本实用新型专利技术涉及热处理炉技术领域，尤其涉及一种用于保护气氛热处理炉的炉压稳定装，包括排放管，排放管的底端与热处理炉的炉顶连接、中部连通有旁通管并在旁通管内安装有压力检测器，排放管的顶部与盖板的首端配合，盖板为一个支点位于固定位置的杠杆结构，盖板的末端与执行器配合，压力检测器与执行器之间由转换器连接。本实用新型专利技术保护气体排放单独控制，有效的平抑实际炉压的波动；能在一定程度上，使炉膛处于“焖炉”状态，得到更好的压力场和温度场分布；保护气体的排放为间隙式排放，能有效的降低保护气消耗和燃料消耗。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及热处理炉
，尤其涉及一种用于保护气氛热处理炉的炉 压稳定装置。
技术介绍
目前，对于保护气氛的热处理炉，主要包括保护气供给系统和保护气排放系 统；保护气排放系统包括分别位于炉头、炉尾顶部的排放管道和手动调节蝶阀；保护气 供给系统包括均勻布置在炉壳下部的供气管和安装于其上的切断阀。在这种配置下，当炉膛某段的炉压低于设定值时，保护气供给系统相应的切断 阀自动打开，向炉膛内充入保护气体，维持相应的炉压；而当炉膛某段的炉压高于设定 值时，切断阀关闭，停止充入保护气体。在这个过程中，保护气排放系统上的手动调节 蝶阀的阀位是调试期间固定好的，不能自动参与炉压的稳定过程。因此，实际上在炉压的稳定过程中，保护气的供入端是间断工作的，而排放端 是连续排放的。这种配置有以下问题 (1)介质消耗高。首先，由于保护气排放端保持常开，而炉膛压力处于微正压， 因此炉内的保护气体一直处于排放状态，势必造成保护气体的浪费；其次，由于保护气 体的连续排放，将带来热量的不必要损失，造成燃料的浪费；(2)炉压分布不够均勻。由于保护气体的连续排放，会造成炉膛空间内存在一个 保护气体的流场，炉膛内压力分布一直不均勻，可能造成某些部位形成负压，热损失增 大，进而影响炉内的温度均勻性；(3)炉压波动大。由于炉膛空间足够大，在供给系统充气时，炉压检测点的检测 会有滞后性，当炉压值正常停止供气后，炉压仍会升高一定值。最终造成实际炉压存在 较大的波动。
技术实现思路
本技术的目的是为解决现有热处理炉炉压稳定技术中存在的问题，提出一 种保护气排放系统的间断工作、降低能耗、减小炉压波动的用于保护气氛热处理炉的炉压稳定装置。为达上述目的，本技术采取的方案为一种用于保护气氛热处理炉的炉压 稳定装置，包括排放管，其不同之处在于排放管的底端与热处理炉的炉顶连接、中部 连通有旁通管并在旁通管内安装有压力检测器，排放管的顶部与盖板的首端配合，盖板 为一个支点位于固定位置的杠杆结构，盖板的末端与执行器配合，压力检测器与执行器 之间由转换器连接。所述压力检测器包括有依次连接的连杆活塞、敏感膜盒和位移放大装置，连杆 活塞为可将炉压微压放大的两片不同面积活塞结构，连杆活塞将炉压变化传递给敏感膜盒和位移放大装置产生位移。所述转换器包括有接近开关，接近开关的前端感应面与位移放大装置的输出端 配合，将满足动作条件的位移信号转化为执行器的开关脉冲控制信号。所述执行器为位置固定的电磁铁，盖板末端设有软铁垫块，执行器由转换器控 制得失电。所述排放管外套有水套。所述排放管顶部设有挡块。本技术与现有技术相比，具备以下优点(1)保护气体排放单独控制；压力检测器检测炉压压力并转化成位移量，位移 量一旦满足动作条件，转换器控制接通执行器的电源，执行器带动盖板动作，从而有效 的平抑实际炉压的波动；(2)压力检测器转化的位移量不能满足预设的排放条件，则盖板始终不动作，能 在一定程度上，使炉膛处于“焖炉”状态，得到更好的压力场和温度场分布；(3)保护气体的排放为间隙式排放，能有效的降低保护气消耗和燃料消耗。附图说明图1为本技术盖板盖合状态的结构示意图；图2为本技术盖板开启状态的结构示意图；图3为本技术控制电路示意图；图中标记说明1-排放管；2-水套；3-盖板；4-压力检测器；5-转换器； 6_执行器；7-接近开关；8-继电器。具体实施方式为更好地理解本技术，以下结合附图和实施例对本技术的技术方案做 进一步的说明，参见图1至图3:按本技术实施的一种用于保护气氛热处理炉的炉压稳定装置，它由排放管 1、水套2、盖板3、压力检测器4、转换器5及执行器6组成，为降低排放管1的温度， 在排放管1圆周外采用密封焊接连接有水套2，水套2包含一套冷却水腔体和冷却水出入 口，冷却水从冷却水入口流入，在冷却水腔体循环流转后从冷却水出口流出，由于冷却 水腔体包裹在排放管1外周，加上冷却水的进水温度S33.5°C，所以排放气体及排放管1 的中部旁通管的冷却效果较好。