【技术实现步骤摘要】
本技术属于一种硅片加工装置，具体的是一种用于硅片加热氧化工 艺的氧化炉中的石英舟，该石英舟用于支撑装载硅片，送入氧化炉内进行工 艺处理。
技术介绍
硅片是一种重要的半导体材料，它的加工工艺，特别是氧化工艺对硅片 的装载器具材料、结构要求非常独特的。目前国内设计的氧化炉大多是卧式 结构的，石英舟的设计也是为卧式结构。但对于300mm的硅片氧化工艺来 讲，卧式炉已无法满足其要求。国际上立式氧化炉已经非常成熟，石英舟结 构也五花八门。本专利设计的支撑硅片的石英舟的结构更加完善。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决上述技术问题，提出一种300mm立式氧 化炉石英舟，该石英舟设计完善合理，保障硅片的工艺效果好。本技术的目的是通过以下技术方案来实现的300mm立式氧化炉 石英舟，其特征在于设有支撑杆、加强筋、石英底板、石英顶板；所述支 撑杆设有四根，竖向垂直固定在所述石英底板和石英顶板之间，其相互间隔 地设置，该间隔方便硅片取放；在该支撑杆上横向设有支撑硅片的支撑齿； 在支撑杆之间，横向设有加强筋；在所述石英底板的底面设有与氧化炉保温 桶联结的卡齿。本技术具有以下优点1.石英舟采用四杆支撑，四点支撑硅片更有效的承载硅片，减少了硅片 因受热变形产生的应力。，r苗iit右名水+n3g,ft 田，并古樘罢古焯讧 /f击苴苗"hn汆问台fe够有效、准确地承载硅片。3、石英底板下面设置的卡齿使石英底板与石英保温桶准确定位，保证 石英舟在氧化炉的反应管内处于正确的位置，完成承载硅片进行工艺的作用。附图说明图1是本技术的仰视结构示意图2是本技术的左侧支撑杆结构示意图3是图5中...
【技术保护点】
一种３００ｍｍ立式氧化炉石英舟，其特征在于：设有支撑杆（１）、加强筋（２）、石英底板（３）、石英顶板（４）；所述支撑杆设有四根，竖向垂直固定在所述石英底板和石英顶板之间，其相互间隔地设置，该间隔方便硅片取放，在该支撑杆上横向设有支撑硅片的支撑齿（１．１）；在支撑杆之间，横向设有加强筋；在所述石英底板的底面设有与氧化炉保温桶联结的卡齿（４．１）。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：钟华，董金卫，赵星梅，胡星强，艾伦埃马米，
申请(专利权)人：北京七星华创电子股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]
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