本实用新型专利技术提供一种新型高效镀膜装置，包括一真空镀膜室，在该真空镀膜室内壁上设有隔热屏蔽层，外壁上接有真空抽气系统。所述真空镀膜室内安装有一个或多个磁控溅射靶，所述磁控溅射靶位于一距真空镀膜室中心一定距离的圆周上。在上述磁控溅射靶所在圆周与真空镀膜室中心之间的一圆周上安装有一个或多个工件架。同样，在上述磁控溅射靶所在圆周与真空镀膜室内壁之间的一圆周上也安装有一个或多个工件架。本实用新型专利技术采用在真空镀膜室内设有内外两圈工件转架结构，既能提高每炉镀膜产品的数量且保证镀膜质量，而且可以有效且合理地利用真空镀膜室的内部空间，从而极大地节省了能源消耗。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种新型高效镀膜装置，属于真空镀膜
技术介绍
现有技术中，真空镀膜技术为科学研究和生产提供了膜层涂覆的新工艺，为光学 研究、半导体电子学、表面科学、装饰工业等广泛的应用领域提供了新的技术手段。随着真 空镀膜技术的飞速发展，以及其应用领域的不断延伸和扩展，带动国内真空镀膜设备的设 计和制造水平得到了很大的提高，在许多方面缩短了与发达国家之间的差距。现有的磁控溅射镀膜装置多将磁控溅射靶安装在真空镀膜室的中心或内壁上。无 论磁控溅射靶安装在真空镀膜室的中心还是内壁上，真空镀膜室内的工件转架只可能安装 一圈，这样的布局尽管能够实现较好且较快地镀制膜层，但对于设计尺寸比较大的真空镀 膜室就会造成空间和资源的浪费，不利于降低生产成本以实现大规模工业生产。
技术实现思路
鉴于此，本技术的目的在于提供一种新型高效镀膜装置，其采用在真空镀膜 室内设有内外两圈工件转架结构，既能提高每炉镀膜产品的数量并保证镀膜质量，而且还 可以有效合理地利用真空镀膜室的内部空间，从而节省了能源的消耗。为实现上述目的，本技术提供的技术方案是一种新型高效镀膜装置，包括一 真空镀膜室，在该真空镀膜室内壁上设有隔热屏蔽层，外壁上接有真空抽气系统。所述真空镀膜室内安装有一个或多个磁控溅射靶，磁控溅射靶位于一距真空镀膜 室中心一定距离的圆周上。在上述磁控溅射靶所在圆周与真空镀膜室中心之间的一圆周上安装有一个或多 个工件架。在上述磁控溅射靶所在圆周与真空镀膜室内壁之间的一圆周上同样安装有一个 或多个工件架。所述工件架均可带动工件实现自转和公转。所述磁控溅射靶可以是固定的平面靶，也可以是能够转动的柱靶。本技术的技术效果在于本技术中的真空镀膜室内磁控溅射靶安装位 置呈圆周状分布，且在磁控溅射靶分布圆周的内外设有两圈工件转架结构，这样的布局既 可以增加每炉镀膜产品的数量且保证镀膜质量，又可有效合理地利用真空镀膜室的内部空 间，从而极大地节省了能源消耗。附图说明图1为本技术较佳实施例俯视图。具体实施方式如图1所示，本技术较佳实施例有一真空镀膜室1，在其内壁上装有隔热屏蔽 层2，外壁上接有真空抽气系统3。真空镀膜室1可以采用立式、卧式的圆柱形壳体，也可以 采用方形壳体。所述的真空抽气系统3是由机械泵、罗茨泵、分子泵、阀门及连接管道组成。在真空镀膜室1内安装有一个或多个磁控溅射靶10，所述磁控溅射靶10位于一 距真空镀膜室1中心一定距离的圆周A上，在本较佳实施例中，圆周A距真空镀膜室1中心 的距离约为512. 5mm。磁控溅射靶10可以是固定的平面靶，也可以是能够旋转的柱靶。在 上述磁控溅射靶10所在圆周A与真空镀膜室1中心之间的一圆周B上安装有一个或多个 工件架20，在本较佳实施例中，圆周A、B之间的径向距离约为172.5mm。