真空继电器制造技术

技术编号:6845925 阅读:130 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种真空继电器,包括陶瓷真空室和密封间隔穿设在真空室的侧壁上的三个接触点杆,该三个接触点杆分别为常开接触点杆、常闭接触点杆和公共接触点杆,其中公共接触点杆朝向真空室内的一端上设有接触片,所述接触片上的一对接触臂为背向公共接触点杆弯折成型,陶瓷真空室呈开口圆桶状,所述陶瓷真空室的开口处侧壁面向外扩张形成有一圈凸台,这样就增加了陶瓷真空室的对地绝缘距离,提高了产品的耐压水平。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种可自动控制断续的电子元件,尤其是一种真空继电器
技术介绍
目前,市场上现有的陶瓷真空继电器由真空室、传动部分、线圈等组成,继电器的耐压除了取决于真空室内触点间隙外,还取决于真空室外的对地绝缘距离,现有的真空室, 其形成磁管均为圆柱形、方柱形等形状,这类继电器其内空间体积就决定了其对地绝缘距离,即限制了继电器的耐压程度,而真空室内接触片因其尺寸范围有限而限制了通过电流能力;另一方面,市面上现有的常规陶瓷真空继电器的常开、常闭接触点分布一致,在用户需要成对安装时,其接线交叉使接线所占额外空间较大,增大了安装空间且不便于安装。
技术实现思路
为了克服上述缺陷,本专利技术提供了一种真空继电器,在内空间体积一定的情况下耐压更高、通过电流能力更强。本专利技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是一种真空继电器,包括陶瓷真空室和密封间隔穿设在真空室的侧壁上的三个接触点杆,该三个接触点杆分别为常开接触点杆、常闭接触点杆和公共接触点杆,其中公共接触点杆朝向真空室内的一端上设有接触片,所述接触片上的一对接触臂为背向公共接触点杆弯折成型,陶瓷真空室呈开口圆桶状,所述陶瓷真空室的开口处侧壁面向外扩张形成有一圈凸台,这样就增加了陶瓷真空室的对地绝缘距离,提高了产品的耐压水平。作为本专利技术的进一步改进,所述凸台呈多级环形台阶状,各级环形台阶的台阶面宽度沿真空室的侧壁面自真空室的开口处朝向真空室的封闭面逐个径向缩小。作为本专利技术的进一步改进,所述凸台呈圆环状。作为本专利技术的进一步改进,所述凸台与陶瓷真空室的开口处端缘之间呈倒角过渡。作为本专利技术的进一步改进,所述接触片上的接触臂的两侧缘于接触臂弯折处分别向内开设形成缺口,这样可防止接触片的弯折处发生角部畸变及形成裂纹,从而可使接触片的接触臂在有限的尺寸范围内尽可能加宽,以达到最大的通过电流。作为本专利技术的进一步改进,所述陶瓷真空室穿设的常开接触点杆、常闭接触点杆和公共接触点杆的布局与常规真空继电器接触点杆布局一致(常规真空继电器接触点杆布局为本领域技术人员所公知的结构,本处不再详细叙述出其具体结构)。作为本专利技术的进一步改进,所述陶瓷真空室穿设的常开接触点杆和常闭接触点杆相对常规真空继电器接触点杆布局位置互换(常规真空继电器接触点杆布局为本领域技术人员所公知的结构,本处不再详细叙述出其具体结构)。常开接触点杆和常闭接触点杆的位置互换,形成接触点反向分布的真空继电器,与接触点正常分布的真空继电器配合,可方便用户成对安装真空继电器,减少接线所需要的额外空间,大大缩小了安装空间。具体实施时可适当增大接触点杆的径向截面直径,以增加真空室外接触点间的绝缘距离,进一步增加继电器的耐压性能。本专利技术的有益效果是本专利技术的陶瓷真空室的开口处侧壁面向外扩张形成有一圈凸台,这样就增加了陶瓷真空室的对地绝缘距离,提高了产品的耐压水平;所采用的接触片上的接触臂的两侧缘于接触臂弯折处分别向内开设形成缺口,这样可防止接触片的弯折处发生角部畸变及形成裂纹,从而可使接触片的接触臂在有限的尺寸范围内尽可能加宽,以达到最大的通过电流;同时设计出接触点反向分布的真空继电器与接触点正常分布的真空继电器配合成对使用,可方便用户成对安装真空继电器,减少接线所需要的额外空间,大大缩小了安装空间。附图说明图1为本专利技术所对比的常规真空继电器的俯视图;图2为本专利技术中所述接触点反向分布的真空继电器的俯视图;图3为常规真空继电器成对安装的接线示意图;图4为本专利技术所述接触点反向分布的真空继电器与接触点正常分布的真空继电器配合成对安装的接线示意图;图5为本专利技术的外观示意图。