高纯度烯胺类的制备方法技术

一种高纯度的、具有通式（３）的化合物的制备方法，该方法包括使具有通式（１）的化合物与具有通式（２）的化合物反应的步骤，以及将通过该步骤得到的反应混合物在０℃－３０℃用酸性水进行处理的步骤：通式（１）中，Ｒ↑［１］表示Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基等，Ｒ↑［２］表示氢原子等，或者Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］结合一起表示Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］亚烷基；通式（２）中，Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］表示Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基等；通式（３）中，Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］表示与上述相同的含意。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及简便地制备高纯度烯胺化合物的方法。
技术介绍
烯胺为αβ-不饱和胺的总称，是有机合成化学上极为有用的化合物。通常通过醛或酮与仲胺的脱水缩合反应合成。合成烯胺时，与用1当量醛或酮与1当量仲胺反应相比，用1当量以上的仲胺与1当量的醛或酮反应，反应更易进行，这是普遍已知的。在这样使用过量仲胺进行反应的情况下，反应结束后，除目标物质烯胺外，结果还残存有仲胺。这样制得的烯胺虽然可以不经纯化，直接用于其它反应，但在例如烯胺与卤代烷基进行缩合反应的情况下，由于仲胺阻碍反应，因而需要对烯胺进行纯化。通常已知分馏是用于纯化烯胺的操作，但在打算进行大量生产时，存在需要大规模分馏设备、高温分馏使烯胺分解等缺点。并且已知烯胺在水中的稳定性很差，还有关于各种烯胺的水解速度(机理)的报道。
技术实现思路
本专利技术人对制备高纯度烯胺的方法进行了深入研究，结果发现采用特定仲胺制得的烯胺具有出乎意料的水中稳定性，还发现通过用水(酸性水)进行处理这样简便的操作，可以制备高纯度的烯胺，从而完成了本专利技术。本专利技术涉及(1)高纯度的、具有通式(3)的化合物的制备方法，该方法包括使具有通式(1)的化合物与具有通式(2)的化合物反应的步骤，以及将通过该步骤得到的反应混合物在0℃-30℃用酸性水进行处理的步骤通式(1) (式中，R1和R2相同或不同，分别表示氢原子，C1-C6烷基，被选自取代基组α和取代基组β的基团取代的C1-C6烷基，C6-C14芳基，被选自取代基组α的基团取代的C6-C14芳基，含有1-3个硫原子、氧原子和/或氮原子的5-7元杂芳基或者被选自取代基组α的基团取代的含有1-3个硫原子、氧原子和/或氮原子的5-7元杂芳基，或者R1和R2一起表示C1-C6亚烷基；取代基组α包括羟基、硝基、氰基、卤原子、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基和二(C1-C6烷基)氨基；取代基组β包括C6-C14芳基，被选自取代基组α的基团取代的C6-C14芳基，含有1-3个硫原子、氧原子和/或氮原子的5-7元杂芳基以及被选自取代基组α的基团取代的含有1-3个硫原子、氧原子和/或氮原子的5-7元杂芳基)；通式(2)R3-(NH)-R4(2)(式中，R3和R4相同或不同，分别表示C1-C6烷基、被C1-C6烷氧基取代的C1-C6烷基或C3-C6环烷基)；通式(3) (式中，R1、R2、R3和R4表示与上述相同的含意)。上述方法中，优选的方法有 (2)其中R1为C1-C6烷基、被选自取代基组α和取代基组β的基团取代的C1-C6烷基、C6-C14芳基或被选自取代基组α的基团取代的C6-C14芳基，或者R1和R2一起形成C1-C6亚烷基的方法；(3)其中R1为C1-C6烷基、被选自取代基组α和取代基组β的基团取代的C1-C6烷基、C6-C14芳基或被选自取代基组α的基团取代的C6-C14芳基的方法；(4)其中R1为C1-C4烷基，被羟基、氟原子、氯原子、甲氧基或苯基取代的C1-C4烷基，苯基，萘基，或被氟原子、氯原子、甲基或甲氧基取代的苯基的方法；(5)其中R1为甲基、丙基或苄基的方法；(6)其中R2为氢原子、C1-C6烷基或被选自取代基组α和取代基组β的基团取代的C1-C6烷基的方法；(7)其中R2为氢原子或C1-C4烷基的方法；(8)其中R2为氢原子的方法；(9)其中R3和R4相同或不同，分别表示C2-C5烷基、被C1-C4烷氧基取代的C2-C5烷基或C4-C6环烷基的方法；(10)其中R3和R4相同或不同，分别为异丙基、异丁基、异戊基、2-甲氧基乙基、3-甲氧基丙基、2-乙氧基乙基、环戊基或环己基的方法；(11)其中R3和R4分别为异丁基的方法；(12)其中酸性水的pH为2-6的方法；(13)其中酸性水是选自稀硫酸、稀盐酸和稀硝酸这样的无机酸的稀水溶液或者是选自乙酸水溶液、草酸、碳酸、柠檬酸和磷酸水溶液的有机酸的水溶液的方法；(14)其中酸性水为稀硫酸或乙酸水溶液的方法；(15)其中无机酸水溶液的浓度为1-15w/v％，有机酸水溶液的浓度为3-20w/v％的方法；(16)其中无机酸水溶液的浓度为5-10w/v％，有机酸水溶液的浓度为5-15w/v％的方法；(17)其中无机酸水溶液的浓度为6-8w/v％，有机酸水溶液的浓度为8-10w/v％的方法；(18)其中用酸性水处理时的温度为0℃-15℃的方法；(19)其中用酸性水处理时的温度为0℃-5℃的方法；(20)上述方法，其特征在于；在具有通式(1)的化合物与具有通式(2)的化合物反应的步骤中使用脱水剂，反应结束后，在用酸性水处理之前，在0℃-30℃