【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于微光刻系统的光学子系统尤其是镜头单元的支撑单元。另外,本专利技术涉及一种包括这种支撑单元的光学投影系统和包括这种光学投影系统的光学曝光装置。本专利技术可以用于制造微电子器件、尤其是半导体器件的光刻过程,或者在这种光刻过程中使用的制造装置例如掩膜或者划线板。
技术介绍
一般来说,在制造微电子器件(例如半导体器件)的过程中使用的光学系统在该光学系统的光路中包括多个光学元件,例如透镜和反射镜等。这些光学元件一般在曝光过程中相互配合,以将在划线板等上形成的图像转移到例如晶片的基片上。所述光学元件通常结合在几种功能不同的光学子系统中。这些不同的光学子系统可以通过包括多个这种光学元件(例如透镜和反射镜)以及其它光学元件的光学系统的不同透镜单元来形成。折射镜单元或者至少主要的折射镜单元大多数具有称之为光轴的光学元件的对称直轴。另外, 它们通常具有细长的基本管状的设计,它们通常也因此被称之为透镜镜筒。由于半导体器件正在不断的小型化,因此一直需要提高制造这些半导体器件所用的光学系统的分辨率。对高分辨率的这种需求很明显导致要提高光学系统的数值孔径和提高其成像准确度 ...
【技术保护点】
1.一种支撑微光刻系统的透镜单元的支撑单元,它包括:用于部分地接收光路的外壳,所述外壳包括至少第一接口和第二接口,所述第一接口是用于支撑包括多个透镜的细长第一透镜单元的第一支撑接口,所述第二接口是用于支撑包括多个透镜的细长第二透镜单元的第二支撑接口,所述外壳适于基本上支承所述细长第一透镜单元和所述细长第二透镜单元的负载,所述外壳由陶瓷材料制成。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:J·拉乌,A·朔帕赫,B·格尔里赫,J·库格勒,M·马尔曼,T·佩塔施,G·菲尔特,
申请(专利权)人:卡尔蔡司SMT有限责任公司,
类型:发明
国别省市:DE
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