基板处理装置、转换方法和移载方法制造方法及图纸

本发明专利技术是一种基板处理装置、转换方法和移载方法。本发明专利技术提供能够抑制在对基板的支撑方式进行转换的转换部中浮起支撑基板的部分在搬运方向上的长度并且能够易于避免升降辊与其他构件接触的基板处理装置。基板处理装置(1)的转换部(20)具有多个升降辊(21)、多个自由辊(24)和入口浮起工作台(25)。在转换基板(9)的支撑方式时，基板(9)的搬运方向上游侧的一部分从多个升降辊(21)向多个自由辊(24)移载。因此，能够抑制入口浮起工作台(25)在搬运方向上的长度，并且能够转换基板(9)的支撑方式。自由辊(24)能够以简单的结构可靠地支撑基板(9)，并且能够配置在狭小的区域内。因而，易于将多个自由辊(24)配置在不与多个升降辊(21)接触的位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有搬运基板的机构的基板处理装置、对基板的支撑方式进行转换的方法和移载基板的移载方法。
技术介绍
在液晶显示装置用玻璃基板、半导体晶片、薄膜液晶用柔性基板、光掩模用基板、 滤色器用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板的制造工序中，使用具有搬运基板的机构的各种基板处理装置。随着时代的变化，在这样的基板处理装置中成为处理对象的基板的尺寸具有大型化的趋势。近年来，为了水平且稳定地搬运大型的基板，提出了一边使基板在工作台上浮起一边进行搬运的搬运机构。在一边使基板在工作台上浮起一边进行搬运的基板处理装置中，需要将基板的支撑方式从其他支撑方式转换为浮起支撑方式的机构。作为转换基板的支撑方式的技术在专利文献1中记载了如下的基板搬运装置，即，该基板搬运装置具有从与浮起搬运不同的搬运机构转换为浮起搬运的机构。在专利文献1中，通过使支撑基板的辊下降，将辊上的基板浮起保持在配置为帘状的浮起用板上。另外，在一边使基板在工作台上浮起一边保持基板的端缘部来进行搬运的基板处理装置中，需要将由其他搬运机构搬运来的基板的端缘部保持在规定的保持部上的机构。 作为保持基板的端缘部的机构在专利文献2中记载了如下的机构，即，该机构通过吸盘驱动器使吸附吸盘上升来接近基板，所述吸附吸盘借助真空吸附力吸附在基板的下表面上。专利文献1 JP特开2008-166348号公报；专利文献2 JP特开2009-117571号公报。
技术实现思路
(1)第一目的在专利文献1的基板搬运装置中，在转换基板的支撑方式的部位上，需要长度大于等于基板在搬运方向上的尺寸的浮起用板。另外，在专利文献1的基板搬运装置中，在配置成帘状的浮起用板的间隙中配置有能够升降的辊。这样，在设计上很难以相互不接触的方式交替地配置浮起用板、辊和使辊升降的机构。因此，第一目的是提供在转换基板的支撑方式的转换部中抑制浮起支撑基板的部分在搬运方向上的长度并且能够容易地避免升降辊与其他构件接触的基板处理装置。(2)第二目的在专利文献2的基板处理装置中，使吸附吸盘接近静止的基板的下表面。由此，需要用于使吸附吸盘升降移动的吸盘驱动器。结果使包括吸盘驱动器的搬运部的结构变得复杂。另外，在专利文献2的基板处理装置中，为了精密地规定搬运时基板的高度，要求吸盘驱动器具有高的定位精度。另外，还预料到通过长时间的使用，吸盘驱动器定位的再现性会降低。若要长时间维持吸盘驱动器定位的再现性，则还需要吸盘驱动器以外的监视吸附吸盘的高度位置的机构。因此，第二目的是提供不用使保持部升降移动并且能够一边抑制基板的错位一边从下表面侧保持基板的技术。为了达到上述第一目的，本申请的第一专利技术为一种基板处理装置，具有搬运基板的机构，具有第一搬运部，其将基板搬运到搬运路径上的规定位置，第二搬运部，其在所述规定位置的搬运方向下游侧，一边使基板在工作台上浮起，一边搬运基板，转换部，其在所述第一搬运部与所述第二搬运部之间转换基板的支撑方式，控制部，其控制所述转换部；所述转换部具有升降辊，其一边接触支撑基板，一边主动旋转，能够在标准位置与下降位置之间升降移动，自由辊(free roller)，其一边将基板接触支撑在标准位置的所述升降辊的上端部和下降位置的所述升降辊的上端部之间的高度位置，一边对应于基板的移动而从动旋转，入口浮起工作台，其配置在所述自由辊的搬运方向下游侧，一边使基板浮起在比通过标准位置的所述升降辊支撑基板的支撑高度低的高度，一边支撑基板；所述控制部控制所述转换部，使得在基板配置为跨在标准位置的所述升降辊和所述入口浮起工作台上之后， 所述升降辊向所述下降位置下降，将基板的搬运方向上游侧的一部分向所述自由辊移载。本申请的第二专利技术为如第一专利技术的基板处理装置，其中，所述入口浮起工作台在搬运方向上的长度短于基板在搬运方向上的长度。