触控面板及其制造方法技术

本发明专利技术涉及一种触控面板及其制造方法。本发明专利技术所揭示的形成触控面板的方法包含：通过化学方法强化玻璃衬底，其中所述玻璃衬底包含碱金属氧化物；在所述玻璃衬底下方形成铟锡氧化物层；及在所述铟锡氧化物层上形成感测电路、驱动电路及其之间的互连电路。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种触控面板，特定来说涉及一种电容式触控面板。
技术介绍
图IA显示传统电容式触控面板100，除液晶、彩色滤光片以外，触控电路还需要有额外至少一玻璃衬底101，在所述玻璃衬底两侧具有作为感测单元及驱动单元的铟锡氧化物102、103，其中上层铟锡氧化物102与下层铟锡氧化物103呈垂直布置，而玻璃衬底101 与面板104之间布置有UV膜光学胶105，再利用真空方式将玻璃衬底101与面板104贴合。 图IB是显示此传统电容式触控面板的截面图。由于电子装置轻薄短小的需求，许多掌上型电子装置为了方便携带，进一步要求整体厚度更为轻薄。而在传统的触控面板中，面板与触控电路的衬底各自独立，从而增加了电子装置的整体厚度。此外，由于触控面板表面需要承受来自面板外部的压触，因此如果将触控电路直接形成于前述面板104上，那么来自外部压触的应力可能造成电路的电性影响，而面板104 经多次压触的应力施加，可能会使面板产生裂痕，甚至造成内部电路的损坏。因此，急需一种能够集成元件衬底的结构与工艺，并提高触控面板强度。
技术实现思路
为有效减少电子装置的衬底数目，本专利技术将触控面板的触控电路集成到面板上并提高触控面板强度，以减少需要贴合的衬底数目，借此可减少衬底贴合所造成的问题并有效减小触控面板整体厚度。本专利技术的实施例揭示一种形成触控面板的方法，其包含通过化学方法强化玻璃衬底，其中所述玻璃衬底包含碱金属氧化物；所述玻璃衬底下方形成铟锡氧化物层；及在所述铟锡氧化物层上形成感测电路、驱动电路及其之间的互连电路。本专利技术的另一实施例揭示一种触控面板，其包含经化学方法强化的玻璃衬底，所述玻璃衬底包含60 丨％到80wt%的氧化硅、1 丨％到15wt%的氧化铝及0. Iwt %到15wt% 的碱金属氧化物(M2O)；及铟锡氧化物层，其形成于所述玻璃衬底下方，所述铟锡氧化物层上形成有感测电路、驱动电路及其之间的互连电路。附图说明图IA显示传统电容式触控面板；图IB显示传统电容式触控面板的截面图；图2显示本专利技术的形成触控面板的方法的实施例；及图3显示四点弯曲测试方法。具体实施方式图2揭示本专利技术所揭示的一种形成触控面板的方法及流程图。首先提供玻璃衬底，所述玻璃衬底包含碱金属氧化物(M2O)，利用化学方法对玻璃衬底进行强化处理，经过化学方法强化处理的玻璃衬底将在衬底的上下表面上形成压应力。在玻璃衬底的下方形成铟锡氧化物层，并使所形成的铟锡氧化物层与上述经化学方法强化处理的玻璃表面应力大约一致，从而形成为压应力的铟锡氧化物层，以维持经强化处理的玻璃表面。接着在铟锡氧化物层上形成触控面板的感测电路、驱动电路及其之间的互连电路。在优选实施例中，所提供的玻璃衬底具有重量百分比为60%到80%的氧化硅、 到15wt%的氧化铝及0. 到15wt%的碱金属氧化物。在另一优选实施例中，玻璃衬底进一步另包含下列各项中的至少一者氧化钙、氧化镁、氧化铁、氧化硼及氧化硫以及其类似物，其中玻璃衬底中的氧化钙含量最多可达13wt %，氧化镁最多可达13wt %，而氧化铁、氧化硼及氧化硫分别最多可达lwt%。在优选实施例中，其中玻璃衬底中的碱金属氧化物是氧化锂(Li2O)、氧化纳 (Na2O)。在另一优选实施例中，将玻璃衬底浸入高温的亚硝酸或硝酸溶液中，利用亚硝酸或硝酸溶液与玻璃衬底发生化学反应来进行对玻璃衬底的强化处理。溶液中的钾离子进入玻璃衬底中，将玻璃衬底中的碱金属离子置换出来。例如，玻璃衬底中具有氧化锂及/或氧化纳，钾离子与锂离子及/或钠离子交换，与锂离子及钠离子相比，由于钾离子的离子半径较大，因此其进入玻璃衬底中，将玻璃衬底表面的氧化锂及/或氧化纳置换为氧化钾，从而将形成玻璃衬底表面的压应力。