同样，在上述磁控 溅射靶10所在圆周A与真空镀膜室1内壁之间的一圆周C上也安装有一个或多个工件架 20，在本较佳实施例中，圆周A、C之间的径向距离同样约为172. 5mm。上述工件架20为夹 持工件同时使工件运转的工具，其采用链传动系统实现工件的自转及公转两种运动，以达 到薄膜镀制均勻及连续工作的目的。当磁控溅射靶10开始工作时，溅射材料可同时溅射到 圆周B和圆周C上转动的工件表面。而且通过调整磁控溅射靶10的磁场强度和磁场方向 可保证内圈圆周B和外圈圆周C上工件的镀膜质量均勻一致。本技术较佳实施例的真空镀膜室1内磁控溅射靶10的安装位置呈圆周状分 布，且采用内外两圈工件转架结构，这样的布局既可以增加每炉镀膜产品的数量且保证镀 膜质量，又可有效合理地利用真空镀膜室1的内部空间，从而极大地节省了能源消耗。本
的普通人员应该认识到，以上的实施方式只是用来说明本技术， 而并非用作对本技术的限定，只要在本技术的实质精神范围之内，对以上实施例 所作的适当改变和变化都落在本技术要求保护的范围之内。权利要求一种新型高效镀膜装置，包括一真空镀膜室，在该真空镀膜室内壁上设有隔热屏蔽层，外壁上接有真空抽气系统，其特征在于所述真空镀膜室内安装有一个或多个磁控溅射靶，所述磁控溅射靶位于一距真空镀膜室中心一定距离的圆周上；在上述磁控溅射靶所在圆周与真空镀膜室中心之间的一圆周上安装有一个或多个工件架；在上述磁控溅射靶所在圆周与真空镀膜室内壁之间的一圆周上同样安装有一个或多个工件架。2.根据权利要求1所述的新型高效镀膜装置，其特征在于，所述工件架均可带动工件 实现自转和公转。3.根据权利要求1所述的新型高效镀膜装置，其特征在于，所述磁控溅射靶可以是固 定的平面靶，也可以是能够转动的柱靶。专利摘要本技术提供一种新型高效镀膜装置，包括一真空镀膜室，在该真空镀膜室内壁上设有隔热屏蔽层，外壁上接有真空抽气系统。所述真空镀膜室内安装有一个或多个磁控溅射靶，所述磁控溅射靶位于一距真空镀膜室中心一定距离的圆周上。在上述磁控溅射靶所在圆周与真空镀膜室中心之间的一圆周上安装有一个或多个工件架。同样，在上述磁控溅射靶所在圆周与真空镀膜室内壁之间的一圆周上也安装有一个或多个工件架。本技术采用在真空镀膜室内设有内外两圈工件转架结构，既能提高每炉镀膜产品的数量且保证镀膜质量，而且可以有效且合理地利用真空镀膜室的内部空间，从而极大地节省了能源消耗。文档编号C23C14/35GK201670871SQ20102018292公开日2010年12月15日 申请日期2010年4月1日 优先权日2010年4月1日专利技术者汪友林 申请人:深圳森丰真空镀膜有限公司;森科五金(深圳)有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种新型高效镀膜装置，包括一真空镀膜室，在该真空镀膜室内壁上设有隔热屏蔽层，外壁上接有真空抽气系统，其特征在于：所述真空镀膜室内安装有一个或多个磁控溅射靶，所述磁控溅射靶位于一距真空镀膜室中心一定距离的圆周上；在上述磁控溅射靶所在圆周与真空镀膜室中心之间的一圆周上安装有一个或多个工件架；在上述磁控溅射靶所在圆周与真空镀膜室内壁之间的一圆周上同样安装有一个或多个工件架。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：汪友林，
申请(专利权)人：深圳森丰真空镀膜有限公司，森科五金深圳有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]
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