降低物品内部有害气体浓度的方法技术

本发明专利技术公开了一种降低物品内部有害气体浓度的方法，将所述物品放置在存储柜内，所述物品的表面设有扩散其内部有害气体的孔，所述方法包括：对所述密闭的存储柜内空间充入第一气体，使该存储柜内空间气压从第一压力值提高至第二压力值，再排出所述存储柜内空间的气体，所述第二压力值P2高于第一压力值。进一步地，所述存储柜具有一个或多个进气口和出气口；对所述存储柜内空间充入第一气体之前，密封所述包含物品的存储柜的出气口。使用本发明专利技术的方法能够有效地降低存储柜中储存的物品内部的有害气体浓度，有效地提高了物品的使用寿命和存放周期。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种降低有害气体的方法，特别是涉及一种降低物品内部空间的有害 气体浓度的方法。
技术介绍
目前在电子、医学和化工行业中通常使用专用的存储柜储存具有有害气体的物品 或设备，并在该存储柜内通入惰性气体降低该物品或设备内部的有害气体，使得该些物品 或设备被更好的使用以及延长使用周期。现有的降低有害气体浓度的方法是在储存有物 品的存储柜内直接通入惰性气体，使被保护的物品处于惰性气体环境之中，通过惰性气体 的流通带走部分扩散在该存储柜中的有害气体，以减少或降低存储柜内物品的有害气体浓 度，达到保护该物品的目的，延长其后续使用寿命。然而，对于某些具有特殊结构的物品，例 如由于其特殊结构而在物品内部形成了内部空间，且该内部空间的表面上仅具有小孔将内 部空间与外界连接以进行气体交换的情况来说，惰性气体只能通过小孔缓慢扩散进入该内 部空间中，该扩散过程需要较长的时间，无法快速有效地降低物品内部空间的有害气体浓 度，不利于这些物品的保存和后续使用。下面以典型的半导体光掩膜板的存储作为示例来具体进行说明。如图1所示，图1 示出了现有技术中的存储柜储存光掩膜板104的截面示意图。图1中的存储柜101包括进 气口 102、出气口 103、密闭门和控制系统，以及储存于该存储柜101内部的光掩膜板104。 该光掩膜板104由于其特殊结构而在内部形成一空间，在制作半导体器件的工艺过程中的 使用光掩膜板可能会在其内部空间中附着有氨气、水蒸气、硫酸根及含硫酸根化合物等有 害气体。因此，在储存光掩膜板的同时需要降低其内部空间的有害气体浓度。通常在光掩 膜板的上表面设有扩散该光掩膜板内部有害气体的孔105，进而使流动气体扩散进入所述 孔105内以降低光掩膜板内部的有害气体浓度，具体步骤包括检查该存储柜的进气口 102 和出气口 103，使其均处于打开状态；再将光掩膜板104放置在存储柜101中；接着在存储 柜101中通入氮气(如图中箭头所示方向流动)。持续通入氮气一段时间后检测该光掩膜 板104内部的有害气体浓度，若该光掩膜板104内部的有害气体浓度较高，则重复上述步 骤，直到有害气体浓度降低到所要求的标准为止。鉴于光掩膜板104在后续的处理中会反复多次使用，因此如何降低该光掩膜板 104内部残留的有害气体浓度成为存储和使用该光掩膜板的关键。现有的光掩膜板104的 表面设有孔径较小的孔105，该孔105用于扩散光掩膜板104内部的有害气体，业界通常 采用上述步骤降低该光掩膜板104内部的有害气体浓度。在实际应用中，采用氮气循环的 方式使光掩膜板处于循环流动的氮气环境中，进而使氮气扩散进入光掩膜板104表面的孔 105以用来驱赶有害气体从而降低光掩膜板内部的有害气体浓度的方法。然而，由于这些孔 105的孔径非常小，常需要花费较长的时间来排出有害气体，不仅不能快速有效降低光掩膜 板内部有害气体浓度的目的，还导致在该存储的过程中，消耗较多的氮气，浪费成本，不利 于光掩膜板的保存和后续使用，最终导致该光掩膜板在后期的使用中的寿命周期变短。由上所述，如何使有效地降低存储柜中的物品内部的有害气体，延长该物品的使 用寿命，并可以节省成本成为当前需要解决的技术问题。
技术实现思路
在
技术实现思路
部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进 一步详细说明。本专利技术的
技术实现思路
