导电膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了导电膜(100)，其具有透明支持体(102)、设置在透明支持体(102)的一个主表面上的第一导电银图像(104a)和设置在透明支持体(102)的另一主表面上的第二导电银图像(104b)。通过以下步骤得到第一导电银图像和第二导电银图像(104a、104b)：在透明支持体(102)的各表面上形成至少一层卤化银乳剂层，然后将所述卤化银乳剂层曝光并显影。第一银图像(104a)和第二银图像(104b)各在需要透明的区域含有网状结构。所述网状结构包含线宽为10μm或更小的细线，并形成薄片电阻为50ohm/sq或更小的导电层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在透明支持体的各面上具有高分辨率图案的银图像的导电膜、以及通过使用卤化银乳剂层制备该导电膜的方法。
技术介绍
例如，在日本特开2008-158108和2008-216799中描述了在支持体的各面上形成导电图案的常规方法。在日本特开2008-158108中，一种感光材料具有在透明支持体的两个面(A面和B 面)的各面上的卤化银乳剂层。在不同的光谱增感范围中对所述A和B面光谱增感。在上述该专利文献的实施例中所使用的样品101中，在A面上形成的图像具有18μπι的线宽，并且在B面上形成的图像具有20 μ m的线宽。在日本特开2008-216799中，通过使用光掩模的曝光处理在透明支持体的各面上形成图像，所述光掩模各具有滤光层，所述滤光层能够透过具有对应支持体各面的光谱敏感度的波长的光。在透明支持体的各面上形成细线图案的情况中，当支持体的一侧(一面)曝光时， 入射光在透明支持体中散射，由此不利地使透明支持体各背侧上的图像模糊。通过向其中加入增感性染料可形成具有光谱敏感性的卤化银乳剂层。但是，即使在显影后，染料仍剩余在所述层中，使得所述染料使显影层的导电性变差，不能得到所期待的导电性。此外，在导电膜具有如日本特开2008-158108和2008-216799中所述的具有大线宽的导电图案的情况中，当将导电膜叠加在液晶显示装置的显示平板的触摸板上时，将不利地易于产生云纹(moire)。
技术实现思路
鉴于以上问题，本专利技术的目的是提供，所述导电膜能够在透明支持体的各表面上形成高分辨率的导电图案，其改进了所述导电图案的导电性，并避免在触摸平板上产生云纹。根据本专利技术的第一方面所述的导电膜，其包含透明支持体、设置在所述透明支持体的一个主表面上的第一导电银图像和设置在所述透明支持体的另一主表面上的第二导电银图像，通过以下步骤得到第一导电银图像和第二导电银图像在所述透明支持体的各表面上形成至少一层商化银乳剂层，然后将所述商化银乳剂层曝光并显影，其中第一银图像和第二银图像在需要透明的区域各含有网状结构，所述网状结构包括线宽为10 μ m或更小的细线，并且所述网状结构形成薄片电阻为50ohm/Sq或更小的导电层。根据第一方面所述的导电膜，其中所述导电层的薄片电阻为lOohm/sq或更 根据第一方面所述的导电膜，其中所述第一银图像和第二银图像各含有所述网状结构和电连接至所述网状结构的银线，并且所述银线的宽度为10-500 μ m，长度为 IOmm或更大，电阻为300ohm/10mm或更小。根据第一方面所述的导电膜，其中所述银线的电阻为lOOohm/lOmm或更小。根据第一方面所述的导电膜，其中所述卤化银乳剂层的银/粘合剂的体积比为1/1或更大。根据第一方面所述的导电膜，其中所述卤化银乳剂层的银/粘合剂的体积比为2/1或更大。根据第一方面所述的导电膜，其中所述卤化银乳剂层基本上未被实施光谱增感，并且其表面电阻值(IogSR)为15或更小，并且其涂覆的银量为5-30g/m2。根据第一方面所述的导电膜，其中所述卤化银乳剂层的涂覆的银量为 15-30g/m2。根据第一方面所述的导电膜，其中所述卤化银乳剂层含有卤化银颗粒，并且所述卤化银颗粒的表面包覆有光谱增感性染料，其包覆率为20 %或更小。根据第一方面所述的导电膜，其中卤化银乳剂层的表面电阻值(IogSR)为13 或更小。根据第一方面所述的导电膜，其中所述网状结构包含具有多个多边形的格子图案，所述格子图案的排布间距为300 μ m或更小，并且总透光率为80%或更大，并且在所述透明支持体的一个主表面上的有效区域(排除未设有第一银图像的外围的有效区域)的开口率(opening ratio)和在所述透明支持体的另一个主表面上的有效区域(排除未设有第二银图像的外围的有效区域)的开口率之间的差值为或更小。