The current user using optical critical dimension (OCD) detection equipment, need to inform the optical new contour key size detecting equipment manufacturers made only after the spectral profile template calculation, a long period of time, poor confidentiality. The present invention provides a method for user profile in the optical critical dimension detection equipment, the establishment of a contour template method comprises the following steps: ii. to obtain the location information of at least two control point and the reference point; geometric regularity of III. between obtaining at least one of the control points of connection; rule of geometric location information and connections the control point and the reference point as the template contour data, the corresponding connection geometry rules for connection in the corresponding position of the control points, in order to form as the template contour graph. By using the scheme provided by the invention, the user can customize the outline, and the profile information of the optical key dimension detector can not be communicated to the optical key size detection equipment supplier, thereby shortening the time and having good confidentiality.
【技术实现步骤摘要】
本应用涉及半导体制造工艺的光学关键尺寸(OCD)检测设备中的各种形状的样 品轮廓模型化。
技术介绍
半导体工艺中的许多特征尺寸可以反应在专门设计用于测量的区域里。目前有各 种成像技术应用于半导体工艺的特征尺寸测量，如扫描电子显微镜(⑶-SEM)、原子力显微 镜(AFM)，可实现高精度的CD尺寸、沟槽深度尺寸的检测，但其检测过程复杂，对样品具有 破坏性，无法实现在线检测。光学关键尺寸(Optical CritiCalDimensions，OCD)检测设备 通过获取的被测区域周期性结构的光学散射信号以及周期结构的模型从而估计出结构的 特征尺寸。光学关键尺寸检测方法具有非接触性、非破坏性、同时检测多个工艺特征、可实 现工艺的在线检测等诸多优势，因此越来越广泛地应用于半导体制造工业中，并朝着更快 速更准确地检测愈精细结构的方向迅速发展。基于周期性结构光学散射原理的光学关键尺寸检测方法检测的流程如附图说明图1所示。 AOl为反射式光谱仪获取样品测量光谱的模块。反射式光谱仪的光源经过起偏器入射至样 品的被测周期性结构区域，经过样品的反射，反射光中包含了样品的结构、材料等信息...
【技术保护点】
１．一种在光学关键尺寸检测设备中用于自定义轮廓模板的方法，包括如下步骤：ｉｉ．获取至少两个控制点以及基准点的位置信息；ｉｉｉ．获取至少一对所述控制点之间的连线的几何规律；所述控制点和基准点的位置信息和连线的几何规律作为所述轮廓模板的数据，相应几何规律的所述连线用于连接位于相应位置的所述控制点，以形成作为所述轮廓模板的图形。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：施耀明，刘国祥，张振生，刘志钧，徐益平，
申请(专利权)人：睿励科学仪器上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。