用水进行处理；(21)其中脱水剂为硫酸镁、碳酸钾或氯化钙的方法；(22)其中用水进行处理的温度为0℃-15℃的方法；(23)其中用水进行处理的温度为0℃-5℃的方法；(24)上述方法，其特征在于用酸性水进行处理后，再用碱性水进行处理；(25)其中碱性水的pH为13-14的方法；(26)其中碱性水为0.1-10w/v％的碱金属氢氧化物水溶液、碱土金属氢氧化物水溶液或碳酸盐水溶液的方法；(27)其中碱性水为0.3-5w/v％的碱金属氢氧化物水溶液、碱土金属氢氧化物水溶液或碳酸盐水溶液的方法；(28)其中碱性水为0.5-3w/v％的碱金属氢氧化物水溶液、碱土金属氢氧化物水溶液或碳酸盐水溶液的方法；(29)其中碱金属氢氧化物为氢氧化钠或氢氧化钾，碱土金属氢氧化物为氢氧化钙或氢氧化钡，碳酸盐为碳酸氢钠或碳酸钙的方法；(30)其中用碱性水处理时的温度为0℃-30℃的方法；(31)其中用碱性水处理时的温度为0℃-15℃的方法；以及(32)其中用碱性水处理时的温度为0℃-5℃的方法；本专利技术还涉及(33)高纯度的、具有通式(3)的化合物的制备方法，该方法包括使具有通式(1)的化合物与具有通式(2)的化合物在脱水剂存在下反应的步骤，以及将通过该步骤得到的反应混合物在0℃-30℃用水进行处理的步骤通式(1) (式中，R1和R2相同或不同，分别表示氢原子，C1-C6烷基，被选自取代基组α和取代基组β的基团取代的C1-C6烷基，C6-C14芳基，被选自取代基组α的基团取代的C6-C14芳基，含有1-3个硫原子、氧原子和/或氮原子的5-7元杂芳基或者被选自取代基组α的基团取代的含有1-3个硫原子、氧原子和/或氮原子的5-7元杂芳基，或者R1和R2一起表示C1-C6亚烷基；取代基组α包括羟基、硝基、氰基、卤原子、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷硫基和二(C1-C6烷基)氨基；取代基组β包括C6-C14芳基，被选自取代基组α的基团取代的C6-C14芳基，含有1-3个硫原子、氧原子和/或氮原子的5-7元杂芳基以及被选自取代基组α的基团取代的含有1-3个硫原子、氧原子和/或氮原子的5-7元杂芳基)；通式(2)R3-(NH)-R4(2)(式中，R3和R4相同或不同，分别表示C1-C6烷基、被C1-C6烷氧基取代的C1-C6烷基或C3-C6环烷基)；通式(3) (式中，R1、R2、R3和R4表示与上述相同的含意)。上述方法中，优选的方法有(34)其中用碱性水处理时的温度为0℃-30℃的方法；(35)其中用碱性水处理时的温度为0℃-15℃的方法；以及(36)其本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高纯度的、具有通式（３）的化合物的制备方法，该方法包括使具有通式（１）的化合物与具有通式（２）的化合物反应的步骤，以及将通过该步骤得到的反应混合物在０℃－３０℃用酸性水进行处理的步骤：通式（１）＊＊＊（１）式中， Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］相同或不同，分别表示氢原子，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基，被选自取代基组α和取代基组β的基团取代的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基，Ｃ↓［６］－Ｃ↓［１４］芳基，被选自取代基组α的基团取代的Ｃ↓［６］－Ｃ↓［１４］芳基，含有１－３个硫原子、氧原子和／或氮原子的５－７元杂芳基或者被选自取代基组α的基团取代的含有１－３个硫原子、氧原子和／或氮原子的５－７元杂芳基，或者Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］结合一起表示Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］亚烷基；取代基组α包括羟基、硝基、氰基、卤原子、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷硫基和二（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基）氨基；取代基组β包括Ｃ↓［６］－Ｃ↓［１４］芳基，被选自取代基组α的基团取代的Ｃ↓［６］－Ｃ↓［１４］芳基，含有１－３个硫原子、氧原子和／或氮原子的５－７元杂芳基以及被选自取代基组α的基团取代的含有１－３个硫原子、氧原子和／或氮原子的５－７元杂芳基；通式（２）Ｒ↑［３］－（ＮＨ）－Ｒ↑［４］（２）式中，Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］相 同或不同，分别表示Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基、被Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基取代的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基或Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基；通式（３）＊＊＊（３）式中，Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］表 示与上述相同的含意。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：冈崎令，小岛俊氏，横川秀晴，
申请(专利权)人：三共株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]