本实用新型专利技术公开了一种具有内外对靶的双排工位真空镀膜装置，该装置包括有炉体、靶材组件、基材组件以及中心驱动器；中心驱动器设置在炉体内并与炉体连接；每一个靶材组件包括有内靶与外靶，内靶与外靶均设置在炉体内部，且内靶与外靶均与炉体连接；每一个基材组件中均包括有内基材安装件以及外基材安装件，内基材安装件以及外基材安装件均设置在内靶与外靶之间，且内基材安装件与外基材安装件均与中心驱动器连接。与现有技术相比，本申请中提供的具有内外对靶的双排工位真空镀膜装置具备基材入炉量高、驱动方便、基材镀膜效果好、能适用多种尺寸的基材镀膜场景。用多种尺寸的基材镀膜场景。用多种尺寸的基材镀膜场景。
【技术实现步骤摘要】
一种具有内外对靶的双排工位真空镀膜装置
[0001]本技术属于真空镀膜
，特别涉及一种镀膜装置。
技术介绍
[0002]真空镀膜是指将装有基片和靶材的真空室抽成真空，以蒸发和溅射等方式处理靶材，最终在基片表面镀上薄膜的过程。当采用蒸发方式处理靶材时，靶材表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，将沉降在基片表面，通过成膜过程后形成薄膜；而当采用溅射方式镀膜时，需采用电子或高能激光轰击靶材，使得靶材表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终在基片形成薄膜。无论是采用蒸发方式溅射方式处理靶材，都要求镀膜设备能构建具有指定真空度的真空室、并能保证靶材与基片之间有足够的、稳定的靶间距，这就要求真空镀膜装置中对基材设置固定工位，操作人员在真空镀膜前需将的基材一一挂装到对应工位上，保证基材再加工过程中稳定挂装、基材表面与靶材之间保持需求的间距后，才能在真空镀膜装置中抽真空，对基材开始真空镀膜加工。
[0003]现有技术中提供的真空镀膜装置真存在明显的入炉量少的问题：现有技术中提供的真空镀膜装置中往往以固定的靶材安装位固定靶材、以固定基材安装位安装单排基材，在这样的设置方式之下，镀膜装置单次只能加工单排基材，基材入炉量少，加工效率较低。
[0004]为解决上述问题，现有技术中提供了具有多工位、一次性可加工较多基材的镀膜装置，请参阅图1，如图1所示为现有技术中提供的具有双层工位的镀膜装置，在该镀膜装置中A1为外层基材，A2为内层基材，B为靶材；将该镀膜装置应用于具体的基材镀膜加工场景中时，操作人员可一次性挂装内外两层基材，以靶材对内层基材和外层基材同时作出镀膜加工处理，这样一来，同一镀膜装置的入炉量将大幅增加，镀膜装置的加工效率将得到大程度的提高。但应该指出，图1所示的具有多工位、一次性可加工较多基材的镀膜装置中由于同时设置了内层基材挂装位以及外层基材挂装位，则镀膜装置需要对应内层基材和外层基材对应设置转动和运送机构，以分别驱动内层基材和外层基材同时获得良好的镀膜效果，这无疑将提升镀膜装置自身制造难度以及制造成本。而与此同时，由于靶材设置在内层基材和外层基材之间，一旦该镀膜装置装配完成，则靶材内层基材或靶材与外层基材之间将分别具备对应的间距，该间距受制于靶材与内层基材的挂装位置或靶材与外层基材的挂装位置，是固定不变的，该镀膜装置虽解决了前述加工效率的问题，但仍无法解决不同尺寸的基材加工问题。
[0005]综上所述，如何改进真空镀膜装置结构，提出一种多工位、能适应不同尺寸基材的、传动便捷真空镀膜加工要求的真空镀膜装置，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
技术实现思路
[0006]为解决上述问题，本技术的目的在于提供一种真空镀膜装置，该真空镀膜装置中具备双排工位，入炉量大幅提升。
[0007]本技术另一个目的在于提供一种真空镀膜装置，该镀膜装置具有内外对靶，对基材镀膜效果更好。
[0008]为实现上述目的，本技术的技术方案如下：
[0009]一种具有内外对靶的双排工位真空镀膜装置，该装置包括有：
[0010]具有内部空间，用于构造真空镀膜环境的炉体；
[0011]至少一个用于装载镀膜靶材的靶材组件；
[0012]至少一个用于装载镀膜基材的基材组件；
[0013]以及，用于输出驱动力的中心驱动器；
[0014]中心驱动器设置在炉体内并与炉体连接；每一个靶材组件包括有内靶与外靶，内靶与外靶均设置在炉体内部，且内靶与外靶均与炉体连接；每一个基材组件中均包括有内基材安装件以及外基材安装件，内基材安装件以及外基材安装件均设置在内靶与外靶之间，且内基材安装件与外基材安装件均与中心驱动器连接。
[0015]进一步的，内靶包括有内靶电机以及内靶轴；内靶电机设置在炉体顶部，其电机机身与炉体连接，其电机输出轴向炉体内部伸出；内靶轴与内靶电机的电机输出轴连接；外靶与内靶成对设置，外靶包括有外靶电机以及外靶轴；外靶电机设置在炉体顶部，其电机机身与炉体连接，其电机输出轴向炉体内部伸出；外靶轴与外靶电机的电机输出轴连接。