具体实施例方式实施例一种真空继电器,包括陶瓷真空室1和密封间隔穿设在真空室1的侧壁上的三个接触点杆,该三个接触点杆分别为常开接触点杆21、常闭接触点杆22和公共接触点杆23,其中公共接触点杆23朝向真空室内的一端上设有接触片4,所述接触片4上的一对接触臂40为背向公共接触点杆23弯折成型,陶瓷真空室1呈开口圆桶状,所述陶瓷真空室 1的开口处侧壁面向外扩张形成有一圈凸台3,这样就增加了陶瓷真空室的对地绝缘距离, 提高了产品的耐压水平。所述凸台3呈多级环形台阶状,各级环形台阶的台阶面宽度沿真空室1的侧壁面自真空室1的开口处朝向真空室1的封闭面逐个径向缩小。所述凸台3呈圆环状。所述凸台3与陶瓷真空室1的开口处端缘之间呈倒角过渡。所述接触片4上的接触臂40的两侧缘于接触臂40弯折处分别向内开设形成缺口 5,这样可防止接触片4的弯折处发生角部畸变及形成裂纹,从而可使接触片4的接触臂在有限的尺寸范围内尽可能加宽,以达到最大的通过电流。所述陶瓷真空室1穿设的常开接触点杆21、常闭接触点杆22和公共接触点杆23 的布局与常规真空继电器接触点杆布局一致(常规真空继电器接触点杆布局为本领域技术人员所公知的结构,本处不再详细叙述出其具体结构)。所述陶瓷真空室1穿设的常开接触点杆21和常闭接触点杆22相对常规真空继电器接触点杆布局位置互换(常规真空继电器接触点杆布局为本领域技术人员所公知的结构,本处不再详细叙述出其具体结构)。常开接触点杆21和常闭接触点杆22的位置互换, 形成接触点反向分布的真空继电器(见图2),与接触点正常分布的真空继电器(见图1)配合,可方便用户成对安装真空继电器,减少接线所需要的额外空间,大大缩小了安装空间 (见图3、4)。 具体实施时可适当增大接触点杆的径向截面直径,以增加真空室外接触点间的绝缘距离,进一步增加继电器的耐压性能。权利要求1.一种真空继电器,包括陶瓷真空室(1)和密封间隔穿设在真空室(1)的侧壁上的三个接触点杆,该三个接触点杆分别为常开接触点杆(21)、常闭接触点杆0 和公共接触点杆(23),其中公共接触点杆朝向真空室内的一端上设有接触片G),所述接触片(4) 上的一对接触臂GO)为背向公共接触点杆03)弯折成型,陶瓷真空室(1)呈开口圆桶状, 其特征在于所述陶瓷真空室(1)的开口处侧壁面向外扩张形成有一圈凸台(3)。2.根据权利要求1所述的真空继电器,其特征在于所述凸台(3)呈多级环形台阶状, 各级环形台阶的台阶面宽度沿真空室(1)的侧壁面自真空室(1)的开口处朝向真空室(1) 的封闭面逐个径向缩小。3.根据权利要求1所述的真空继电器,其特征在于所述凸台(3)呈圆环状。4.根据权利要求1、2或3所述的真空继电器,其特征在于所述凸台(3)与陶瓷真空室(1)的开口处端缘之间呈倒角过渡。5.根据权利要求1、2或3所述的真空继电器,其特征在于所述接触片(4)上的接触臂GO)的两侧缘于接触臂GO)弯折处分别向内开设形成缺口(5)。6.根据权利要求1、2或3所述的真空继电器,其特征在于所述陶瓷真空室(1)穿设的常开接触点杆(21)、常闭接触点杆02)和公共接触点杆03)的布局与常规真空继电器接触点杆布局一致。7.根据权利要求1、2或3所述的真空继电器,其特征在于所述陶瓷真空室(1)穿设的常开接触点杆和常闭接触点杆0 相对常规真空继电器接触点杆布局位置互换。全文摘要本专利技术公开了一种真空继电器,包括陶瓷真空室和密封间隔穿设在真空室的侧壁上的三个接触点杆,该三个接触点杆分别为常开接触点杆、常闭接触点杆和公共接触点杆,其中公共接触点杆朝向真空室内的一端上设有接触片,所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空继电器,包括陶瓷真空室(1)和密封间隔穿设在真空室(1)的侧壁上的三个接触点杆,该三个接触点杆分别为常开接触点杆(21)、常闭接触点杆(22)和公共接触点杆(23),其中公共接触点杆(23)朝向真空室内的一端上设有接触片(4),所述接触片(4)上的一对接触臂(40)为背向公共接触点杆(23)弯折成型,陶瓷真空室(1)呈开口圆桶状,其特征在于:所述陶瓷真空室(1)的开口处侧壁面向外扩张形成有一圈凸台(3)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:贾冰冰
申请(专利权)人:昆山国力真空电器有限公司
类型:发明
国别省市:32

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