一种双折射晶体位移补偿机理及光器件制造技术
【技术实现步骤摘要】
一种双折射晶体位移补偿机理及光器件
本专利技术涉及一种光学设计方法，以及光通讯及工业用光隔离器的设计和应用领域；更具体地涉及偏振相关光学设计中横向走离补偿机制，以及光隔离器的位移优化设计和结构简化方法。
技术介绍
光学设计中经常会遇到光轴横向走离的设计需要，以达到减小设计空间尺寸，或满足特定空间装配需求。通常想获得所需的横向走离量，只能通过改变入射角度或光学元件尺寸的方法实现，如：为了增大横向走离量，就需要增大入射角度或元件厚度；为了减小横向走离量，就需要减小入射角或元件厚度。但是由于实际应用中的种种结构限制或成本的考虑，通常无法随意调整入射角度或元件厚度。光隔离器在光通讯及工业激光应用领域广泛应用，是一种单向传输光的光无源器件，用于允许正向传输光正常通过此产品，并耦合到输出光波导中，同时阻止反向传输光耦合到输入光波导中，避免造成光学系统（尤其是激光器）工作不稳定。目前实际应用中包含在线型（偏振不相关）和自由空间型（偏振相关）两类，在激光器封装中主要使用自由空间型（偏振相关）。目前大量商用的自由空间隔离器采用两片偏振片和一片45°法拉第旋光器组成，45°法拉第放在...
【技术保护点】
一种双折射晶体位移补偿机理，其特征在于：应用双折射晶体中e光相对于o光的横向走离现象，进行偏振相关光学设计中位移补偿。
【技术特征摘要】
1.一种使用双折射晶体位移补偿方法的两片式晶体隔离器，该方法应用双折射晶体中e光相对于o光的横向走离现象，进行偏振相关光学设计中位移补偿；该方法还包括降低光束横向走离量和增大横向走离量的应用，在不改变入射角度和元件厚度的情况下，实现改变出射光横向走离量；在光路中使用双折射晶体作为光路的横向走离元件，并使入射偏振光在双折射晶体中以e光模式传播，在不改变入射角度和元件厚度的情况下，通过在-90°到+90°之间改变光轴和入射表面法线的夹角θ，能够增大或减小e光和o光之间的相对分开角度α，进而改变在出射端的横向走离量；该方法用于平行玻璃板结构或楔型或透镜类光学零件，以在器件内部实现不同的横向走离量；以e光模式传输的晶体处在光路中的任意位置，此晶体构成全部光路或部分光路；所...
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