一种陶瓷管壳的烧结辅助装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种陶瓷管壳的烧结辅助装置，其构成包括上端盖（１）、下端盖（２）和承烧钵（３），所述的下端盖（２）放置在承烧钵（３）上，上端盖（１）放置在待烧的陶瓷管壳生坯（４）的上端，陶瓷管壳生坯（４）的下端放置在下端盖（２）上。本实用新型专利技术将待烧的陶瓷管壳生坯放置在上、下端盖以及承烧钵中，通过上端盖来控制陶瓷管壳的上端烧结变形，通过下端盖和承烧钵来控制陶瓷管壳的下端烧结变形，使陶瓷管壳的烧结变形有效地控制在２％以内，很好的控制了陶瓷管壳的烧结变形，大大减少了废品，提高了产品的质量。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种真空灭弧室用陶瓷管壳的烧结辅助装置，属于输变电设备的

技术介绍
真空灭弧室，又名真空开关管，是中高压电力开关的核心部件，其主要作用是通过 管内真空优良的绝缘性使中高压电路切断电源后能迅速熄弧并抑制电流，避免事故和意外 的发生，主要应用于电力的输配电控制系统以及冶金、矿山、石油、化工、铁路等配电系统。 陶瓷管壳是真空灭弧室的关键部件之一。目前，陶瓷管壳在烧结时是将陶瓷管壳生坯直接 放置在高温窑炉的推板上，然后根据相应的烧结工艺进行烧结，在烧结的过程中最容易产 生的废品是烧结变形。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题在于提供一种陶瓷管壳的烧结辅助装置，从而有 效的控制烧结变形，减少废品。为解决上述技术问题，本技术的技术方案陶瓷管壳的烧结辅助装置。其构成 包括上端盖、下端盖和承烧钵，所述的下端盖放置在承烧钵上，上端盖放置在待烧的陶瓷管 壳生坯的上端，陶瓷管壳生坯的下端放置在下端盖上。上述的陶瓷管壳的烧结辅助装置中，所述的上端盖带有锥度，其锥角α为0°<α <180° ；在上端盖的中心开有孔，其孔径Da* Omm < Da < 100mm;上端盖的内表面 采用圆弧连接，其圆弧半径Ra为0 50mm ；在上端盖上设有环形沟槽，在环形沟槽内有隔粘 粉；待烧的陶瓷管壳生坯的上端放置在环形沟槽内。前述的陶瓷管壳的烧结辅助装置中，所述的下端盖带有锥度，其锥角β为0°<β <180° ；下端盖的内表面采用圆弧连接，其圆弧半径&为0 50mm;下端盖的中心 为平台，平台直径Db为0 50mm ；在下端盖上设有环形台阶和环形平面，在环形平面上撒有 隔粘粉；陶瓷管壳生坯的下端装在环形台阶的外面并放置在环形平面上。前述的陶瓷管壳的烧结辅助装置中，所述的承烧钵的底面为平底，表面为锥面，其 锥角Y为0° < γ <180° ；承烧钵的中心为平台，平台直径0。为0 50mm;在承烧钵的 表面撒有隔离粉。本技术的有益效果与现有技术相比，为了有效的控制陶瓷管壳的烧结变形， 本技术采用独具特点的上、下端盖以及承烧钵作为辅助烧结装置，将待烧的陶瓷管壳 生坯放置在上、下端盖以及承烧钵中，通过上端盖来控制陶瓷管壳的上端烧结变形，通过下 端盖和承烧钵来控制陶瓷管壳的下端烧结变形，使陶瓷管壳的烧结变形有效地控制在2% 以内，很好的控制了陶瓷管壳的烧结变形，大大减少了废品，提高了产品的质量，而且产品 的一致性较好。附图说明图1是本技术的结构示意图；图2是本技术的上端盖结构示意图；图3是本技术的下端盖结构示意图；图4是本技术的承烧钵结构示意图。以下结合附图和具体实施方式对本技术作进一步的说明。具体实施方式实施例1。如图1所示，包括上端盖1、下端盖2和承烧钵3，下端盖2放置在承烧 钵3上；上端盖1放置在待烧的陶瓷管壳生坯4的上端，待烧的陶瓷管壳生坯4的下端放置 在下端盖2上。