液晶取向剂及其各类应用、聚合物以及聚合物的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种液晶取向剂及其各类应用、聚合物以及聚合物的制造方法。提供可以同时实现广的视角性质和高品质的显示与良好的残影性质和烧屏性质的液晶取向膜，或者提供可以通过光取向法形成液晶取向膜的液晶取向剂，该液晶取向膜用于制造可以稳定地维持偏光状态，在偏光状态不同的邻接区域间的边界的对比度优异的相位差薄膜。上述液晶取向剂包含具有下述式(1)所示的结构的聚合物，(式(1)中，R分别是碳原子数为1～4的烷基、羟基、卤原子或氰基，a分别是0～4的整数，“*”表示连接键)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件、相位差薄膜的形成方法、相位差薄膜、液晶显示元件、聚合物以及聚合物的制造方法。更详细地，特别是涉及适合在通过光取向法形成横电场式液晶显示元件或相位差薄膜使用的液晶取向膜时使用的液晶取向剂。
技术介绍
在液晶显示元件中，为了使液晶分子针对基板面在规定方向取向，在基板表面设置液晶取向膜。该液晶取向膜通常通过尼龙等布材，在一定方向打磨基板表面形成的有机膜表面的方法(打磨法)形成。这在横电场式液晶显示元件中也是同样的。但是，如果通过打磨处理形成液晶取向膜时，打磨工序中容易产生灰尘或静电，具有在取向膜表面粘附灰尘，成为产生显示不好的原因这样的问题，以及在为具有TFT(薄膜晶体管)元件的基板的情形下，还具有由于产生的静电破坏TFT元件的电路、成为产品成品率低下的原因的问题。 因此，作为在液晶盒中使液晶取向的其它手段，提出了对基板表面形成的放射线敏感性有机薄膜照射偏振光或非偏振光的放射线，赋予液晶取向能的光取向法(参照专利文献1 4)。该光取向法在工序中不会产生灰尘或静电，可以形成均勻的液晶取向。此外，照射放射线时，通过使用适当的光掩模，可以只本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种液晶取向剂，其特征在于，包含具有下述式（１）所示的结构的聚合物，式（１）中，Ｒ分别是碳原子数为１～４的烷基、羟基、卤原子或氰基，ａ分别是０～４的整数，“＊”表示连接键。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：安田博幸，永尾隆，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：JP