排放管1的底端与热处理炉的炉顶钢板焊接，排放管1 的中部设置有旁通管，旁通管内安装有压力检测器4，排放管1的顶部与盖板3的首端配 合，并在配合处设有挡块，以支撑处于关闭位时的盖板3。盖板3的末端与执行器6配 合，压力检测器4与执行器6之间由转换器5连接。盖板3是一个支点位于固定位置的杠杆结构，它的首端为与排放管1管口形状匹 配的圆形钢板，在压力未超过预设排放值时用来盖住排放管1的出口，盖板3末端的固定 位置装有一个软铁垫块，用以接受执行器6的磁力作用，实现盖板3的开闭动作，由于盖板3首端自重大于末端，执行器6未产生磁力时，盖板3在自重作用下盖住排放管1的出□。压力检测器4是一套将炉膛气体的微压变化转化为位移变化的系统，它包括有 依次连接的连杆活塞、敏感膜盒和位移放大装置，连杆活塞为可将炉压微压放大的两片 不同面积活塞结构，大面积活塞部分与排放管1内部连通，小面积活塞部分与敏感膜盒 和位移放大装置连接，从而将将炉压的细微变化传递给敏感膜盒和位移放大装置产生并 放大的一个位移量。转换器5为将满足动作条件的位移信号转化为执行器6的开关脉冲控制信号的器 件，其包括有接近开关7，接近开关7的前端感应面与位移放大装置的输出端配合，当炉 内炉压变化达到预设值时，位移放大装置的输出端移动至接近开关7的感应范围内，使 接近开关7导通。位移放大装置的输出端与接近开关7的前端感应面之间的间距可以通 过位移指针调节，从而使得炉压预设阀值可调。执行器6为位置固定的电磁铁，其电源 电路通过继电器8与接近开关7串联，接近开关7导通，电磁铁线圈通电，产生磁性，吸 合盖板3预设的软铁垫块。本技术的实施过程为当炉膛压力上升到达预设阀值时，压力检测器4产 生的位移使位移放大装置的输出端移动至接近开关7的感应范围内，接近开关7导通，接 通执行器6的继电器8电源，电磁铁线圈通电，产生磁性，吸合盖板3末端的软铁垫块， 通过杠杆作用使盖板3支点首端的圆形盖板3开启，放泄炉膛剩余压力；反之，当炉膛 压力降低到预设定的排放值时，敏感金属膜盒复位，电磁铁电源断开，磁性消失，盖板3 复位，重新盖住排放管1出口，实现“焖炉”。以上所揭露的仅为本技术的较佳实施例而已，当然不能以此来限定本实用 新型之权利范围，因此依本技术申请专利范围所作的等效变化，仍属本技术的 保护范围。权利要求1.一种用于保护气氛热处理炉的炉压稳定装置，包括排放管(1)，其特征在于排放 管(1)的底端与热处理炉的炉顶连接、中部连通有旁通管并在旁通管内安装有压力检测 器(4)，排放管(1)的顶部与盖板(3)的首端配合，盖板(3)为一个支点位于固定位置的 杠杆结构，盖板(3)的末端与执行器(6)配合，压力检测器(4)与执行器(6)之间由转换 器(5)连接。2.根据权利要求1所述的用于保护气氛热处理炉的炉压稳定装置，其特征在于所 述压力检测器(4)包括有依次连接的连杆活塞、敏感膜盒和位移放大装置，连杆活塞为 可将炉压微压放大的两片不同面积活塞结构，连杆活塞将炉压变化传递给敏感膜盒和位 移放大装置产生位移。3.根据权利要求2所述的用于保护气氛热处理炉的炉压稳定装置，其特征在于所 述本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于保护气氛热处理炉的炉压稳定装置，包括排放管（１），其特征在于：排放管（１）的底端与热处理炉的炉顶连接、中部连通有旁通管并在旁通管内安装有压力检测器（４），排放管（１）的顶部与盖板（３）的首端配合，盖板（３）为一个支点位于固定位置的杠杆结构，盖板（３）的末端与执行器（６）配合，压力检测器（４）与执行器（６）之间由转换器（５）连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：冀勇，徐少春，占飞，
申请(专利权)人：中冶南方武汉威仕工业炉有限公司，
类型：实用新型
国别省市：83
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