Ｘ线分析装置以及Ｘ线分析方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供Ｘ线分析装置以及Ｘ线分析方法，能够以高作业效率、安全地进行试样测定。作为解决手段，使用了这样的Ｘ线分析装置，其特征在于，具有：放射线源，其向试样上的照射点照射放射线；Ｘ线检测器，其检测从试样放出的特性Ｘ线以及散射Ｘ线，输出包含特性Ｘ线以及散射Ｘ线的能量信息的信号；分析器，其对信号进行分析；载置试样的试样载置台；移动机构，其能够使试样载置台上的试样与放射线源及Ｘ线检测器相对地移动；高度测定机构，其能够测定试样上的照射点的高度；以及控制部，其根据测定到的试样上的照射点的高度，控制移动机构，调整试样与放射线源及Ｘ线检测器之间的距离。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对从试样表面产生的荧光χ线进行分析的χ线分析装置以及X线分析 方法。
技术介绍
在荧光X线分析中，将从X线源射出的X线照射到试样上，并用X线检测器检测作 为从试样放出的特性X线的荧光X线。由此，根据检测到的能量取得光谱，进行试样的定性 分析或定量分析。该荧光X线分析能够在不损坏试样的情况下迅速地进行分析，因此被广 泛用在制造工序或品质管理等中。近年来，能够以高精度和高灵敏度进行X线检测，因此能 够实现微量测定。尤其对于检测材料或复合电子元件等中含有的有害物质的分析方法，期 待着荧光X线分析的普及。以往，例如在专利文献1中提出了具有转换器(revolver)的复合装置，该转换器 能够在同一光轴上对光学显微镜的物镜与X线分析装置的X线产生器进行切换。在该复合 装置中，相对于光学显微镜检测到的分析位置，不需要进行试样的移动以及与该移动相伴 的分析对象位置的对准，能在相同的试样位置照射来自X线产生器的一次X线，进行X线分 析。另外，在该复合装置中，一边利用转换器改变物镜的倍率一边观察试样，且将Z方向(高 度方向)上的位置对准预先设定成，使得物镜的焦点位置与一次X线的焦点位置一致。专利文献1 日本特开2007-292476号公报上述现有技术还存留有以下课题。即，在测定试样时，需要预先进行调节，以预先 使物镜的焦点位置与一次X线的焦点位置在Z方向上一致。在上述专利文献1记载的技术 中，试样载置台控制部是独立的，因此需要作业者手动进行位置对准。另外，为了切换物镜 需要使旋转器旋转，因此作业效率差。而且，在测定凹凸较大的试样时，存在与物镜相撞的危险。专利技术内容本专利技术正是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供能够以高作业效率、安全地 进行试样测定的X线分析装置以及X线分析方法。本专利技术为了解决上述课题，采用了下述结构以及方法。即，本专利技术的X线分析装置 的特征在于，其具有放射线源，其向试样上的照射点照射放射线；X线检测器，其检测从试 样放出的特性X线以及散射X线，输出包含特性X线以及散射X线的能量信息的信号；对信 号进行分析的分析器；载置试样的试样载置台；移动机构，其能够使试样载置台上的试样 与放射线源及X线检测器相对地移动；高度测定机构，其能够测定试样上的照射点的高度； 以及控制部，其根据测定到的试样上的照射点的高度，控制移动机构，调整试样与放射线源 及X线检测器之间的距离。由此，能够准确地掌握试样高度，调整试样载置台上的试样与放 射线源以及X线检测器之间的距离。另外，本专利技术的X线分析装置的特征在于，其具有激光位移传感器。4另外，本专利技术的X线分析装置的特征在于，其具有使用了三角测距方式的激光位 移传感器。另外，本专利技术的X线分析装置的特征在于，其具有下述结构在从放射线源放射的 放射线的光轴与激光位移传感器的光轴为同轴的状态下，将放射线和从激光位移传感器射 出的激光照射到试样上。由此，即使是有凹凸的试样也能向放射线照射位置照射激光，因此 能够准确地测定放射线照射位置的高度。另外，本专利技术的X线分析装置的特征在于，其具有下述结构具有观察试样的试样 观察系统以及进行试样观察系统的焦点切换的焦点切换驱动机构，其中，根据高度测定机 构测定到的试样上的照射点的高度，控制焦点切换驱动机构，调整试样观察系统的焦点位 置。由此，能够观察测定点。另外，本专利技术的X线分析装置的特征在于，其具有下述结构在从放射线源放射的 放射线的光轴、具有焦点切换驱动机构的试样观察系统的光轴以及激光位移传感器的光轴 为同轴的状态下，将放射线与从激光位移传感器射出的激光照射到试样上。