部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的 关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。为解决上述问题，本专利技术提供一种，将所述物 品放置在存储柜内，所述物品的表面设有扩散其内部有害气体的孔，所述方法包括对所述密闭的存储柜内空间充入第一气体，使该存储柜内空间的气压从第一压力 值提高至第二压力值，再排出所述存储柜内空间的气体，所述第二压力值高于第一压力值。进一步地，所述存储柜具有一个或多个进气口和出气口 ；对所述存储柜内空间充入第一气体之前，密封所述包含物品的存储柜的出气口。 通过所述存储柜的进气口充入所述第一气体，以及检测所述存储柜内空间的压力值；当所述压力值达到第二压力值时，不再对所述存储柜内空间充入该第一气体，关 闭所述进气口。进一步地，所述存储柜上设有关闭或打开所述进气口的第一阀门、和关闭或打开 所述出气口的第二阀门，该第一阀门和第二阀门分别连接于自动控制系统；所述自动控制系统通过第一阀门自动关闭或打开所述进气口，以及控制所述第二 阀门关闭或打开所述出气口。进一步地，所述有害气体和第一气体彼此不发生化学反应。进一步地，所述物品为光掩膜板。进一步地，所述有害气体选自氨气、硫酸根、含硫酸根化合物的气体或水蒸汽。进一步地，所述第一气体选自惰性气体，优选地为氮气。本专利技术提供的一种降低有害气体浓度的方法，能够有效地降低存储柜中储存的物 品内部的有害气体浓度，且该方法不限于使用在电子工业中。另外，本专利技术的方法应用于降 低光掩膜板内部的有害气体浓度方面，有效地提高了光掩膜板的使用寿命和存放周期，并 且在降低光掩膜板内部有害气体浓度的同时节省了氮气的使用量，缩短了降低光掩膜板的 储存时间，提高了光掩膜板在后续使用中的利用率。附图说明本专利技术的下列附图在此作为本专利技术的一部分用于理解本专利技术。附图中示出了本发 明的实施例及其描述，用来解释本专利技术的原理。在附图中，图1为现有技术中的存储柜储存光掩膜板的截面示意图；图2A为使用本专利技术的方法提高存储柜内空间的压力值截面示意图；图2B为将图2A中的充入氮气的存储柜降低压力值的截面示意图；图3为采用本专利技术所述方法降低光掩膜板内部的有害气体浓度的步骤流程图。具体实施例方式在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本专利技术更为彻底的理解。然而， 对于本领域技术人员来说显而易见的是，本专利技术可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在 其他的例子中，为了避免与本专利技术发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。本专利技术提供一种降低物品内部空间有害气体浓度的方法，该方法主要是通过改变 储存物品的存储柜内空间通入的惰性气体压力值，从而可以快速有效地将光掩膜板内部的 有害气体排出。该方法可以将惰性气体和物品(例如，光掩膜板)内部的有害气体一并排 出，进而可以达到降低光掩膜板内部的有害气体浓度的目的，以及能够延长光掩膜板的后 续使用寿命。参照图2A和图2B所示，图2A示出了本专利技术中的一种使用本专利技术的方法提高存储 柜内空间的压力值截面示意图，图2B为将图2A中的充入氮气的存储柜降低压力值的截面 示意图。具体地，存储柜201外部设置有出气口 203和进气口 202，在出气口 203和进气口 202的管道上分别设有检测气体流量的流量控制器(图中未示出)，该流量控制器为自动 控制装置，可以检测气体流量的同时显示存储柜201内空间的压力值。所述存储柜201还 包含有密封门，该存储柜的内空间设有存放各种物品的物品架，在该存储柜内空间中可以 存放多个不同类型的物品。优选地，该存储柜上可以设有一个或多个进气口和出气口，且该 进气口和出气口均连接于自动控制系统，该自动控制系统分别控制进气口 202的第一阀门 208和出气口 203的第二阀门207的打开与关闭。本实施例中以存储柜201内空间储存光掩膜板204为例进行说明。在制备和使用 光本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种降低物品内部有害气体浓度的方法，其特征在于，将所述物品放置在存储柜内，所述物品的表面设有扩散其内部有害气体的孔，所述方法包括：对所述密闭的存储柜内空间充入第一气体，使该存储柜内空间的气压从第一压力值提高至第二压力值，再排出所述存储柜内空间的气体，所述第二压力值高于第一压力值。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邓若岩，金普楠，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31