种液晶取向剂，其含有：（Ａ）具有下式（Ａ１）表示的结构的聚有机硅氧烷，在式（Ａ１）中，Ｒ为氟原子或氰基，ａ为０～４的整数，“＊”表示连接键；以及（Ｂ）从聚酰胺酸和将该聚酰胺酸脱水闭环得到的聚酰亚胺所组成的群中选出的至少一种聚合物，其中该聚酰胺酸是四羧酸二酐与二胺反应得到的，该二胺包括（ｂ２）具有羧基的二胺。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：宫本佳和，大场佑树，熊谷勉，秋池利之，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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