[0016]进一步的，中心驱动器包括有中心驱动电机、恒星轮轴承以及中心恒星轮；中心驱动电机设置在炉体底部，其电机机身与炉体连接，其电机输出轴向炉体内部伸出；恒星轮轴承套接在中心驱动电机的电机输出轴上；恒星轮轴承的内轴瓦与中心驱动电机的电机输出轴连接；中心恒星轮套接在恒星轮轴承上，且中心恒星轮与恒星轮轴承的外轴瓦连接。
[0017]进一步的，中心驱动器还包括有转盘；转盘也套在中心驱动电机的电机输出轴上，转盘也与中心驱动电机的电机输出轴连接。
[0018]进一步的，每一个基材组件中还包括有传动件；传动件设置在内基材安装件与外基材安装件之间；传动件中包括有传动件底座以及传动轮；传动件底座设置在转盘上，与转盘连接；传动轮设置在传动件底座的一侧，与传动件底座连接，且传动轮与中心恒星轮啮合。
[0019]进一步的，内基材安装件包括有内基材底座、内基材轮以及内基材轴；内基材底座设置在转盘上，与转盘连接；内基材轮设置在内基材底座的一侧，与内基材底座连接；内基材轴设置在内基材底座靠近炉体内部的一侧，且内基材轴与内基材底座连接；内基材轴还与内基材轮连接；内基材轮与传动轮啮合；
[0020]外基材安装件包括有外基材底座、外基材轮以及外基材轴；外基材底座设置在转盘上，与转盘连接；外基材轮设置在外基材底座的一侧，与外基材底座连接；外基材轴设置在外基材底座靠近炉体外部的一侧，且外基材轴与外基材底座连接；外基材轴还与外基材轮连接；外基材轮与传动轮啮合。
[0021]与现有技术相比，本申请中提供的具有内外对靶的双排工位真空镀膜装置具备以下有益效果：
[0022]基材入炉量高：本申请中提供的真空镀膜装置中同时具备内基材安装件以及外基材安装件，单次操作时，可充分利用内基材安装件以及外基材安装件，在所有的内基材安装件以及外基材安装件挂装待镀膜基材，这样一来，相比起现有技术中进存在单排工位、单次
操作仅容许一排基材挂装镀膜的其他镀膜装置而言，本申请中提供的镀膜装置入炉量显著提升。
[0023]驱动方便：在本申请提供的真空镀膜装置中设置中心驱动器，以中心驱动电机输出统一驱动力，在其电机输出轴上套接转盘，并进一步将基材组件中的内基材安装件以及外基材安装件均嵌在转盘上，则从该设置层面而言，中心驱动电机输出的驱动力将传递给转盘，带动所有的基材组件随转盘在炉体内绕中心驱动电机公转；而与此同时，在本申请提供的真空镀膜装置中还设置中心恒星轮，中心恒星轮通过恒星轮轴承套接在中心驱动电机的电机输出轴上，因驱动轮内轴瓦与中心驱动电机连接，其外轴瓦与中心恒星轮连接，则当中心驱动电机的电机输出轴转动时，中心恒星轮并不随之转动，由于基材组件中设置了传动件，其中的传动轮与中心恒星轮啮合传动，而基材组件中内基材安装件的内基材轮以及外基材安装件中的外基材轮也分别与传动轮啮合传动，则对于该真空装置而言，当中心驱本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种具有内外对靶的双排工位真空镀膜装置，其特征在于，该装置包括有：具有内部空间，用于构造真空镀膜环境的炉体；至少一个用于装载镀膜靶材的靶材组件；至少一个用于装载镀膜基材的基材组件；以及，用于输出驱动力的中心驱动器；所述中心驱动器设置在所述炉体内并与所述炉体连接；每一个所述靶材组件包括有内靶与外靶，所述内靶与外靶均设置在所述炉体内部，且所述内靶与所述外靶均与所述炉体连接；每一个所述基材组件中均包括有内基材安装件以及外基材安装件，所述内基材安装件以及所述外基材安装件均设置在所述内靶与所述外靶之间，且所述内基材安装件与所述外基材安装件均与所述中心驱动器连接。2.如权利要求1所述的具有内外对靶的双排工位真空镀膜装置，其特征在于，所述内靶包括有内靶电机以及内靶轴；所述内靶电机设置在所述炉体顶部，其电机机身与所述炉体连接，其电机输出轴向所述炉体内部伸出；所述内靶轴与所述内靶电机的电机输出轴连接；所述外靶与所述内靶成对设置，所述外靶包括有外靶电机以及外靶轴；所述外靶电机设置在所述炉体顶部，其电机机身与所述炉体连接，其电机输出轴向所述炉体内部伸出；所述外靶轴与所述外靶电机的电机输出轴连接。3.如权利要求2所述的具有内外对靶的双排工位真空镀膜装置，其特征在于，所述中心驱动器包括有中心驱动电机、恒星轮轴承以及中心恒星轮；所述中心驱动电机设置在所述炉体底部，其电机机身与所述炉体连接，其电机输出轴向所述炉体内部伸出；所述恒星轮轴承套接在所述中心驱动电机的电机输出轴上；所述恒星轮轴承的内轴瓦与所述中心驱动电机的电机输出轴连接；所述中心恒星轮套...
【专利技术属性】
技术研发人员：汪达文，陆作军，汪选林，
申请(专利权)人：深圳森丰真空镀膜有限公司，
类型：新型
国别省市：
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