抗水解的有机改性三硅氧烷离子型表面活性剂的混合物制造技术

技术编号:5488300 阅读:251 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种混合物,该混合物包含具有下式M1DM2的硅氧烷,和另外的组分,其中M1=(R1)(R2)(R3)SiO1/2;M2=(R4)(R5)(R6)SiO1/2和D=(R7)(Z)SiO2/2;其中R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7各自独立地选自具有1-4个碳原子的一价烃基、芳基和含有芳基的具有4-9个碳原子的烃基;Z为侧挂亲水性离子基团,选自R8-RA、R9-RC和R10-Rz;RA为阴离子取代基,RC为阳离子取代基,或RZ为D基团上的两性离子取代基,所述另外的组分选自农业组分、涂料组分、个人护理品组分、家庭护理品组分、油气处理组分、水处理组分和纸浆或纸处理组分,其中所述混合物具有提高的抗水解性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在宽的PH范围内表现出抗水解性的三硅氧烷表面活性剂组合物。更 具体地,本专利技术涉及在PH约3至pH约12之间具有抗水解性的这种抗水解的三硅氧烷表面 活性剂。
技术介绍
将液体组合物局部施涂到有生命和无生命的物体的表面上以产生期望的改变,包 括控制润湿、铺展、发泡、清洗等过程。当在水溶液中使用以改善活性组分到被处理的表面 的传递性时,已经发现使用三硅氧烷型化合物能够控制这些过程以获得期望的效果。但是, 三硅氧烷化合物仅可用于窄的PH范围,即从微酸性的pH 6至非常温和的碱性pH 7.5。在 该窄PH范围之外,三硅氧烷化合物对水解不稳定,经历快速分解。专利技术简述本专利技术提供一种组合物,其包含具有下式的硅氧烷M1DM2其中M1 = (R1) (R2) (R3) SiOl72 ;M2 = (R4) (R5) (R6) SiOl72 禾口D = (R7) (Z) SiO272 ;其中R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7各自独立地选自具有1_4个碳原子的一价烃基、芳基和含有芳基的具有4-9个碳原子的烃基;Z为亲水性取代基,选自R8_Ra、R9-Rc和Rltl-Rz ;R本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种混合物,其包含:a)具有下式的硅氧烷:M↑[1]DM↑[2]其中M↑[1]=(R↑[1])(R↑[2])(R↑[3])SiO↓[1/2];M↑[2]=(R↑[4])(R↑[5])(R↑[6])SiO↓[1/2]和D=(R↑[7])(Z)SiO↓[2/2];其中R↑[1]、R↑[2]、R↑[3]、R↑[4]、R↑[5]、R↑[6]和R↑[7]各自独立地选自具有1-4个碳原子的一价烃基、芳基和含有芳基的具有4-9个碳原子的烃基;Z为亲水性取代基,选自R↑[8]-R↑[A]、R↑[9]-R↑[C]和R↑[10]-R↑[z];R↑[8]为选自下列的一价基团:R↑[11](O)↓[t](R↑[12]...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:马克D莱瑟曼乔治A波利塞罗彭文清郑丽平罗兰瓦格纳苏里施K拉贾拉曼夏自军
申请(专利权)人:莫门蒂夫性能材料股份有限公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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