本申请的第三专利技术为如第一专利技术或第二专利技术的基板处理装置，其中，配置有所述升降辊和所述自由辊的区域在搬运方向上的长度短于基板在搬运方向上的长度。本申请的第四专利技术为如第一专利技术或第二专利技术的基板处理装置，其中，所述自由辊包括多个下游侧自由辊，其沿着所述入口浮起工作台的搬运方向上游侧的侧边缘部排列， 多个上游侧自由辊，其排列在所述多个下游侧自由辊的搬运方向上游侧的位置；所述多个上游侧自由辊配置成密度低于所述多个下游侧自由辊的密度。本申请的第五专利技术为如第一专利技术或第二专利技术的基板处理装置，其中，所述转换部还具有定位机构，该定位机构在基板配置成跨在标准位置的所述升降辊和所述入口浮起工作台上的状态下，决定基板在水平方向上的位置。本申请的第六专利技术为如第一专利技术或第二专利技术的基板处理装置，其中，支撑所述升降辊及所述自由辊的支撑台与支撑所述入口浮起工作台的支撑台不同，并且所述升降辊及所述自由辊与所述入口浮起工作台并且相互不连接。本申请的第七专利技术为如第一专利技术或第二专利技术的基板处理装置，其中，所述自由辊是直径小于所述升降辊的直径的辊。另外，为了达到上述第一目的，本申请的第八专利技术为转换方法，在第一搬运部与第二搬运部之间转换基板的支撑方式，其中，所述第一搬运部将基板搬运到搬运路径上的规定位置，所述第二搬运部在所述规定位置的搬运方向下游侧，一边使基板在工作台上浮起， 一边搬运基板，该转换方法利用升降辊、自由辊和入口浮起工作台，其中，所述升降辊一边接触支撑基板，一边主动旋转，能够在标准位置与下降位置之间升降移动，所述自由辊一边将基板接触支撑在标准位置的所述升降辊的上端部与下降位置的所述升降辊的上端部之间的高度位置，一边对应于基板的移动而从动旋转，所述入口浮起工作台配置在所述自由辊的搬运方向下游侧，一边使基板浮起至比标准位置的所述升降辊支撑基板的支撑高度低的高度，一边支撑基板，该转换方法具有工序a，将基板配置为跨在标准位置的所述升降辊和所述入口浮起工作台上，工序b，在所述工序a后，使所述升降辊向所述下降位置下降， 将基板的搬运方向上游侧的一部分向所述自由辊移载。另外，为了达到上述第二目的，本申请的第九专利技术为基板处理装置，具有搬运基板的机构，具有第一搬运部，其从搬运方向上游侧将基板搬运至规定位置，第二搬运部，其从所述规定位置向搬运方向下游侧搬运基板，移载部，其在所述规定位置，将基板从所述第一搬运部移载至所述第二搬运部；所述移载部具有顶起机构，该顶起机构在维持基板的一部分被接触支撑为水平姿势的状态的情况下，顶起基板的其他部分，所述第二搬运部具有一边从下表面侧保持基板一边在搬运方向上移动的保持部，该基板处理装置还具有控制部， 所述控制部控制所述顶起机构和所述保持部，使得在通过所述顶起机构局部地顶起基板并且使所述保持部进入基板的被顶起的部分的下方后，通过解除所述顶起机构的顶起而使基板保持在所述保持部上。本申请的第十专利技术如第九专利技术的基板处理装置，其中，所述移载部还具有对基板进行水平方向上的定位的定位机构，所述控制部控制所述定位机构和所述顶起机构，使得在所述定位机构对基板进行定位后，通过所述顶起机构顶起基板。本申请的第十一专利技术为如第十专利技术的基板处理装置，其中，所述定位机构具有与基板的端缘部抵接的定位构件，所述控制部控制所述顶起机构和所述定位机构，使得在通过所述定位机构进行定位后，与基板的所述其他部分抵接的所述定位构件从基板退避，然后，通本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种基板处理装置，具有搬运基板的机构，其特征在于，具有：第一搬运部，其将基板搬运到搬运路径上的规定位置，第二搬运部，其在所述规定位置的搬运方向下游侧，一边使基板在工作台上浮起，一边搬运基板，转换部，其在所述第一搬运部与所述第二搬运部之间转换基板的支撑方式，控制部，其控制所述转换部；所述转换部具有：升降辊，其一边接触支撑基板，一边主动旋转，能够在标准位置与下降位置之间升降移动，自由辊，其一边将基板接触支撑在标准位置的所述升降辊的上端部和下降位置的所述升降辊的上端部之间的高度位置，一边对应于基板的移动而从动旋转，入口浮起工作台，其配置在所述自由辊的搬运方向下游侧，一边使基板浮起至比通过标准位置的所述升降辊支撑基板的支撑高度低的高度，一边支撑基板；所述控制部控制所述转换部，使得在基板配置为跨在标准位置的所述升降辊和所述入口浮起工作台上之后，所述升降辊向所述下降位置下降，将基板的搬运方向上游侧的一部分向所述自由辊移载。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：高木善则，辻雅夫，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP