一种用于光刻设备的对准探测装置制造方法及图纸

一种用于光刻设备的对准探测装置，包括在其下表面上形成有用于掩模对准的透射型标记的晶片台基准板；中心与相应的透射型标记的中心对齐的光子转换晶体，用于将紫外光转换为可见光；用于安装光子转换晶体的光学支架；用于对光进行传播隔离以及隔离外界热源的隔离板；安装于隔离板上的用于滤除可见光波段外的无用光的光学滤波片；与光学滤波片直接相连的光纤。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻领域，尤其涉及用于光刻设备的对准探测装置。
技术介绍
在工业装置中，由于高精度和高产能的需要，分布着大量精密光电测量、高速实时信号采样、数据采集、数据交换和通信传输等的测量系统和控制系统。这些系统需要我们采用多种方式实现传感器信号采样控制、数据采集控制、数据交换控制和数据传输通信等的控制。有该测量和控制需求的装置包括集成电路制造光刻装置、液晶面板光刻装置、MEMS/ MOEMS光刻装置、先进封装光刻装置、印刷电路板光刻装置、印刷电路板加工装置以及印刷电路板器件贴装装置等。在光刻装置中，通过光刻装置中的对准系统使用对准标记组合进行对准扫描得到各对准标记分支的光信息和位置信息等对准信息，对这些信息进行相应处理，得到掩模对准标记组合和工件台基准板上对准标记组合间的位置关系，对准该光刻装置的对准系统包括辐射发生器、掩模图形照射窗口及其控制板、掩模及其掩模对准标记组合、掩模台、掩模台位置探测器、投影系统、工件台及其基准板对准标记组合、工件台位置探测器和辐射探测传感器；其中掩模图形包括曝光掩模图形和对准掩模图形，掩模图形照射窗口及其控制板用于形成窗口将辐射透射到对准掩模图形本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于光刻设备的对准探测装置，包括：晶片台基准板，具有至少一个用于掩模对准的透射型标记，所述标记被形成于晶片台基准板的下表面；光子转换晶体，用于将紫外光转换为可见光，其数量与透射型标记的数量相同，每个光子转换晶体的中心与相应的透射型标记的中心对齐；光学支架，其上具有用于安装光子转换晶体的通孔和定位暗销的孔，通孔的数量与光子转换晶体的数量相同；隔离板，用于对透过光学支架的单元光进行传播隔离，其上具有与光学支架上通孔数量相同数量的通孔；光学滤波片，用于滤除可见光波段外的无用光，每个都分别被安装于隔离板上的相应通孔中；光纤，每个都与相应的光学滤波片直接相连。

【技术特征摘要】
1.一种用于光刻设备的对准探测装置，包括晶片台基准板，具有至少一个用于掩模对准的透射型标记，所述标记被形成于晶片台基准板的下表面；光子转换晶体，用于将紫外光转换为可见光，其数量与透射型标记的数量相同，每个光子转换晶体的中心与相应的透射型标记的中心对齐；光学支架，其上具有用于安装光子转换晶体的通孔和定位暗销的孔，通孔的数量与光子转换晶体的数量相同；隔离板，用于对透过光学支架的单元光进行传播隔离，其上具有与光学支架上通孔数量相同数量的通孔；光学滤波片，用于滤除可见光波段外的无用光，每个都分别被安装于隔离板上的相应通孔中；光纤，每个都与相应的光学滤波片直接相连。2.根据权利要求1所述的对准探测装置，其中，每个光纤与光学滤波片相连的端面包含用于聚焦光斑的透镜。3.根据权利要求1所述的对准探测装置，其中，晶片台基准板的上表面具有反射型标记，用于晶片台对准。4.根据权利要求3所述的对准探测装置，其中，晶片台基准板为一带铬层的石英板...

【专利技术属性】
技术研发人员：戈亚萍，杜聚有，徐荣伟，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，上海微高精密机械工程有限公司，
类型：发明
国别省市：31