基板缓冲暂存设备制造技术

本实用新型专利技术实施例公开了一种基板缓冲暂存设备，涉及液晶显示器领域，能够在显影单元之后干燥工艺的烤箱单元故障时，暂时容置由显影单元传送到烤箱单元的基板，避免基板在显影单元的显影模块长时间停留而被显影液腐蚀，从而有效减少了基板的报废。基板缓冲暂存设备包括：位于显影单元的出口模块下方，用于承载基板的缓冲架；与所述缓冲架相固接，用于控制所述缓冲架的升降的升降装置。本实用新型专利技术应用于基板制造的显影设备。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液晶显示器领域，尤其涉及一种基板缓冲暂存设备。
技术介绍
液晶面板是液晶显示器中主要的显示功能器件，液晶面板结构一般为由彩膜基板和阵列基板对盒而成，中间充有液晶，其显示原理是利用液晶分子具有的介电各向异性及导电各向异性，在上下两层基板上分别形成对应电极，从而在两基板间产生电场，外加电场使液晶分子的排列状态转换，使液晶薄膜产生各种光电效应。现在，薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display, 简称TFT-IXD)在液晶市场中占有主导地位，它通过薄膜晶体管(TFT)作为控制开关，控制施加到象素电极上的电压的不同而产生不同的图像。光刻工艺(Photoetching)是液晶面板制造工艺中很重要的一步，该工艺包括涂胶、曝光和显影。在该工序中，曝光之后，需要对基板进行显影，去除曝光后的光刻(PR)胶， 以形成光刻胶图案，目前使用的显影液为四甲基氢氧化铵(TMAH)，TMAH的浓度在2. 43% 左右，对基板表面的光刻胶以及光刻胶下的TFT膜层具有腐蚀性。显影单元由入口模块 (ENTRANCE)、显影一模块(DEVI)、显本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种基板缓冲暂存设备，其特征在于，包括：位于显影单元的出口模块下方，用于承载基板的缓冲架；与所述缓冲架相固接，用于控制所述缓冲架的升降的升降装置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王全军，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11