本发明专利技术提供一种连续扩散处理装置，能够连续进行被处理件的扩散处理，并且能够防止加热炉因与被处理件的大小无关的因素而大型化。所述连续扩散处理装置包括：输送台(50)，装载多张板状的被处理件；筒状的加热炉(1)，以直线状延伸；输送装置(2)，向加热炉(1)内依次送入输送台(50)，并将在加热炉(1)内输送的输送台(50)依次送出；加热装置(3)，对输送台(50)上装载的被处理件进行加热；供气装置(41)，向加热炉(1)内提供用于扩散处理的气体。输送装置(2)通过推动位于送入部(11)的上游的输送台(50)，将该输送台(50)送入加热炉内(1)的同时，利用该送入的输送台(50)将先送入的输送台(50)向送出部(12)推动，在加热炉(1)内成列输送。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种连续扩散处理装置。
技术介绍
例如，在利用结晶硅的太阳能电池单元制造过程中，需要进行扩散处理，S卩，使由规定元素构成的杂质附着在硅制的被处理件(晶片)的表面，并使该杂质扩散到被处理件的内部。作为进行所述扩散处理的扩散处理装置，例如有批处理式的。该批处理式装置具备加热被处理件的加热炉，该加热炉的大小只是能够容纳装载多个被处理件的托盘。在将被处理件送入该加热炉中后，向该加热炉内提供含有杂质的气体，并提高加热炉内温度，使杂质扩散到被处理件的内部。之后，在加热炉内降温后，将被处理件从加热炉取出。在使用所述批处理式加热炉的情况下，虽然希望能够提高处理质量，但实际上在加热炉内进行扩散处理的时间前后，必须要有将炉内温度提高到规定温度的时间和将炉内温度降低的时间，因此不能连续处理被处理件，从而难以提高生产效率。所以，如专利文献1所公开的连续扩散处理装置包括筒状的加热炉；输送器，排列被处理件并在加热炉内输送被处理件；加热装置，对通过加热炉内的被处理件进行加热； 以及供给装置，向加热炉内提供含有杂质的气体。所述输送器具有陶瓷制的环形链条，该环形链条的去路通过加热炉内。利用该环形链条转动，放置有被处理件的输送台通过加热炉内，对所述被处理件连续地进行扩散处理。专利文献1 日本专利公开公报特开平9498163号。按照专利文献1所记载的装置，虽然所述环形链条的去路通过高温且处于含有杂质的气体氛围下的加热炉内部，但由于所述链条是陶瓷制成的，所以即使在高温下也能够保持化学稳定性，因此可以经久耐用。然而，在加热炉内除设置链条的空间以外，还需要引导该链条的导轨，使得因与被处理件的大小无关的因素而导致加热炉变大。如果加热炉变大，则其内部空间也变宽，因此需要提高所述加热装置的输出，另外，在加热炉的外部周围设置的隔热材料等也会变大，导致装置大型化。
技术实现思路
鉴于上述问题，本专利技术的目的在于提供一种连续扩散处理装置，不仅能够对被处理件连续进行扩散处理，而且能够防止加热炉因与被处理件的大小无关的因素而大型化。本专利技术的连续扩散处理装置包括输送台，装载多张板状的被处理件；筒状的加热炉，从送入所述输送台的送入部到送出所述输送台的送出部以直线状延伸；输送装置，将所述输送台从所述送入部向所述加热炉内依次送入，并将已在所述加热炉内输送的所述输送台从所述送出部依次送出；加热装置，对通过所述加热炉内的所述输送台上装载的所述被处理件进行加热；以及供气装置，向所述加热炉内提供用于扩散处理的气体，所述输送装置具有压力驱动部，所述压力驱动部通过推动位于所述送入部的上游的所述输送台，将所述输送台依次送入所述加热炉内，并且，通过所述送入的输送台将先送入的输送台向所述送出部推动，在所述加热炉内成列地输送。按照本专利技术，通过对向加热炉内依次送入的输送台上装载的被处理件进行加热， 并向加热炉内提供用于扩散处理的气体，能够边输送被处理件边进行扩散处理，使扩散处理能够连续进行。并且，输送装置的压力驱动部通过推动位于送入部上游的输送台，将所述输送台依次送入加热炉内的同时，利用所述送入的输送台将先送入的输送台向送出部推动，在加热炉内成列输送，所以无需将输送装置的驱动部设置在加热炉内，而可以设置在加热炉外。 因此，能够防止加热炉因与被处理件的大小无关的因素而大型化。此外，所述连续扩散处理装置还包括排气结构部，所述排气结构部设置在所述加热炉的底部，并且在所述排气结构部内部具有将所述加热炉内的气体向所述加热炉外导出的排气流路，所述排气结构部沿着所述输送台的输送方向呈直线配置，沿所述输送方向引导由所述输送装置输送的所述输送台。在这种情况下，将加热炉内的气体向外部排出的排气结构部也可以作为将输送台沿输送方向引导的引导装置。