一种具有冷却系统的紫外线表面处理器技术方案

本实用新型专利技术涉及一种具有冷却系统的紫外线表面处理器，它包括主壳体、主壳体内部形成照射室，主壳体内部上方设有反射板，反射板下方为放电管，放电管下方具有放置需要处理的物品的工作台，主壳体上开设有出气口和进气口，且出气口与进气口之间通过导管串接抽气泵和冷却装置，反射板上开设有若干透气孔，主壳体两侧面具有柔性挡板。由于采用冷却装置，进而使得臭氧可在冷却后再进入照射室，可以降低放电管及照射室内空气的温度，使得放电管的输出量最大化；同时配合主壳体上的出气口、导管及进气口等设置，会使空气循环进入主壳体，从而臭气浓度增加，使处理效果增加，并减少向外排出臭氧的量。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种具有冷却系统的紫外线表面处理器。
技术介绍
一般地，需要提高成品率的半导体器件、液晶显示元件、光学制品的制造中，需要对其表面进行清洗以去除工件表面的污渍及改善其表面的接着性、附着性。传统的技术使用湿法清洗，在工作的表面施以药液使其与工作表面的污渍发生反应，在这样的传统工艺下，在其反应后需要对工作表面的药液残留物进行清洗。在清洗的过程中会产生新的污染。 在此基础上产生了干法光表面的处理技术。近年来由于大功率超高出力低气压UV放电管开发的进展，以及随着微电子等产品的超微细化，在微电子、超精密器件等产品的制造过程中，由短波长紫外线及其产生的臭氧对其产品的表面进行超精密清洗或改善其表面的接着性、附着性的干式光表面处理技术的实用化进展得很快。作为氟里昂的替代技术，光表面清洗技术将逐渐代替湿法的清洗技术。然而，在现有的干法清洗中，依然存在以下问题1、UV 的照度小，不能集中大量的紫外线进行表面清洗；2、臭氧浓度低，无法充分发挥臭氧的超强氧化作用；3、臭氧分布不均，对表面清洗的效果不均勻；4、发热温度高对处理对象产生影响；5、臭氧排出量大，排出后要考虑对周围人员环境产生的不利影响本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种具有冷却系统的紫外线表面处理器，其特征在于：它包括主壳体（１）、主壳体内部形成照射室（１９），主壳体内部上方设有反射板（４），反射板下方为放电管（２），放电管下方具有放置需要处理的物品的工作台（３），主壳体上开设有出气口（１１）和进气口（１３），且出气口与进气口之间通过导管（５）串接抽气泵（１２）和冷却装置（１４），反射板上开设有若干透气孔（４１），主壳体两侧面具有柔性挡板（６）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李青晓，
申请(专利权)人：宁波表面工程研究中心，
类型：实用新型
国别省市：97