【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种多晶硅副产物四氯化硅处理设备,尤其是涉及一种由多晶硅副产物四氯化硅生产二氧化硅的处理设备。
技术介绍
近年来,随着硅太阳能电池的发展,多晶硅市场得以迅猛增长。目前国际上采用的多晶硅制备方法均为改良的西门子法,即采用三氯氢硅氢化还原,其副产物主要是四氯化硅,生产1吨多晶硅所产生的副产物四氯化硅大约为12 18吨,因此如何处理副产物四氯化硅已经成为多晶硅工业发展的一大瓶颈。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提出一种多晶硅副产物四氯化硅处理设备,利用该处理设备可以循环利用多晶硅副产物四氯化硅,既使用多晶硅副产物四氯化硅生产二氧化硅,提高了循环经济效益,促进了多晶硅生产的发展。根据本专利技术实施例的多晶硅副产物四氯化硅处理设备,包括反应器,所述反应器具有内限定有反应腔,所述反应器的上部设有四氯化硅-空气入口和氢气入口,所述反应器的下部设有环氢气进口且所述反应器的底部设有反应器出口 ;收集冷却器,所述收集冷却器内限定有内腔和套在内腔外面且与内腔隔开的冷却介质空间,所述收集冷却器的上部设有与所述内腔连通的冷却器进料口和与所述冷却介质空间连通的冷却介质出口,所述收集冷却器的下部设有与所述内腔连通的冷却器出料口和与所述冷却介质空间连通的冷却介质进口,其中所述收集冷却器位于所述反应器下方以便所述冷却器进料口与所述反应器出口相连;聚集器,所述聚集器具有聚集器入口和聚集器出口,其中所述聚集器入口与所述冷却器出料口相连;分离器,所述分离器具有分离器入口、气体出口和固体出口,其中所述分离器入口与所述聚集器出口相连;和脱酸器,所述脱酸器具有内限定有脱酸腔,所述脱 ...
【技术保护点】
1.一种多晶硅副产物四氯化硅处理设备,其特征在于,包括:反应器,所述反应器具有内限定有反应腔,所述反应器的上部设有四氯化硅-空气入口和氢气入口,所述反应器的下部设有环氢气进口且所述反应器的底部设有反应器出口;收集冷却器,所述收集冷却器内限定有内腔和套在内腔外面且与内腔隔开的冷却介质空间,所述收集冷却器的上部设有与所述内腔连通的冷却器进料口和与所述冷却介质空间连通的冷却介质出口,所述收集冷却器的下部设有与所述内腔连通的冷却器出料口和与所述冷却介质空间连通的冷却介质进口,其中所述收集冷却器位于所述反应器下方以便所述冷却器进料口与所述反应器出口相连;聚集器,所述聚集器具有聚集器入口和聚集器出口,其中所述聚集器入口与所述冷却器出料口相连;分离器,所述分离器具有分离器入口、气体出口和固体出口,其中所述分离器入口与所述聚集器出口相连;和脱酸器,所述脱酸器具有内限定有脱酸腔,所述脱酸器的上部设有尾气出口和脱酸器出料口,所述脱酸器的下部设有蒸汽入口和脱酸器进料口,其中所述脱酸器进料口与所述分离器的固体出口相连。
【技术特征摘要】
1.一种多晶硅副产物四氯化硅处理设备,其特征在于,包括反应器,所述反应器具有内限定有反应腔,所述反应器的上部设有四氯化硅-空气入口和氢气入口,所述反应器的下部设有环氢气进口且所述反应器的底部设有反应器出口 ;收集冷却器,所述收集冷却器内限定有内腔和套在内腔外面且与内腔隔开的冷却介质空间,所述收集冷却器的上部设有与所述内腔连通的冷却器进料口和与所述冷却介质空间连通的冷却介质出口,所述收集冷却器的下部设有与所述内腔连通的冷却器出料口和与所述冷却介质空间连通的冷却介质进口,其中所述收集冷却器位于所述反应器下方以便所述冷却器进料口与所述反应器出口相连;聚集器,所述聚集器具有聚集器入口和聚集器出口,其中所述聚集器入口与所述冷却器出料口相连;分离器,所述分离器具有分离器入口、气体出口和固体出口,其中所述分离器入口与所述聚集器出口相连;和脱酸器,所述脱酸器具有内限定有脱酸腔,所述脱酸器的上部设有尾气出口和脱酸器出料口,所述脱酸器的下部设有蒸汽入口和脱酸器进料口,其中所述脱酸器进料口与所述分离器的固体出口相连。2.根据权利要求1所述的多晶硅副产物四氯化硅处理设备,其特征在于,还包括制酸系统,所述制酸系统与所述分离器的气体出口相连。3.根据权利要求1所述的多晶硅副产物四氯化硅处理设备,其特征在于,所述脱酸器的尾气出口与所述分离器入口相连。4.根据权利要求1所述的多晶硅副产物四氯化硅处理设备,其特征在于,所述分离器为三级旋风分离器。5.根据权利要求4所述的多晶硅副产物四氯化硅处理设备,其特征在于,所述分离器还包括与最后一级旋风分离器相连的袋式过滤器。6.根据权利要求1所述的多晶硅副产物四氯化硅处理设备,其特征在于,所述反应器包括反应器本体,所述反应腔限定在所述反应器本体内,所述四氯化硅-空气入口和氢气入口设在所述反应器本体的上部,所述反应器出口设在所述反应器本体的底部;嘴套,所述嘴套套设在所述反应器本体的下端以与所述反应器本体限定出向下开口的环形空间;与所述嘴套相连以向所述环形空间内供给氢气的环隙氢气进口管;和分布器,所述分布器设置在所述反应腔内用于均勻分布从所述四氯化硅-空气入口和所述氢气入口供给到反应腔内的...
【专利技术属性】
技术研发人员:严大洲,毋克力,肖荣晖,汤传斌,谢正和,杜俊平,谢冬晖,汪绍芬,郭富东,
申请(专利权)人:中国恩菲工程技术有限公司,
类型:发明
国别省市:11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。