另外，本专利技术的X线分析装置的特征在于，其具有反射镜，其用于使激光位移传 感器的光轴同轴地位于放射线的光轴上；以及分束器，其用于使放射线的光轴、激光位移传 感器的光轴以及试样观察系统的光轴成为同轴。由此，能够将3个光轴设为同轴，因此，能 够节约设置空间，实现紧凑的装置。另外，本专利技术的X线分析装置的特征在于，其具有下述结构高度测定机构能够在 将试样载置于试样载置台上的状态下测定试样上的照射点的高度。另外，本专利技术的X线分析方法的特征在于，其具有以下步骤高度测定机构测定试 样上的照射点的高度的步骤；以及移动机构使试样载置台上的试样与放射线源及X线检测 器相对地移动，对照射点进行定位的步骤，在对照射点进行定位的步骤中，控制部根据测定 到的试样上的照射点的高度，控制移动机构，调整试样与放射线源及X线检测器之间的距 罔。另外，本专利技术的X线分析方法的特征在于，其具有由焦点切换驱动机构使试样观 察系统对焦至照射点的步骤，在对焦至照射点的步骤中，控制部根据测定到的试样上的照 射点的高度，控制焦点切换驱动机构，进行试样观察系统与试样之间的对焦。另外，本专利技术的X线分析方法的特征在于，其具有以下步骤高度测定机构测定试 样上的照射点的高度的步骤；以及根据试样上的照射点的高度照射放射线，进行测定/分 析的步骤，在进行测定/分析步骤中，在进行用于根据分析器求出的数据作定量分析的计 算时，根据放射线的标准照射位置与照射点的高度位置之差，对计算中使用的参数进行校 正。由此，能够准确地进行定量分析。根据本专利技术，起到如下效果。由高度测定机构准确掌握试样高度，由控制部调整试 样与放射线源及X线检测器之间的距离，由此，能够以高作业效率、安全地进行试样测定。附图说明图1是示出X线分析装置以及X线分析方法的一个实施方式中的X线分析装置的 实施例的概略性的整体构造图。图2是说明使试样与放射线源及X线检测器相对移动的移动机构的概略动作的实施例说明图。图3是说明焦点切换驱动机构的概略动作的实施例说明图。图4是说明三角测距方式激光位移传感器的试样高度测定方法的实施例说明图。标号说明1试样载置台；2X线管球(放射线源)；3X线检测器；4分析器；5观察系统；6焦 点切换驱动机构；7激光位移传感器；8移动机构；9控制部；10试样室；11测定头部；Pl照 射点；S试样；T试样高度。具体实施例方式下面，参照图1至图4说明本专利技术的X线分析装置以及X线分析方法的一个实施 方式。并且，在以下说明所使用的各图中，为了使各部件成为可识别的大小而根据需要对缩 尺进行了适当变更。本实施方式的X线分析装置例如是能量分散型荧光X线分析装置，如图1所示，该 X线分析装置具有载置试样S的可移动的试样载置台1 ；X线管球(放射线源)2，其向试样 S上的任意的照射点Pl照射一次X线(放射线)X1 ；X线检测器3，其检测从试样S放出的 特性X线以及散射X线，输出包含该特性X线以及散射X线的能量信息的信号；分析器4， 其与X线检测器3连接，对上述信号进行分析；观察系统5，其具有光学显微镜等，取得由照 明单元(未图示)照明的试样S的图像作为图像数据；焦点切换驱动机构6，其用于使观察 系统5在其光轴方向上移动，切换焦点位置；测定头部移动机构8，其能够使包含X线管球2 以及X线检测器3的测定头部11与试样载置台1上的试样S进行相对移动；激光位移传感 器7，其能够测定试样S上的任意照射点Pl处的试样高度；以及控制部9，其与分析器4连 接，进行判别与特定元素对应的X线强度的解析处理以及各机构的控制。上述X线管球2将以如下方式产生的X线作为一次X线Xl从铍箔等的窗口射出本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种Ｘ线分析装置，其特征在于，该Ｘ线分析装置具有：放射线源，其向试样上的照射点照射放射线；Ｘ线检测器，其检测从所述试样放出的特性Ｘ线以及散射Ｘ线，输出包含该特性Ｘ线以及散射Ｘ线的能量信息的信号；对所述信号进行分析的分析器；载置所述试样的试样载置台；移动机构，其能够使该试样载置台上的所述试样与所述放射线源及所述Ｘ线检测器相对地移动；高度测定机构，其能够测定所述试样上的照射点的高度；以及控制部，其根据测定到的所述试样上的照射点的高度，控制所述移动机构，调整所述试样与所述放射线源及所述Ｘ线检测器之间的距离。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：高原稔幸，
申请(专利权)人：精工电子纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]