多色耐磨金属装饰膜层的制作方法技术

本发明专利技术公开了一种多色耐磨金属装饰膜层的制作方法，包括以下步骤：一、第一次表面局部遗留膜层选定或制作；二、隔膜层制作及膜层局部破坏处理；三、第二次表面局部遗留膜层制作；四、局部膜层剥离，并获得双色膜层；五、三色以上的多色膜层制作：先判断需制作多色膜层的颜色数量ｎ；其次，以步骤四中所获得的双色膜层为第一次表面局部遗留膜层，重复步骤二至步骤四ｎ－２次后，则相应获得颜色数量为ｎ的多色膜层。本发明专利技术设计合理、加工制作方便、加工制程环保且所制作的多色膜层具有高耐磨性、颜色多元化与耐高温的环保性等优良特性，能有效解决现有多色膜层加工制程所存在的颜色单一、加工过程复杂、适用面窄、不环保等多种实际问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种金属涂层装饰性表面处理方法，尤其是涉及一种多色耐磨金属装 饰膜层的制作方法。
技术介绍
目前，在物体表面加工多色膜层的加工制程大致分有多色非金属膜层和多色金属 膜层两种。其中，多色非金属膜层的加工制程是先在基材或者电镀层产品表面电镀一层金 属膜，再通过抛砂、研磨等方法破坏表面镀层，使基材颜色暴露出来并形成双色效果，亦即 为杂色电镀产品；但由于表面电镀涂层及基材耐腐蚀性效果差，因而在表面再镀复上一层 透明膜或半透明膜的保护膜，而达到膜层抗腐蚀的目的。此制程有品种多样化的优点，但由 于保护膜漆类或油脂类膜层的表面耐磨性很差，一般在Ml的硬度以下，因而在使用中保护 膜很快受到耐损而出现腐蚀及变色形象，大大降低了膜层的使用寿命。综上，上述多色非金 属膜层产品由于受到膜层特性(耐磨性很差等)的限制，一般只能应用在不容易受到磨擦 的装饰性产品上，如工艺装饰品等。另外，从环保角度来看，由于此类多色非金属膜层多为 有机膜层，因而高温环境下还会排放有毒性气体(如烤漆层在火燃烧时会产生熔化而排放 有毒气体)。而多色金属膜层的加工制程是利用PVD真空镀膜方式在金属基材表面加工的一 层或多层金属膜层，经镀膜后在表面涂上油墨等油脂性原料把需要保留颜色的部分膜层覆 盖，最后再把通过化学腐蚀方式剥离没经油墨覆盖的膜层，使底层颜色暴露在产品表面，之 后去除表面油墨并相应产生双色性效果。此制程虽然为金属性膜层，膜层的耐磨性得到了 提高，但由于人工涂复油墨的作业效率低、加工品种少等原因，该制程一般适用在小件产品 上加工中，对于大件产品由于效率低而不能得到推广。另一种多色膜层加工处理方式为在 金属基材表面涂上耐温油墨或耐温的涂料覆盖不需要进行镀膜部位的隔镀层，最后进行真 空镀膜，由于涂了耐温原料的部位没有镀上膜层，而产生了表面双色性的金属膜层效果，此 方式由于耐温原料的限制及真空放气的原因限制了镀膜温度及时间，因而亦限制了应用产 品及膜层的品质，而不能得到有效的推广。综上所述，多色非金属膜层加工制程中所加工出来的具有多色效果的非金属膜层 产品，可达到颜色品种多样化的优点，但由于表面膜层环保性及耐磨性差的原因，而限制了 使用产品的范围。而多色金属膜层加工制程所加工出来的产品虽然在耐磨性上得到了提 高，但由于制程复杂导致作业效率低且能适用的品种少，亦限制了该制程推广应用的普及 性。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足，提供一种多色耐磨 金属装饰膜层的制作方法，其设计合理、加工制作方便、加工制程环保且所制作的多色膜层具有高耐磨性、颜色多元化与耐高温的环保性等优良特性，同时适用范围广且易于普及推 广应用。