此外优选的是，所述连续扩散处理装置还包括多个隔壁构件，所述多个隔壁构件设置在所述加热炉内，将从所述加热炉内的所述送入部到所述送出部之间在输送方向上划分成多个处理区，所述供气装置向被划分成多个的处理区中的特定处理区提供用于进行扩散处理的气体。在这种情况下，加热炉内被隔壁构件划分为多个处理区，因为对特定的处理区提供用于扩散处理的气体，所以能够精确控制所述特定处理区的氛围，从而能够得到高质量的被处理件。此外优选的是，由所述压力驱动部推动的所述输送台的压力冲程与所述输送台的长度尺寸基本相等。在这种情况下，通过一个压力冲程可以一台接一台地将输送台从送入部送入加热炉内。另外，所谓大体相等是指包括输送台的长度在包含余量后的全长与压力冲程相等的情况，所述余量是在进行向加热炉送入输送台的准备作业时，为了将输送台放置在送入部的上游的处理区所必需的余量(空间)。并且优选的是，所述加热炉内在输送方向上被划分成多个处理区，所述输送台在输送方向上的长度尺寸小于进行扩散处理的处理区在输送方向上的长度尺寸。在这种情况下，可以让至少一台输送台整体位于进行扩散处理的处理区。由此， 在所述处理区在同样氛围的条件下，对在同一台输送台上装载的多个被处理件进行扩散处理，能够使所述多张被处理件的质量均一。按照本专利技术，通过连续进行被处理件的扩散处理，能够提高生产率，另外，能够将输送装置设置在加热炉外，从而能够防止加热炉因与被处理件的大小无关的因素而大型化。附图说明图1是连续扩散处理装置的立体图。图2是输送台的立体图。图3是说明加热炉、输送装置以及加热装置的纵向剖视图。图4是输送装置的说明图。图5是输送装置的说明图。图6是连续扩散处理装置的横向剖视图。图7是用于说明加热炉内结构的加热炉的横向剖视图。图8是隔壁构件的立体图。图9是排气装置的说明图。图10是表示加热炉的底部的说明图。图11是输送台的车轮部的说明图。图12是装载在输送台上的间隔件的说明图。附图标记说明1 加热炉；2 输送装置；3 加热装置；5 控制装置；7 隔壁构件；11 送入部；12 送出部；13 覆盖物；14 输送通道；15 贯通孔；17 旁通流路；21 压力驱动部；41 供气装置；42 排气装置；45 排气结构部；46 排气流路；50 输送台；Al 升温处理区；A2 均热处理区；A3 降温处理区；S 冲程；L 输送台的长度；W 被处理件。具体实施例方式以下根据附图对本专利技术的实施方式进行说明。图1是本专利技术的连续扩散处理装置的立体图。所述连续扩散处理装置用于对被处理件进行扩散处理。例如，所述连续扩散处理装置用于在利用结晶硅的太阳能电池单元制造过程中，使由规定元素构成的杂质附着在硅制的晶片(被处理件)表面，并使所述杂质扩散到所述晶片的内部。在图1中省略了对被处理件的记述。连续扩散处理装置包括输送台50，放置多张板状的被处理件；筒状的加热炉1 ； 输送装置2，输送多个输送台50 ；加热装置3，具有将加热炉1内加热的加热器30 ；给排气装置4，向加热炉1内提供气体以及排出所述加热炉1内的气体。另外，连续扩散处理装置具备控制输送装置2等各装置的控制装置5。加热炉1的长边方向(在图1中为左右方向) 与输送台50被输送的方向一致，把该方向称为前后方向。此外，有时也将与输送台50被输送的方向垂直的水平方向称为左右方向。图2是输送台50的立体图。输送台50具备主体部51，以等间隔垂直立起的状态装载多张板状的被处理件W ；车轮部52，安装于主体部51上本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种连续扩散处理装置，其特征在于包括：输送台，装载多张板状的被处理件；筒状的加热炉，从送入所述输送台的送入部到送出所述输送台的送出部以直线状延伸；输送装置，将所述输送台从所述送入部向所述加热炉内依次送入，并将已在所述加热炉内输送的所述输送台从所述送出部依次送出；加热装置，对通过所述加热炉内的所述输送台上装载的所述被处理件进行加热；以及供气装置，向所述加热炉内提供用于扩散处理的气体，所述输送装置具有压力驱动部，所述压力驱动部通过推动位于所述送入部的上游的所述输送台，将所述输送台依次送入所述加热炉内，并且，通过所述送入的输送台将先送入的输送台向所述送出部推动，在所述加热炉内成列地输送。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：森川清彦，笠次克尚，西村圭介，芦田忍，
申请(专利权)人：光洋热系统株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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