根据第一方面所述的导电膜，其中所述第一银图像和第二银图像各具有形成用于触摸板的电极的部分。根据本专利技术的第二方面所述的方法，其用于制备具有透明支持体、设置在所述透明支持体的一个主表面上的第一导电银图像和设置在所述透明支持体的另一个主表面上第二导电银图像的导电膜，所述方法包括以下步骤在所述透明支持体的各表面上形成至少一层卤化银乳剂层，将所述卤化银乳剂层曝光，并将曝光后的卤化银乳剂层显影，其中所述第一银图像和第二银图像在需要透明的区域中各含有网状结构，所述网状结构包括线宽为ΙΟμπι或更小的细线，并且所述网状结构形成薄片电阻为50ohm/Sq或更小的导电层，并且在各表面上的所述卤化银乳剂层基本上未被实施光谱增感，并且所述卤化银乳剂层的厚度为4 μ m或更小，涂覆的银量为5g/m2或更大，并且涂覆的粘合剂量为2. Og/m2或更根据第二方面所述的方法，其中所述卤化银乳剂层的涂覆的银量为15_30g/m2 ο根据第二方面所述的方法，其中所述导电层的薄片电阻为lOohm/sq或更小。根据第二方面所述的方法，其中所述第一银图像和第二银图像各含有所述网状结构和电连接至所述网状结构的银线，并且所述银线的宽度为10-500μπι，长度为IOmm 或更大，电阻为300ohm/10mm或更小。根据第二方面所述的方法，其中所述银线的电阻为lOOohm/lOmm或更小。根据第二方面所述的方法，其中所述卤化银乳剂层含有卤化银颗粒，并且所述卤化银颗粒的表面包覆有光谱增感性染料，其包覆率为20 %或更小。根据第二方面所述的方法，其中使用与所述卤化银乳剂层紧密接触的曝光掩膜进行所述曝光步骤。根据第二方面所述的方法，其中所述卤化银乳剂层具有高反差的照相特性 (high contrast photographic property)。根据第二方面所述的方法，其中形成所述卤化银乳剂层作为基本上的最上层。如上所述，在本专利技术所述的导电膜和制备所述导电膜的方法中，在所述透明支持体的各表面上可形成高分辨率的导电图案，可改进所述导电图案的导电性，并且在触摸板中可避免产生云纹。本专利技术的导电膜特别适用于电容式触摸板。此外，在将含有由细线构成的网状结构的透光性导电层用于触摸板传感器的情况中，所述传感器和从所述传感器中延伸向控制IC电路的部分配线可从所述卤化银乳剂层 (所述导电层的前体)同时形成。由此，可易于制备触摸板组合模块。结合以下说明和随附的附图，可以更清楚地理解本专利技术的以上和其它目的、特征和优点，在所述附图中通过示例性实施例显示了本专利技术的优选实施方案。附图说明图1是局部显示本专利技术的实施方案中所述的导电膜的截面图；图2是本专利技术的实施方案中所述的所述导电膜制备方法的流程图；图3A是局部显示所制备的感光材料的截面图。图;3B是显示所述感光材料的两面同时曝光的示意图。图3C是局部显示制备的导电膜的截面图，所述导电膜通过将曝光后的感光材料显影而制备；图4是显示第一和第二曝光处理的示意图，进行第一和第二曝光处理使得在第一感光层的入射光达不到第二感光层，并且在所述第二感光层上的入射光达不到所述第二感光层；图5是显示第一感光层上的入射光到达第二感光层，并且第二感光层上的入射光到达第一感光层的情况中所述光的效果的示意图；图6是显示在第一感光层上的入射光到达第二感光层，并且第二感光层的入射光到达第一感光层的情况中的导电图案变差的示意图；图7是局部显示本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．导电膜，其包含透明支持体（１０２）、设置在透明支持体（１０２）的一个主表面上的第一导电银图像（１０４ａ）和设置在透明支持体（１０２）的另一主表面上的第二导电银图像（１０４ｂ），通过以下步骤得到所述第一导电银图像和第二导电银图像（１０４ａ、１０４ｂ）：在透明支持体（１０２）的各表面上形成至少一层卤化银乳剂层，然后将所述卤化银乳剂层曝光并显影，其中第一银图像（１０４ａ）和第二银图像（１０４ｂ）各在需要透明的区域中含有网状结构，所述网状结构包含线宽为１０μｍ或更小的细线，并且所述网状结构形成薄片电阻为５０ｏｈｍ／ｓｑ或更小的导电层。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：一木晃，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP