辐射及探测系统技术方案

本发明专利技术涉及辐射及探测系统，所述辐射及探测系统包括辐射单元（２），所述辐射单元用于在第一时间间隔利用第一发射区域（１５）的辐射并且在第二时间间隔利用第二发射区域（１６）的辐射来交替地照射探测单元（６），其中，在第一时间间隔探测第一探测值，并且在第二时间间隔探测第二探测值。相对于第二发射区域（１６）的辐射对第一探测值的影响并且相对于第一发射区域（１５）的辐射对第二探测值的影响来校准所述辐射及探测系统。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种辐射及探测系统，其包括　－辐射单元（２），其具有第一发射区域（１５）和第二发射区域（１６），以便在第一时间间隔利用所述第一发射区域（１５）的辐射并且在第二时间间隔利用所述第二发射区域（１６）的辐射来交替地照射探测单元（６），　 　－探测单元（６），其用于探测取决于所述辐射的值，所述探测单元（６）适于在所述第一时间间隔探测第一探测值并且在所述第二时间间隔探测第二探测值，　－校准单元（１８）　其用于相对于所述第二发射区域（１６）的所述辐射对所述第一探测值的 影响来校准所述辐射及探测系统，所述校准单元（１８）适于确定取决于所述第二发射区域（１６）的所述辐射对所述第一探测值的影响的校准值，以校正所述第一探测值，并且　其用于相对于所述第一发射区域（１５）的所述辐射对所述第二探测值的影响来校准所 述辐射及探测系统，所述校准单元（１８）适于确定取决于所述第一发射区域（１５）的所述辐射对所述第二探测值的影响的校准值，以校正所述第二探测值。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：T克勒，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]