【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种打印机光谱特征化模型的修正方法，具体是涉及修正由不同墨水、纸张、温度和空气湿度等打印环境变化引起的光谱特征化模型精度降低的方法。
技术介绍
打印机光谱特征化模型通常包括正和反两个方向。正向光谱特征化模型是指建立从与设备相关的墨水配方（如，青、品红、黄、黑的数字化设备驱动值）到与设备无关的光谱反射比之间的关系；反之，则称为反向光谱特征化模型。由于人们常常希望通过打印可以获得某一种颜色，因此反向模型一般更为实用。打印机光谱特征化模型的建立往往需要打印并测量几百甚至几千个训练样本。然而，所建立的模型仅仅适用于建模时的打印环境，包括墨水、纸张、温度以及空气湿度等。一旦改变墨水（即使是同一型号的墨水）、纸张、打印时的温度和空气湿度，模型的精度会急剧地降低，需要再次建模。但是，建模需重新打印大量的训练样本，这又是对墨水、纸张等耗材的浪费，也不符合节能环保的理念。对于上述问题，目前学术界和工业界都还没有提出由于墨水、纸张、温度已经空气湿度等打印环境变化所导致光谱特征化模型精度降低的修正方法。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决
技术介绍
中所述的问题，提供一种...
【技术保护点】
１．一种打印机光谱特征化模型的修正方法，其特征在于包括正向打印机光谱特征化模型的修正和反向打印机光谱特征化模型的修正，其中：正向打印机光谱特征化模型的修正的步骤如下：１）选取２０－５０个基本覆盖打印机色域的不同于训练样本的修正样本，将其墨水配方作为输入墨水配方，经原正向光谱特征化模型预测相应的光谱反射比Ｒｐｒｅ；２）在新的打印环境下，通过打印机输出得到修正样本的硬拷贝，并测得其正向目标光谱反射比Ｒｔａｒｇｅｔ，正；３）采用最小二乘法，分别用截距为０的线性方程，拟合所有修正样本的Ｒｐｒｅ和Ｒｔａｒｇｅｔ，正在各波长的数据，并计算得出正向波长修正系数αλ；４）对于任一输入墨水配...
【技术特征摘要】
1.一种打印机光谱特征化模型的修正方法，其特征在于包括正向打印机光谱特征化模型的修正和反向打印机光谱特征化模型的修正，其中：正向打印机光谱特征化模型的修正的步骤如下：1）选取20-50个基本覆盖打印机色域的不同于训练样本的修正样本，将其墨水配方作为输入墨水配方，经原正向光谱特征化模型预测相应的光谱反射比Rpre；2）在新的打印环境下，通过打印机输出得到修正样本的硬拷贝，并测得其正向目标光谱反射比Rtarget,正；3）采用最小二乘法，分别用截距为0的线性方程，拟合所有修正样本的Rpre和Rtarget,正在各波长的数据，并计算得出正向波长修正系数αλ； 4）对于任一输入墨水配方，先利用原正向光谱特征化模型进行预测，然后用正向波长修正系数αλ修正原正向光谱特征化模型所预测的光谱反射比，得到基于新打印环境的预测光谱反射比；反向打印...
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