为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案是一种多色耐磨金属装饰膜层的 制作方法，其特征在于该方法包括以下步骤步骤一、第一次表面局部遗留膜层选定或制作首先，在被加工基材上选择一个外 侧面作为处理面；之后，以所述处理面作为第一次表面局部遗留膜层，或者通过常规PVD真 空镀膜方法或电镀法在所述处理面上镀一金属膜层一作为第一次表面局部遗留膜层，所述 金属膜层一为单质金属膜层、合金膜层或金属化合物膜层；步骤二、隔膜层制作及膜层局部破坏处理，其过程如下201、隔膜层制作首先，对第一次表面局部遗留膜层的材质进行判断当第一次 表面局部遗留膜层为半导体膜层或碳化合物膜层时，采用机加工工具、化学腐蚀方法或电 解腐蚀刻蚀方法对所述第一次表面局部遗留膜层进行局部破坏，相应获得第一次表面局部 遗留膜层经局部破坏处理后的局部破坏处理面一；反之，采用电镀、PVD真空镀膜、电泳、喷 涂或粉刷方法采用PVD真空镀膜方法在所述第一次表面局部遗留膜层上镀一层或多层金 属膜层二、非金属膜层或半导体膜层作为作为隔膜层；所述金属膜层二为单质金属膜层、合 金膜层或金属化合物膜层，且所述金属膜层二与步骤一中所述金属膜层一的材质不同；202、膜层局部破坏处理采用机加工工具、化学腐蚀方法或电解腐蚀刻蚀方法对 所述隔膜层单独进行局部破坏、穿过所述隔膜层由上至下对所述隔膜层和第一次表面局部 遗留膜层同时进行局部破坏或者穿过所述隔膜层和所述第一次表面局部遗留膜层由上至 下对所述隔膜层、第一次表面局部遗留膜层和被加工基材的处理面同时进行局部破坏，相 应获得经膜层局部破坏处理后的局部破坏处理面二；步骤三、第二次表面局部遗留膜层制作采用PVD真空镀膜方法在步骤201中所述 的局部破坏处理面一或步骤202中所述的局部破坏处理面二上镀一金属膜层三作为第二 次表面局部遗留膜层，并相应获得二次镀膜处理面一或二次镀膜处理面二 ；所述金属膜层 二为单质金属膜层、合金膜层或金属化合物膜层，且所述金属膜层三的材质与所述金属膜 层二的材质不同；步骤四、局部膜层剥离当对所述二次镀膜处理面一进行局部膜层剥离时，由于 步骤三中采用PVD真空镀膜方法在所述局部破坏处理面一上镀第二次表面局部遗留膜层 过程中，所镀的第二次表面局部遗留膜层不能附着于未被破坏的第一次表面局部遗留膜层 上，则可将步骤三中镀在未被破坏的第一次表面局部遗留膜层上的第二次表面局部遗留膜 层直接剥离，而将镀在已被破坏的第一次表面局部遗留膜层上的第二次表面局部遗留膜层 保留下来，并完成双色膜层的制作过程；当对所述二次镀膜处理面二进行局部膜层剥离时，采用化学腐蚀或电解腐蚀方法 对隔膜层进行剥离的同时并将镀在未被破坏的隔膜层上的第二次表面局部遗留膜层剥离， 而将镀在已被破坏的所述隔膜层上的第二次表面局部遗留膜层保留下来，并完成双色膜层 的制作过程；步骤五、三色以上的多色膜层制作当需制作三色以上的多色膜层时，首先判断需 制作多色膜层的颜色数量η且11 > 3 ；其次，以步骤四中所获得的双色膜层为第一次表面局 部遗留膜层，重复步骤二至步骤四η-2次后，则相应获得颜色数量为η的多色膜层；其中，n-2次步骤二至步骤四的重复过程相应形成n-2次膜层表面处理过程，且每一次膜层表面 处理过程中，均以上一次膜层表面处理过程所获得的多层膜层作为本次膜层表面处理过程 的第一次表面局部遗留膜层。上述，其特征是步骤一、步骤二和步骤三中所 述的非金属膜层为有机膜层或漆类膜层。