【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光照射装置，尤其涉及半导体、印刷电路板、液晶基板等的图案形成所 使用的曝光装置及将液晶面板等的面板粘合的粘合装置等中，经由被掩模保持机构保持的 掩模而对被照射物照射光的光照射装置。
技术介绍
在用以制造半导体、印刷电路板、液晶基板等的曝光工序中，使用经由形成了图案 的掩模而照射包含紫外线(曝光光)的光、将掩模图案转印于工件的曝光装置。作为此种曝 光装置，存在使掩模与工件接近、将掩模图案转印于工件上的近接式曝光装置(proximity exposure)。此外，即使在粘合液晶面板的粘合装置中，也进行利用近接式曝光装置的粘合。例如，液晶面板的粘合采用以下的方法。首先，在透光性基板上，形成作为光(紫 外线)硬化树脂的密封剂的包围，在其中滴下液晶。接着，在其上再载置1张透光性基板， 透过透光性基板，对密封剂照射包含紫外线的光。由此，粘合两张透光性基板。若液晶被紫 外线照射则会引起特性变化，因此，使用将密封部以外的部分予以遮光的掩模，经由遮光掩 模，使进行粘合的透光性基板与遮光掩模接近地照射光(紫外线)，以使得对密封部以外不 照射紫外线。然而，近年来，液晶基...
【技术保护点】
１．一种光照射装置，通过透光性的掩模保持机构来吸附保持形成有图案的掩模，并将从光照射部射出的光经由上述掩模照射到被照射物，其特征为：上述掩模保持机构具备：比掩模的一个方向的长度长、且下表面形成有用以吸附保持掩模的真空吸附槽或真空吸附孔的透光性的棒状构件；以及从下方支持上述棒状构件的支持框架。
【技术特征摘要】
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