【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学测量领域，特别是涉及一种光学测量装置、光学测量系统及光学测量方法。
技术介绍
1、随着半导体集成电路的发展，亟需光学测量装置来保证制造工艺的稳定性，确保产品质量。现有的半导体光学量测设备存在波段较窄、测量过程中光学器件切换频繁等缺陷，对于集成度较高的半导体光学测量设备，存在能量较低、紫外能量随时间持续衰减等问题。这些问题不仅降低了测量效率，同时对测量精度造成很大的影响，且部分设备无法对测量过程进行实时监控。
2、对于半导体量检测领域，尤其是半导体膜厚量测，系统的波段范围与能量大小尤为重要。波段的宽度会限制设备所能精准量测半导体膜层厚度的范围，量测亚纳米级至微米级的膜厚需要使用到紫外至近红外波段的光，且量测时，对所需波段的能量大小有一定的要求。因此，保证能量整体较高，且不会较快衰减成为重中之重。
3、当前亟需一款能够同时进行实时监控与光学测量的系统，来完成对晶圆薄膜厚度的测量以及其它光学参数的测量。目前这方面技术多处于国外极少数设备商手中，对此半导体量测系统的研究有助于打破国外垄断，对我国半导体产...
【技术保护点】
1.一种光学测量装置，其特征在于，所述光学测量装置至少包括：第一光路调控模块、第二光路调控模块、光路传输模块、光学测量模块及光学成像模块；
2.根据权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述第一光路调控模块包括第一分光镜和第一物镜；
3.根据权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述第二光路调控模块包括第二分光镜和第二物镜；
4.根据权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述光路传输模块包括第三分光镜和第一筒镜；
5.根据权利要求4所述的光学测量装置，其特征在于：当所述第一分光束是经过所述第三分光镜透射得到的...
【技术特征摘要】
1.一种光学测量装置，其特征在于，所述光学测量装置至少包括：第一光路调控模块、第二光路调控模块、光路传输模块、光学测量模块及光学成像模块；
2.根据权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述第一光路调控模块包括第一分光镜和第一物镜；
3.根据权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述第二光路调控模块包括第二分光镜和第二物镜；
4.根据权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述光路传输模块包括第三分光镜和第一筒镜；
5.根据权利要求4所述的光学测量装置，其特征在于：当所述第一分光束是经过所述第三分光镜透射得到的，所述第三分光镜的透射率为60％-80％；当所述第一分光束是经过所述第三分光镜反射得到的，所述第三分光镜的反射率为60％-80％。
6.根据权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述光学测量模块还包括第一抛物镜、第二抛物镜和第三抛物镜；所述第一光信号依次经所述第一抛物镜、所述第二抛物镜和所述第三抛物镜反射进入所述第一光路调控模块。
7.根据权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：张健，臧笑妍，孙建超，庄源，
申请(专利权)人：睿励科学仪器上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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