一种电容触屏双面电极制作方法技术

本发明专利技术公开了一种电容触屏双面电极制作方法，其中包括下列步骤：1、正面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化；2、反面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护反面ITO；3、蚀刻正面ITO、剥离光刻胶和可剥胶；4、反面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化；5、正面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护正面ITO；6、蚀刻反面ITO，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶、由镀膜线反面镀MOALMO；7反面MOALMO层涂上光刻胶、曝光、显影形成图案；8蚀刻反面MOALMO，形成MOALMO图案或线路、剥离反面光刻胶。本发明专利技术的有益效果在于：步骤（2）、（3）中用可剥胶代替光刻胶，就可以用丝印机丝印可剥胶而把高成本的黄光线空出来生产其他工序或产品，合理地利用了设备，提高产能，降低了成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子元器件中的触摸屏的制作方法，特别涉及。
技术介绍
Apple推出的iPhone提供的友好人机界面，流畅操作性能使电容式触摸屏受到了市场的追捧，各种电容式触摸屏产品纷纷面世。而目随着工艺进步和批量化，它的成本不断下降，开始显现逐步取代电阻式触摸屏的趋势。电容触摸屏可实现多点和准确的触摸感应， 而且结构简单、透光率高，是当前显示触控技术发展的主流方向。触控技术发展的主流方向。电容触摸屏的触摸感应部件一般为多个行电极、列电极相互交错形成的感应矩阵，行电极和列电极设置在一片透明基板的双面上。典型的金属双面电极的制作方法包括(基板进入电极的制作已经镀上了 ΙΤ0)第一步正面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化形成刻胶图案； 第二步反面ITO层涂上光刻胶、烘干固化保护反面ITO ； 第三步，蚀刻正面ΙΤ0，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶； 第四步反面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化形成光刻胶图案； 第五步正面ITO层涂上光刻胶、烘干固化保护正面ITO ；第六步，蚀刻反面ITO，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶、由镀膜线反面镀MOALMO ；第七步反面MOALMO层涂上光刻胶、曝光、显影形成图案；第八步蚀刻反面M0ALM0，形成MOALMO图案或线路、剥离反面光刻胶。在制作工艺方面存在的问题是在基板的正面涂布光刻胶，经光刻、固化后，必须在基板反面涂布光刻胶保护层，才能进行正面刻蚀导电层；然后将正反面的光刻胶去除后，再在反面涂布光刻胶、经过光刻、固化后，仍然需要在正面涂布光刻胶保护层，才能进行反面刻蚀导电层。因此这方法步骤繁杂、效率低下，制作成本较高。中国专利技术专利说明书CN102096535A中公开了一种制作电容触摸屏的方法，其特征在于包括如下步骤1.基板的双面分别镀导电层；2.正面导电层上涂布光刻胶、曝光、 显影、钝化；3.反面导电层上涂布光刻胶、曝光、显影、加热固化；4、两面的透明导电材料同时蚀刻；9、去除两面的光刻胶。本专利技术的优势在于由于正面光刻胶进行的钝化处理分解了正面光刻胶的光敏剂，可以让双面透明导电图案同时蚀刻；这样可以减少生产工序， 可以节约流程时间，减少材料。此专利技术方法生产成本看似降低，但是在实际生产中光刻度极易磨损，一不良品很高，所以实在是得不偿失的。
技术实现思路
本专利技术为了克服以上现有技术存在的缺点提出的，其所解决的技术问题是提供一种在两道工序上用可剥胶代替光刻胶的电容触屏双面电极制作方法。为此，本专利技术提供了，其中包括下列步骤(原片进入黄光线时，两面已经镀上ΙΤ0)第一步正面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化形成刻胶图案； 第二步反面ITO层丝印可剥胶并烘干固化保护反面ITO ； 第三步，蚀刻正面ΙΤ0，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶； 第四步反面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化形成光刻胶图案； 第五步正面ITO层丝印可剥胶并烘干固化保护正面ITO ；第六步，蚀刻反面ITO，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶、由镀膜线反面镀 MOALMO ；第七步反面MOALMO层涂上光刻胶、曝光、显影形成图案；第八步蚀刻反面M0ALM0，形成MOALMO图案或线路、剥离反面光刻胶。所述可削胶是一种单组份丝印保护油墨，固体含量是100%，颜色为蓝色的粘稠状液体，是一种临时涂层，粘稠状液体。用可剥胶代替光刻胶涂保护层，参加反应蚀刻反应，保护ITO不被蚀刻，不会影响电极的线性，投入成本少，可剥胶代替部分光刻胶在价格上有优势，另外这两道工序用可剥胶代替光刻胶就会占用丝印机而把黄光线空出来生产其他工序或产品，提高产能，丝印机投入成本五万元左右，而黄光线投入成本为几百万。