使用可选择的环境可接受的澄清剂制备的透明LAS玻璃陶瓷制造技术

本发明专利技术涉及使用可选择的环境可接受的澄清剂制备的透明LAS玻璃陶瓷。具体地，本发明专利技术涉及具有低的热膨胀性的透明玻璃陶瓷。该玻璃陶瓷仅包含环境可接受的澄清剂或通过使用环境可接受的澄清剂制备。特别地，本发明专利技术的玻璃陶瓷不包含任何有毒的砷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及透明玻璃陶瓷，其具有低的热膨胀性，也称为“零膨胀”，该玻璃陶瓷分别仅含有环境可接受的澄清剂或仅使用环境可接受的澄清剂进行澄清化，以及涉及根据本专利技术的玻璃陶瓷的用途。
技术介绍
在具有低的热膨胀性的玻璃陶瓷中，锂、铝、氧化硅LAS玻璃陶瓷被认为是所谓的 “零膨胀材料”。一种常见的材料，例如ZERODUR ，其以0至2的三种膨胀等级市售可得， 0至2的三种膨胀等级在0至50°C的温度范围内具有不同的热膨胀系数长度α。权利要求1.具有低的热膨胀性的透明玻璃陶瓷，其包含以下成分(基于氧化物的重量％) SiO235 至 70Al2O317 至 35Li2O2 至 6TiO2 至 6ZrO20 至 6Ti02+Zr02 0 . 5 至 9 ZnO0. 5 至 5，其中所述玻璃陶瓷通过用SnA和至少一种其它澄清剂进行澄清化而制备，和其中所述其它澄清剂选自SId203、S042_、Br_和Cl_。2.根据权利要求1的玻璃陶瓷，其中所述玻璃陶瓷包含至少一种已由选自Sb203、 SO/—和Cl—的澄清剂形成的其它组分。3.根据权利要求1或2的玻璃陶瓷，其中包含至少一种由澄清剂形成的组分，其各自的比例为基于所述玻璃陶瓷计的0. 001至2摩尔％。4.根据前述权利要求中一项或多项的玻璃陶瓷，其中包含由澄清剂SnO2形成的组分， 其比例为0. 001至2摩尔％。5.根据前述权利要求中一项或多项的玻璃陶瓷，其中所述玻璃陶瓷的热膨胀性的范围为 0 士0. 10Χ1(Γ6/Κ。6.根据前述权利要求中一项或多项的玻璃陶瓷，其另外包含一种或多种如下组分(基于氧化物的重量％)B2O3 0 至 6 Na2O 0 至 2 K2O 0 至 2 MgO 0 至 5 P2O3 0 至 17 CaO 0 至 4 BaO 0 至 5 SrO 0 至 5。7.根据前述权利要求中一项或多项的玻璃陶瓷，其中所述玻璃陶瓷不含As203、CeO2和 / 或 PbO08.根据前述权利要求中一项或多项的玻璃陶瓷，其中所述玻璃陶瓷包含一种或多种选自高温型石英、混合高温型石英晶体、热液石英、混合热液石英晶体、β锂霞石的晶体相。9.根据权利要求1至8的玻璃陶瓷在光刻中的用途，特别是在LCD光刻和微光刻中的用途，在天文学中的用途或作为精密元件的用途。10.SnO2与至少一种选自Sb203> SO42-和CF的其它澄清剂以1 2至2 1摩尔比例的组合用于使玻璃澄清化的用途，其中所述玻璃适合用于玻璃陶瓷的制造。11.用于天文学的镜支架，其包含根据权利要求1至8中一项的玻璃陶瓷。12.根据权利要求9的镜支架，其是轻型镜支架。13.用于IXD光刻的棱镜，其包含根据权利要求1至9中一项的玻璃陶瓷。14.用于IXD光刻的镜支架，其包含根据权利要求1至9中一项的玻璃陶瓷。15.制备根据权利要求1至8中一项或多项的玻璃陶瓷的方法，其包括如下步骤a.用包括SnO2和至少一种其它澄清剂的组合使玻璃熔融物澄清化，并且其中所述其它澄清剂选自SId203、SO广、Br_和Cl_。全文摘要本专利技术涉及使用可选择的环境可接受的澄清剂制备的透明LAS玻璃陶瓷。具体地，本专利技术涉及具有低的热膨胀性的透明玻璃陶瓷。该玻璃陶瓷仅包含环境可接受的澄清剂或通过使用环境可接受的澄清剂制备。特别地，本专利技术的玻璃陶瓷不包含任何有毒的砷。文档编号C03C10/12GK102190441SQ20111004524公开日2011年9月21日 申请日期2011年2月22日 优先权日2010年2月22日专利技术者奥拉夫·克劳森, 比安卡·施雷德, 玛利亚-路易莎·赖希 申请人:肖特公开股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．具有低的热膨胀性的透明玻璃陶瓷，其包含以下成分（基于氧化物的重量％）：ＳｉＯ２　　　　　　　　　３５至７０Ａｌ２Ｏ３　　　　　　　　１７至３５Ｌｉ２Ｏ　　　　　　　　　２至６ＴｉＯ２　　　　　　　　　０至６ＺｒＯ２　　　　　　　　　０至６ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２　　　　０．５至９ＺｎＯ　　　　　　　　　　０．５至５，其中所述玻璃陶瓷通过用ＳｎＯ２和至少一种其它澄清剂进行澄清化而制备，和其中所述其它澄清剂选自Ｓｂ２Ｏ３、ＳＯ４２－、Ｂｒ－和Ｃｌ－。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：比安卡·施雷德，玛利亚路易莎·赖希，奥拉夫·克劳森，
申请(专利权)人：肖特公开股份有限公司，
类型：发明
国别省市：DE