上端盖1带有锥度(如图2所示)，其锥角α为0° < α <180° ；在上端 盖1的中心开有孔5，其孔径Da< Da < IOOmm ；上端盖1的内表面采用圆弧连接，其 圆弧半径Ra为0 50mm ；在上端盖1的边沿上设有环形沟槽6 ；在环形沟槽6内均勻粘附 有隔粘粉，隔粘粉可以采用钢玉砂粉、氧化铝粉或氧化锆粉等，其用来防止烧结后的陶瓷管 壳粘在上端盖1上，待烧的陶瓷管壳生坯4的上端放置在环形沟槽6内。下端盖2也带有 锥度(如图3所示)，其锥角β为0° < β < 180° ；下端盖2的内表面采用圆弧连接，其 圆弧半径Rb为0 50mm ；下端盖2的中心为平台，平台直径Db为0 50mm ；在下端盖2的 边沿上设有环形台阶7和环形平面8，在环形平面8上均勻撒有隔粘粉，隔粘粉可以采用钢 玉砂粉、氧化铝粉或氧化锆粉等，其用来防止烧结后的陶瓷管壳粘在下端盖2上。待烧的陶 瓷管壳生坯4的下端套在环形台阶7的外面并放置在环形平面8上。承烧钵3的底面为平 底(如图4所示)，表面为锥面，其锥角γ为0° < Y < 180° ；承烧钵3的中心为平台， 平台直径Dc为0 50mm ；承烧钵3的锥角、及平台直径Dc分别与下端盖2的锥角β及 平台直径Db相对应。将下端盖2放置在承烧钵3上，能更好的控制陶瓷管壳下端的烧结变 形。在承烧钵3的表面撒有隔离粉，隔离粉可以采用钢玉砂粉、氧化铝粉或氧化锆粉等，通 过隔离粉可以使下端盖2底面的各部分与承烧钵3之间的摩擦力保持一致，从而保证在整 个烧结过程中下端盖2的各部分能同步、均勻的收缩。烧结前，首先在承烧钵3的表面均勻撒一层隔离粉，然后将下端盖2放在承烧钵3 的锥形面上，并在下端盖2的环形平面8上均勻的撒上一层隔粘粉，然后将待烧的陶瓷管壳 生坯4的下端放置在下端盖2上，此时陶瓷管壳生坯4的下端是套在下端盖2的环形台阶 7外面，并且陶瓷管壳生坯4的底部是放置在下端盖2的环形平面8上；陶瓷管壳的内径靠 环形台阶7控制，从而达到控制陶瓷管壳下端烧结变形的效果。然后在上端盖1的环形沟 槽6内均勻的粘附一层隔粘粉，再将上端盖1放置在待烧的陶瓷管壳生坯4的上端，此时陶 瓷管壳生坯4的上端正好位于环形沟槽6内，从而控制陶瓷管壳上端的烧结变形；然后将装 有上端盖1、下端盖2和承烧钵3的陶瓷管壳生坯4放置在高温隧道窑的推板上，按照陶瓷 管壳的常规烧结工艺进行烧结。本技术的实施方式不限于上述实施例，在不脱离本技术宗旨的前提下做 出的各种变化均属于本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种陶瓷管壳的烧结辅助装置，包括上端盖（１）、下端盖（２）和承烧钵（３），其特征在于：所述的下端盖（２）放置在承烧钵（３）上，上端盖（１）放置在待烧的陶瓷管壳生坯（４）的上端，陶瓷管壳生坯（４）的下端放置在下端盖（２）上。

【技术特征摘要】
一种陶瓷管壳的烧结辅助装置，包括上端盖(1)、下端盖(2)和承烧钵(3)，其特征在于所述的下端盖(2)放置在承烧钵(3)上，上端盖(1)放置在待烧的陶瓷管壳生坯(4)的上端，陶瓷管壳生坯(4)的下端放置在下端盖(2)上。2.根据权利要求1所述的陶瓷管壳的烧结辅助装置，其特征在于所述的上端盖(1) 带有锥度，其锥角α为0° < α < 180° ；在上端盖(1)的中心开有孔(5)，其孔径Da* Omm < Da < IOOmm ；上端盖(1)的内表面采用圆弧连接，其圆弧半径Ra为0 50mm ；在上端 盖(1)上设有环形沟槽(6)，在环形沟槽(6)内有隔粘粉；待烧的陶瓷管壳生坯(4)的上端 放置在环形沟槽(6)内。3.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：李润江，杨永洪，勾定江，傅凤翠，
申请(专利权)人：中国振华电子集团宇光电工有限公司，
类型：实用新型
国别省市：52[中国|贵州]