本专利技术的有益效果为在第二步和第五步中使用了可剥胶代替了光刻胶涂保护层，优化了生产流线，提高产能，操作简单，降低了成本。附图说明下面结合附图对本技术的具体实施方式作进一步详细的说明。图1为本专利技术的一种流程示意图。具体实施例方式如图1所示，本专利技术提供的一种制作电容触屏的方法，其特征在于包括如下步骤 第一步基板上真空溅射ITO层2、3，ITO的厚度5nm 25nm。基板1可以采用透明的玻璃、PET、有机玻璃材料。在基材正面ITO层上涂上光刻胶，可以用辊轮涂布，也可以用旋转涂布，使光刻胶的厚度可以均勻到10%左右、厚度500 2000nm，然后预固化。预固化可以用隧道炉也可以用热风式烤箱，预固化的目的是为了使_光刻胶部分交联，但必须保证可靠的光敏性。温度条件60°C 100°C，时间120秒 3600秒，形成刻胶图案；第二步反面ITO层丝印可剥胶并烘干固化保护反面ΙΤ0，此可剥胶是一种单组份丝印保护油墨，固体含量是100%，颜色为蓝色的粘稠状液体，是一种临时涂层，粘稠状液体。所述可剥胶的优点为成本大大降低、操作简单、无残留痕迹和污点，所述可剥胶的涂覆一般是采用印刷的方法，涂覆上去的可剥胶具有一定的厚度，以便于后面的步骤中将所述可剥胶剥离。方便剥离，烘干固化在热风循环烘箱中140°C、20 30分钟；第三步，蚀刻正面ΙΤ0，形成ITO图案或线路，用弱酸蚀刻金属。蚀刻时间控制在10分钟内。在十分钟内，弱酸不会蚀刻ΙΤ0。弱酸组成磷酸(50% 80%)，醋酸(5% — 15%)、 剥离光刻胶和可剥胶；第四步反面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化形成光刻胶图案，反面操作基本如正面相似；第五步正面ITO层丝印可剥胶并烘干固化保护正面ITO ；第六步，蚀刻反面ITO，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶、由镀膜线反面镀 MOALMO, MoAlMo金属膜的方块电阻<0. 35欧、3500A，用于外围引线，因此走线长度、宽度对外围电极的阻抗值影响较小，提高了屏的敏感性能；第七步反面MOALMO层涂上光刻胶、曝光、显影形成图案；第八步蚀刻反面M0ALM0，形成MOALMO图案或线路、剥离反面光刻胶。权利要求1.，其中包括下列步骤(1)正面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化形成刻胶图案；(2)反面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护反面ITO；(3)蚀刻正面ΙΤ0，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶；(4)反面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化形成光刻胶图案；(5)正面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护正面ITO；(6)蚀刻反面ΙΤ0，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶、由镀膜线反面镀 MOALMO ；(7)反面MOALMO层涂上光刻胶、曝光、显影形成图案；(8)蚀刻反面M0ALM0，形成MOALMO图案或线路、剥离反面光刻胶。2.根据权利要求1所述的，其特征在于所述可削胶是一种单组份丝印保护油墨，固体含量是100%，颜色为蓝色的粘稠状液体，是一种临时涂层，粘稠状液体。全文摘要本专利技术公开了，其中包括下列步骤1、正面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化；2、反面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护反面ITO；3、蚀刻正面ITO、剥离光刻胶和可剥胶；4、反面ITO层涂上光刻胶、曝光、显影并固化；5、正面ITO层丝印可剥胶、烘干固化保护正面ITO；6、蚀刻反面ITO，形成ITO图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶、由镀膜线反面镀MOALMO；7反面MOALMO层涂上光刻胶、曝光、显影形成图案；8蚀刻反面MOALMO，本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种电容触屏双面电极制作方法，其中包括下列步骤：（１）：正面ＩＴＯ层涂上光刻胶、曝光、显影并固化形成刻胶图案；（２）：反面ＩＴＯ层丝印可剥胶、烘干固化保护反面ＩＴＯ；（３）：蚀刻正面ＩＴＯ，形成ＩＴＯ图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶；（４）：反面ＩＴＯ层涂上光刻胶、曝光、显影并固化形成光刻胶图案；（５）：正面ＩＴＯ层丝印可剥胶、烘干固化保护正面ＩＴＯ；（６）：蚀刻反面ＩＴＯ，形成ＩＴＯ图案或线路、剥离光刻胶和可剥胶、由镀膜线反面镀ＭＯＡＬＭＯ；（７）：反面ＭＯＡＬＭＯ层涂上光刻胶、曝光、显影形成图案；　（８）：蚀刻反面ＭＯＡＬＭＯ，形成ＭＯＡＬＭＯ图案或线路、剥离反面光刻胶。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘明涛，
申请(专利权)人：东莞市润华光电有限公司，
类型：发明
国别省市：44