一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液制造技术

技术编号:5454185 阅读:139 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液,该抛光液包含研磨颗粒和水,其特征为还包含一种或多种季铵盐型阳离子表面活性剂。本发明专利技术的抛光液可以在碱性条件下较好地抛光多晶硅,并且还可以显著降低多晶硅的去除速率及多晶硅与二氧化硅的选择比,显著提高多晶硅的平坦化效率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:荆建芬杨春晓
申请(专利权)人:安集微电子上海有限公司
类型:发明
国别省市:31

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