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本发明公开了一种双折射晶体位移补偿机理及光器件，所述光学设计方法包括双折射晶体光轴和入射表面夹角的调整，通过调整此角度，可以在不改变入射角度和元件厚度的情况下，实现光学设计所需的横向走离量的目的，即降低或增大的光束横向走离量。所述隔离器包括...
该专利属于陈国强所有，仅供学习研究参考，未经过陈国强授权不得商用。

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