在实施例中，在玻璃衬底经上述化学方法强化处理之后，利用四点弯曲测试 (4point-bending test)，可知玻璃衬底表面压应力为大于8GPa，在优选实施例中，玻璃衬底表面为约9GPa。四点弯曲测试方法如图3所示，对玻璃衬底301进行化学方法强化处理，将其放置于两个支撑杠302上，并对其进行调整以使支撑杠与玻璃衬底301边缘的距离dl为约9mm。 将两个负载杠303放置于玻璃衬底301上方，并使两个负载杠303的间距d3为约32mm。而玻璃衬底左右两边的负载杠303与支撑杠302的间距d2为约16mm。在两个负载杠303处以速度Vb (其中速度Vb为lOmm/min)对玻璃衬底301逐渐施加应力冊，10%积累破坏，并以韦伯(Weibull)分析得知玻璃表面应力。测试所用的玻璃衬底的厚度为0.55mm。在优选实施例中，形成触控面板上的感测电路、驱动电路及其之间的互连电路进一步包含利用激光刻印的方式图案化玻璃衬底下方形成的铟锡氧化物层。在优选实施例中，图案化铟锡氧化物层的激光刻印过程所利用的激光条件是辐射波长为355nm的Q切换连续波激光的紫外光辐射，线性扫描速度为约lOOOmm/sec，能量小于 31在另一优选实施例中，图案化铟锡氧化物层的激光刻印过程所利用的激光条件是辐射波长为532nm的脉冲紫外光辐射，线性扫描速度为约120mm/sec，能量小于120mW。在又一优选实施例中，图案化铟锡氧化物层的激光刻印过程所利用的激光条件是红外线辐射，波长为约1064nm，频率为20kHZ，线性扫描速度为约100mm/sec到500mm/sec， 能量为约IOOmW到800mW。在优选实施例中，玻璃衬底本身对图案化铟锡氧化物层所使用的辐射光的吸收率为约15%。在另一优选实施例中，形成于玻璃衬底上的铟锡氧化物层对辐射光的吸收率为约8%到约10%。以厚度为0. 55mm的玻璃衬底为例，控制辐射条件，使得辐射照射区域局部温度提高在2. 4K以内，从而不会破坏玻璃衬底在经强化处理后所形成的压应力。在本专利技术的另一实施例中，在铟锡氧化物层上形成感测电路、驱动电路及其之间的互连电路是利用喷墨方式将导电油墨印刷到所述玻璃衬底上。在优选实施例中，在以喷墨方式形成电路之后，再对触控面板进行退火处理，而退火温度不超过205摄氏度。对于经上述激光刻印或喷墨方式形成感测电路、驱动电路及其之间的互连电路的触控面板，经前述四点弯曲测试可知触控面板表面仍维持压应力，且与在经化学方式强化处理之后的压应力大约相当，可知上述激光刻印或喷墨方式不会破坏玻璃衬底表面的经强化处理的压应力，而是维持玻璃衬底的强度。因此，经本专利技术形成的触控面板具有可靠的强度，从而使触控面板在使用过程中保护玻璃衬底下方的感测电路、驱动电路及其之间的互连电路，使来自玻璃衬底另一侧的压力不会影响感测电路、驱动电路及其之间的互连电路的电性，甚至造成电路损坏。虽然本专利技术的
技术实现思路
与特征为如上所述，然而，所属领域的技术人员仍可在不背离本专利技术的教示与揭示内容的情况下进行许多变化与修改。因此，本专利技术的范围并不限定于已揭示的实施例，而是包含不背离本专利技术的其它变化与修改，其为如所附权利要求书所涵盖的范围。权利要求1.一种形成触控面板的方法，其包含通过化学方法强化玻璃衬底，其中所述玻璃衬底包含碱金属氧化物，在所述玻璃衬底下方形成铟锡氧化物层；及在所述铟锡氧化物层上形成感测电路、驱动电路及其之间的互连电路。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述化学方法包本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种形成触控面板的方法，其包含：通过化学方法强化玻璃衬底，其中所述玻璃衬底包含碱金属氧化物，在所述玻璃衬底下方形成铟锡氧化物层；及在所述铟锡氧化物层上形成感测电路、驱动电路及其之间的互连电路。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈少扬，
申请(专利权)人：永恒科技有限公司，
类型：发明
国别省市：HK