【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光照射装置，该光照射装置作为在半导体集成电路或液晶显示元件等的制造中使用的曝光装置的光源装置。
技术介绍
图4是表示现有技术的在曝光装置的光源装置中使用的光照射装置的结构。光照射装置1具有放射包含紫外线的光的灯2、将从灯2出射的光聚光的剖面为椭圆形的聚光镜3、使光路折返的平面镜4、使在照射光的面(光照射面)11上照度分布均匀的集成透镜(也称为复眼透镜)5、使从集成透镜出射的光的光路折返并且使入射的光成为平行光而出射的准直反射镜6等。此外，可以使用准直透镜代替准直反射镜。在将掩模10置于光照射面11上时，在掩模10上形成的掩模图案经由投影透镜12投影至涂敷了抗蚀剂的基板13上，由此进行曝光。此外，有的曝光装置不使用投影透镜，使掩模与基板近接或紧贴来进行曝光。灯2例如是氙气灯或超高压水银灯等短弧式的放电灯。如上所述，聚光镜3的剖面形状为椭圆形，灯2的发光部的亮点位于聚光镜3的第一焦点，集成透镜5的光入射面位于聚光镜3的第二焦点。在这样的光照射装置中，在聚光镜3的顶点附近形成有贯通孔31，灯2在穿插在该贯通孔31中的状态下固定在未图示的保持构件上。因此，...
【技术保护点】
１．一种光照射装置，具有：灯，放射包含紫外线的光；椭圆聚光镜，反射从上述灯放射的光并使其聚光，并在该椭圆聚光镜的顶点附近形成有用于灯通过的贯通孔；集成光学元件，入射被上述椭圆聚光镜聚光的光，使光照射面上的照度分布均匀；以及平面镜，将被上述椭圆聚光镜反射的光向上述集成光学元件的方向反射；其特征在于，在上述平面镜上，在由照射来自椭圆聚光镜的反射光的区域包围的放射照度低的区域，形成贯通孔，来自设置在上述平面镜的背面侧的激光二极管的光经由上述贯通孔出射。
【技术特征摘要】
2010.02.08 JP 025126/20101.一种光照射装置，具有：灯，放射包含紫外线的光；椭圆聚光镜，反射从上述灯放射的光并使其聚光，并在该椭圆聚光镜的顶点附近形成有用于灯通过的贯通孔；集成光学元件，入射被上述椭圆聚光镜聚光的光，使光照射面上的照度分布均匀；以...
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