【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学元件面形偏差测试系统，尤其是指一种能够测试双折射晶体加工而成的光学元件的面形偏差的测试系统。本专利技术广泛适用于要求测试双折射晶体光学元件面形偏差的各个领域，尤其是适用于大型企业对批量双折射晶体加工而成的光学元件的面形偏差的测试，成本低，速度快。
技术介绍
目前，通信、仪器、测试等领域中越来越多的产品内部都包含有光学元件，特别是使用双折射晶体加工的光学元件，而光学元件的表面加工质量尤其是光学元件的面形偏差不仅直接影响光学元件的使用性能，而且对产品的质量、可靠性及寿命也至关重要。现在较为成熟的用于测试光学元件面形偏差的光学测量方法主要有差频法、扫描法、干涉法、衍射法等，这些方法的测试分辨率及测量精度非常高，但是也存在明显的不足， 如系统比较敏感不容易调试、对环境要求较高、测量范围相对较小等。
技术实现思路
为了快速方便的测试双折射晶体加工而成的光学元件的面形偏差，本专利技术提供了一种能够测试双折射晶体加工而成的光学元件的面形偏差的测试系统，该测试系统成本较低、测试方法简单、测试速度较快，适用于大型企业对批量双折射晶体加工而成的光学元件的面形偏差的...
【技术保护点】
１．双折射晶体光学元件面形偏差测试系统，其特征在于：包括氦氖激光器、柱透镜、待测光学元件的夹具以及相隔一定距离的两个接收屏，其中所述的柱透镜能够将氦氖激光器出射的点光源转化为平行于水平面的单波长线光源，用于光学元件面形偏差的测试。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：高尚武，刘宏欣，邹建兵，刘华，袁海骥，
申请(专利权)人：科纳技术苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：32
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