新型集成电路框架结构制造技术

技术编号:6735500 阅读:216 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开一种集成电路框架结构,包括框主体,其上电镀银层,其中,所述的电镀银层上设有银层保护膜,该银层保护膜为纳米膜层,以提高引线框架银层的抗氧化能力。由于纳米粒子对电镀形成的空隙进行填充使银层更加致密增强银层的抗氧化能力:银层致密性提高能在不影响的条件下降低银层的厚度,银层厚度从3-7um降低至1.5-5um,降低生产成本但能达到引线框架的电性能要求。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术公开一种集成电路框架结构,按国际专利分类表(IPC)划分属于半导 体引线框架制造
,尤其是涉及一种QFN集成电路框架构造。
技术介绍
集成电路弓I线框架是制造集成电路半导体元件的基本部件,在实际应用中还需要 在封装区表面电镀银层,再利用塑封进行封装固定成半导体原件,集成电路引线框架包括 通用型号QFN和QFP等,其中QFN是表面贴装型封装之一,封装四侧配置有电极触点,由于 无引脚,贴装占有面积比QFP小,高度比QFP低。现有QFN集成电路框架的电镀方法一般是是通过以下工艺来实现的化学除油一 电解除油一水洗一水洗一酸洗一水洗一酸洗一水洗一水洗一水洗一镀铜一水洗一水洗一 水洗一防置换一水洗一水洗一选择镀银一银回收一水洗一水洗一退镀一水洗一水洗一中 和一水洗一水洗一防铜氧化一水洗一水洗一水洗一烘干,这种工艺流程电镀的框架存在银 层容易氧化、发黄、长黄斑问题,影响客户的焊线、塑封,同时该电镀工艺流程电镀的银层厚 度相对厚,一般银层厚度为3um— 7um,生产成本高。本专利技术经过长期实践并结合从事框架电镀多年的经验,创作一新型引线框构造, 故才有本技术提出。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术提供了一种结构合理、提高引线框架银层抗氧 化能力的新型集成电路框架结构,有效改善银层发黄、长黄斑问题,同时不影响框架使用前 提下,降低生产成本。为达到上述目的,本技术是通过以下技术方案实现的—种新型集成电路框架结构,包括框架主体,其上有复数个镀银区域,各镀银区位 于框架主体的对应封装区内,其中所述的各镀银区的银层上设有银层保护膜。进一步,所述的银层保护膜为纳米膜层,以提高引线框架银层的抗氧化能力。进一步,所述的纳米膜层厚度为3 — 10nm。进一步,所述的镀银区域内银层厚度为1. 5um-5um,由于纳米粒子对电镀形成的 空隙进行填充使银层更加致密增强银层的抗氧化能力银层致密性提高能在不影响的条件 下降低银层的厚度,银层厚度从3-7um降低至1. 5-5um,降低生产成本。本技术银层上的纳米保护膜层是浸泡纳米电镀药水后,银层表面会形成银 层保护膜,该保护膜能提高引线框架银层的抗氧化能力,同时银层厚度从3-7um降低至 1. 5-5um,降低生产成本。本技术具有如下有益的效果1、本技术由于在银层上设置纳米保护膜层,以增强银层的抗氧化能力,从而 有效改善银层发黄、长黄斑问题;2、本技术银层致密性提高的前提下,银层厚度从3_7um降低至1. 5_5um,降低 生产成本该银层能达到引线框架的电性能要求。附图说明图1是本技术正视图。图2是本技术侧视图。图3是本技术局部正视图。图4是图3中镀银区放大图。具体实施方式以下结合附图对本技术作进一步说明实施例请参阅图1、图2、图3及图4,一种新型集成电路框架结构,包括框架主 体1,其上有复数个镀银区域21,各镀银区位于框架主体的对应封装区2内,封装区的边缘 为封装线20,所述的镀银区域21内的银层上设有银层保护膜,该银层保护膜为纳米膜层, 以提高引线框架银层的抗氧化能力,所述的纳米膜层厚度为3—lOnm,优选为纳米膜层厚度 为5nm左右。本技术由于纳米粒子对电镀形成的空隙进行填充使银层更加致密增强银层 的抗氧化能力银层致密性提高能在不影响的条件下降低银层的厚度,银层厚度从3-7um 降低至1. 5-5um,降低生产成本。本技术集成电路引线框架实现方式是通过以下工艺来实现的化学除油一电 解除油一水洗一水洗一酸洗一水洗一酸洗一水洗一水洗一水洗一镀铜一水洗一水洗一水 洗一防置换一水洗一水洗一选择镀银一银回收一水洗一水洗一退镀一水洗一水洗一中和 —水洗一水洗一防铜氧化一水洗一水洗一浸泡纳米电镀药水一水洗一热水洗一水洗一烘 干形成框架,上述的防铜氧化可以替换为水洗工艺,而进一步节约成本。浸泡纳米电镀药水 后,银层表面会形成银层保护膜,提高引线框架银层的抗氧化能力,同时纳米粒子对电镀形 成的空隙进行填充使银层更加致密增强银层的抗氧化能力银层致密性提高能在不影响的 条件下降低银层的厚度,银层厚度从3-7um降低至1. 5-5um,降低生产成本。上述工艺中用到的纳米电镀药水是专利技术人在市场购买所得。以上所记载,仅为利用本创作
技术实现思路
的实施例,任何熟悉本项技艺者运用本创 作所做的修饰、变化,皆属本创作主张的专利范围,而不限于实施例所揭示者。本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种新型集成电路框架结构,包括框架主体,其上有复数个镀银区域,其特征在于:所述的各镀银区的银层上设有银层保护膜。

【技术特征摘要】
1.一种新型集成电路框架结构,包括框架主体,其上有复数个镀银区域,其特征在于 所述的各镀银区的银层上设有银层保护膜。2.根据权利要求1所述的新型集成电路框架结构,其特征在于所述的银层保护膜为 纳米膜层以提高引线框架银...

【专利技术属性】
技术研发人员:龙海荣林桂贤王峰涛彭霞陈仲贤
申请(专利权)人:厦门永红科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:92

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