【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种锗烷发生系统滴加料液的分散装置。属专用设备领域。
技术介绍
锗烷是一种重要的电子气体，主要用于化学气相沉积，是制造各类含锗薄膜材料的重要原料。锗烷发生有几类方法锗合金与酸或氨水解法；电解二氧化锗的酸性或碱性溶液的电解法；锗盐或锗的氧化物的还原法。采用还原法生产锗烷时，是液体与液体的反应。在加大料液流量以提高锗烷产量时，发现向反应釜内滴加的料液流量增大后，搅拌也无法及时使料液分散，局部料液浓度偏高，反应不充分，导致锗烷转化率降低，副产物的量增多。因此，准备加大料液流量来提高锗烷发生系统产能时，需在向锗烷发生系统滴加料液过程中分散料液，以确保锗烷转化率和质量。
技术实现思路
针对现有技术中存在的不足，本技术的目的在于提供一种锗烷发生系统滴加料液的分散装置。该装置采用四氟乙烯材料制作，耐腐蚀。本技术所述一种锗烷发生系统滴加料液的分散装置结构是分散装置由三通 1，分散管2，进料液口 3，分散出料液孔4组成。分散管2由四氟管弯成圆环，圆形分散管直径为与之相配的反应釜内径的80%，两端与三通1的两端连接，三通1另一端为进料液口 3， 进料液口 3垂直于圆环形成的平面，圆环与进料液口 3相反一侧均勻分布大量小孔作为分散出料液孔4。工作原理分散装置安装与反应釜内上方，料液和反应釜内气氛具有腐蚀性，因此本技术整个分散装置由四氟乙烯材料制作。当滴加的料时，料液流入进料液口 3并充满分散管2，从分散出料液孔4流出，实现料液的分散。本技术实现了在锗烷发生过程中，加料系统所滴加料液的分散，确保了锗烷的转化率和质量，提高了锗烷发生系统产能。本技术的有益效果在于可有效实现所滴...
【技术保护点】
１．一种锗烷发生系统滴加料液的分散装置，其特征在于，此分散装置由三通（１），分散管（２），进料液口（３），分散出料液孔（４）组成，所述分散管（２）成环状，通过三通（１）与进料液口（３）相通，所述分散出料液孔（４）为多个，分布于所述分散管（２）上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄兴灯，柯尊斌，吴荣楠，
申请(专利权)人：南京中锗科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：84
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