上述，其特征是步骤一、步骤二和步骤三中所 述的金属膜层为由铝、锡、锑、硼、铜、石墨、硅、钽、锌、银、锆、镁、铌、钼、铬、钛或镍制成的单 质金属膜层、不锈钢膜层或者由铝、锡、锑、硼、铜、石墨、硅、钽、锌、银、锆、镁、铌、钼、铬、钛 或镍的合金或金属化合物制成的合金膜层或金属化合物膜层。上述，其特征是步骤一中所述的被加工基材 为表面镀有金属膜层的金属基材或非金属基材、合金基材或者不锈钢基材。上述，其特征是步骤一中所述的处理面选择 好后，应立即对所选择的处理面进行清洗与烘干；步骤201中所述的隔膜层镀膜之前，需对 所述第一次表面局部遗留膜层进行清洗与烘干；步骤三中所述的第二次表面局部遗留膜层 镀膜之前，需对所述二次镀膜处理面一或二次镀膜处理面二进行清洗与烘干。上述，其特征是步骤一、步骤201和步骤三中 进行清洗时，采用超音波进行清洗或采用酒精擦试方法进行清洗。上述，其特征是步骤一、步骤201和步骤三中 进行烘干时，采用烘干炉进行烘干且烘干温度为50°C以上。上述，其特征是本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多色耐磨金属装饰膜层的制作方法，其特征在于该方法包括以下步骤：步骤一、第一次表面局部遗留膜层选定或制作：首先，在被加工基材上选择一个外侧面作为处理面；之后，以所述处理面作为第一次表面局部遗留膜层，或者通过常规ＰＶＤ真空镀膜方法或电镀法在所述处理面上镀一金属膜层一作为第一次表面局部遗留膜层，所述金属膜层一为单质金属膜层、合金膜层或金属化合物膜层；步骤二、隔膜层制作及膜层局部破坏处理，其过程如下：２０１、隔膜层制作：首先，对第一次表面局部遗留膜层的材质进行判断：当第一次表面局部遗留膜层为半导体膜层或碳化合物膜层时，采用机加工工具、化学腐蚀方法或电解腐蚀刻蚀方法对所述第一次表面局部遗留膜层进行局部破坏，相应获得第一次表面局部遗留膜层经局部破坏处理后的局部破坏处理面一；反之，采用电镀、ＰＶＤ真空镀膜、电泳、喷涂或粉刷方法采用ＰＶＤ真空镀膜方法在所述第一次表面局部遗留膜层上镀一层或多层金属膜层二、非金属膜层或半导体膜层作为作为隔膜层；所述金属膜层二为单质金属膜层、合金膜层或金属化合物膜层，且所述金属膜层二与步骤一中所述金属膜层一的材质不同；２０２、膜层局部破坏处理：采用机加工工具、化学腐蚀方法或电解腐蚀刻蚀方法对所述隔膜层单独进行局部破坏、穿过所述隔膜层由上至下对所述隔膜层和第一次表面局部遗留膜层同时进行局部破坏或者穿过所述隔膜层和所述第一次表面局部遗留膜层由上至下对所述隔膜层、第一次表面局部遗留膜层和被加工基材的处理面同时进行局部破坏，相应获得经膜层局部破坏处理后的局部破坏处理面二；步骤三、第二次表面局部遗留膜层制作：采用ＰＶＤ真空镀膜方法在步骤２０１中所述的局部破坏处理面一或步骤２０２中所述的局部破坏处理面二上镀一金属膜层三作为第二次表面局部遗留膜层，并相应获得二次镀膜处理面一或二次镀膜处理面二；所述金属膜层二为单质金属膜层、合金膜层或金属化合物膜层，且所述金属膜层三的材质与所述金属膜层二的材质不同；步骤四、局部膜层剥离：当对所述二次镀膜处理面一进行局部膜层剥离时，由于步骤三中采用ＰＶＤ真空镀膜方法在所述局部破坏处理面一上镀第二次表面局部遗留膜层过程中，所镀的第二次表面局部遗留膜层不能附着于未被破坏的第一次表面局部遗留膜层上，则可将步骤三中镀在未被破坏的第一次表面局部遗留膜层上的第二次表面局部遗留膜层直接剥离，而将镀在已被破坏的第一次表面局部遗留膜层上的第二次表面局部遗留膜层保留下来，并完成双色膜层的制作过程；当...

