一种聚四氟乙烯烧杯制造技术

技术编号:5973485 阅读:196 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术属于一种烧杯,具体涉及一种聚四氟乙烯烧杯,解决了现有平底聚四氟乙烯烧杯不适于硅氟酸钾法分析硅的实验使用的问题。聚四氟乙烯烧杯,其特征在于所述的烧杯底部为向内凹形,内凹度为6~8度。本实用新型专利技术具有如下有益效果:在将杯底制成凹形,使中和反应时间缩短,从而使数据分析时间缩短,实验不合格率减少,大大提高了实验分析效率。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于一种烧杯,具体涉及一种聚四氟乙烯烧杯
技术介绍
硅氟酸钾法分析硅实验涉及的反应溶解反应FeSi+10HNO3+6HF=H2SiF6+Fe(NO3)3+7NO2 t +7H20 生成氟硅碳钾H2SiF6+2KN03=K2SiF6 i +2HN03水解反应K2SiF6+4H2O^H4Si04+2KF+4HF (水解反应温度控制在80度 左右即可)中和反应HF+NaOH=NaF+H20由于硅氟酸钾在反应过程中,对玻璃有腐蚀作用所以需要使用聚四氟乙烯 烧杯来进行实验。而目前聚四氟乙烯烧杯均为平底,在硅氟酸钾法分析硅的实验中,使用平 底烧杯有如下弊端1、由于中和过程中仅加10ml溶液,不能将滤纸及沉淀物 完全覆盖,从而使中和反应不能完全进行,增大了中和反应时间。2、在搅拌滤 纸时,由于杯底光滑而使滤纸随意移动,导致溶液的飞溅。
技术实现思路
本技术为了解决现有平底聚四氟乙烯烧杯不适于硅氟酸钾法分析硅的 实验使用的问题,提供了一种新型的聚四氟乙烯烧杯。 本技术采用如下的技术方案实现一种聚四氟乙烯烧杯,其特征在于所述的烧杯底部为向内凹形,内凹度为6~8度。本技术具有如下有益效果在将杯本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚四氟乙烯烧杯,其特征在于所述的烧杯底部为向内凹形。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:原海
申请(专利权)人:交城义望铁合金有限责任公司
类型:实用新型
国别省市:14[中国|山西]

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