第一镜样品辐照支架制造技术

本实用新型专利技术属于材料与高温等离子体相互作用及高温等离子体诊断研究领域，具体涉及一种高真空和强磁场环境中第一镜样品辐照支架与辐照方法。目的是方便温度控制和更换不同材料样品，且不破坏装置真空条件。该辐照支架包括两个平行摆放的样品架，在一个样品架的内部置有陶瓷加热片，在陶瓷加热片上方置有温度传感器A和样品A，在样品A上方压有样品压板A；在另一个样品架的内部置有样品B和温度传感器B，在样品B上方压有样品压板B；所述陶瓷加热片、温度传感器A、温度传感器B的电源线与信号线与外部电源和显示器相连。该辐照支架便于同一等离子体放电情况下不同样品条件的实验比较，且避免了220V交流电源对等离子体放电的影响。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于材料与高温等离子体相互作用及高温等离子体诊断研究领域，具体涉及一种高真空和强磁场环境中第一镜样品辐照支架。
技术介绍
在受控核聚变实验研究中，许多物理和实验参数需要利用光学诊断方法如干涉仪来进行测量。为了获得探测信号，必须借助一些光学反射镜将等离子体信号引到测量系统。 这些反射镜称为第一镜。高能量的等离子体将使反射镜遭受溅射腐蚀和杂质沉积，第一镜反射率将大辐下降，最终造成测量系统瘫痪。因此解决第一镜光学性能退化问题成为该行业目前研究的热点之一。理论研究推 测，第一镜腐蚀与沉积与镜子的基底材料、基底温度及防护情况相关。但是具体的关系如何需要实验的验证。聚变装置如托卡马克装置由于结构的复杂性和高真空，高磁场的特点，通常材料样品装入装置后，必须经过半年或更长的时间才能打开真空室取出。期间经历的过程过于复杂，给分析研究带来了困难。另外由于聚变装置真空室内壁较薄，为避免放电中的拉弧， 不容许连接220V的交流电源，用通常的电阻丝为样品材料加热就成为了问题。目前将第一镜材料样品装入真空室主要是人工放入的方法，因而亟需一种满足复杂实验条件的样品支架结构。
技术实现思路
本技术的目的在针对聚本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．???第一镜样品辐照支架，其特征在于：包括两个平行摆放的样品架，在一个样品架的内部置有陶瓷加热片（８），在陶瓷加热片（８）上方置有温度传感器Ａ（７）和样品Ａ（６），所述样品Ａ（６）与陶瓷加热片（８）接触并通过陶瓷加热片（８）加热；在样品Ａ（６）上方压有样品压板Ａ（４）；在另一个样品架的内部置有样品Ｂ（１０）和温度传感器Ｂ（１１），温度传感器Ｂ（１１）用于测量样品Ｂ（１０）的温度，在样品Ｂ（１０）上方压有样品压板Ｂ（５）；所述陶瓷加热片（８）、温度传感器Ａ（７）、温度传感器Ｂ（１１）的电源线与信号线与外部电源和显示器相连。

【技术特征摘要】
1.第一镜样品辐照支架，其特征在于包括两个平行摆放的样品架，在一个样品架的内部置有陶瓷加热片(8)，在陶瓷加热片(8)上方置有温度传感器A(7)和样品A(6)，所述样品A(6)与陶瓷加热片⑶接触并通过陶瓷加热片⑶加热；在样品A(6)上方压有样品压板A(4)；在另一个样品架的内部置有样品B(IO)和温度传感器B(11)，温度传感器B(11) 用于测量样品B(IO)的温度，在样品B(IO)上方压有样品压板B (5)；所述陶瓷加热片(8)、 温度传感器A (7)、温度传感器B (11)的电源线与信号线与...

【专利技术属性】
技术研发人员：周艳，洪文玉，刘泽田，焦一鸣，
申请(专利权)人：核工业西南物理研究院，
类型：实用新型
国别省市：90