【技术特征摘要】
1. 一种多色耐磨金属装饰膜层的制作方法，其特征在于该方法包括以下步骤步骤一、第一次表面局部遗留膜层选定或制作首先，在被加工基材上选择一个外侧面 作为处理面；之后，以所述处理面作为第一次表面局部遗留膜层，或者通过常规PVD真空镀 膜方法或电镀法在所述处理面上镀一金属膜层一作为第一次表面局部遗留膜层，所述金属 膜层一为单质金属膜层、合金膜层或金属化合物膜层；步骤二、隔膜层制作及膜层局部破坏处理，其过程如下·201、隔膜层制作首先，对第一次表面局部遗留膜层的材质进行判断当第一次表面 局部遗留膜层为半导体膜层或碳化合物膜层时，采用机加工工具、化学腐蚀方法或电解腐 蚀刻蚀方法对所述第一次表面局部遗留膜层进行局部破坏，相应获得第一次表面局部遗留 膜层经局部破坏处理后的局部破坏处理面一；反之，采用电镀、PVD真空镀膜、电泳、喷涂或 粉刷方法采用PVD真空镀膜方法在所述第一次表面局部遗留膜层上镀一层或多层金属膜 层二、非金属膜层或半导体膜层作为作为隔膜层；所述金属膜层二为单质金属膜层、合金膜 层或金属化合物膜层，且所述金属膜层二与步骤一中所述金属膜层一的材质不同；·202、膜层局部破坏处理采用机加工工具、化学腐蚀方法或电解腐蚀刻蚀方法对所述 隔膜层单独进行局部破坏、穿过所述隔膜层由上至下对所述隔膜层和第一次表面局部遗留 膜层同时进行局部破坏或者穿过所述隔膜层和所述第一次表面局部遗留膜层由上至下对 所述隔膜层、第一次表面局部遗留膜层和被加工基材的处理面同时进行局部破坏，相应获 得经膜层局部破坏处理后的局部破坏处理面二；步骤三、第二次表面局部遗留膜层制作采用PVD真空镀膜方法在步骤201中所述的局 部破坏处理面一或步骤202中所述的局部破坏处理面二上镀一金属膜层三作为第二次表 面局部遗留膜层，并相应获得二次镀膜处理面一或二次镀膜处理面二 ；所述金属膜层二为 单质金属膜层、合金膜层或金属化合物膜层，且所述金属膜层三的材质与所述金属膜层二 的材质不同；步骤四、局部膜层剥离当对所述二次镀膜处理面一进行局部膜层剥离时，由于步骤三 中采用PVD真空镀膜方法在所述局部破坏处理面一上镀第二次表面局部遗留膜层过程中， 所镀的第二次表面局部遗留膜层不能附着于未被破坏的第一次表面局部遗留膜层上，则可 将步骤三中镀在未被破坏的第一次表面局部遗留膜层上的第二次表面局部遗留膜层直接 剥离，而将镀在已被破坏的第一次表面局部遗留膜层上的第二次表面局部遗留膜层保留下 来，并完成双色膜层的制作过程；当对所述二次镀膜处理面二进行局部膜层剥离时，采用化学腐蚀或电解腐蚀方法对隔 膜层进行剥离的同时并将镀在未被破坏的隔膜层上的第二次表面局部遗留膜层剥离，而将 镀在已被破坏的所述隔膜层上的第二次表面局部遗留膜层保留下来，并完成...

【专利技术属性】
技术研发人员：周晓宏，
申请(专利权)人：周晓宏，
类型：发明
国别省市：87[中国|西安]