观察装置和观察方法以及检查装置和检查方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种观察装置和观察方法以及检查装置和检查方法。本发明专利技术的检查装置具有：摄像部（３０），拍摄被检测物中的第一范围以及相对于该第一范围向预定方向偏移的第二范围；差分处理部（４４），得到第一范围的图像和第二范围的图像在上述预定方向上对应的部分的信号的差分；和检查部（４６），根据差分处理部（４４）的处理结果，检查被检测物中有无缺陷。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种对半导体晶圆、液晶玻璃基板等被检测物的观察装置和观察方法、以及检查装置和检查方法。
技术介绍
近年来，在半导体晶圆上形成的电路元件图案的集成度变高，并且在半导体制造 工序中晶圆的表面处理所使用的薄膜的种类增加。随之，薄膜的边界部分露出的晶圆的端 部附近的缺陷检查变得重要。若在晶圆的端部附近存在异物等缺陷，则在之后的工序中异 物等会进入晶圆的表面侧而带来不良影响，从而对由晶圆制作的电路元件的成品率产生影 响。因此，提出了以下检查装置(参照专利文献1):从多个方向观察半导体晶圆等形成为圆盘状的被检测物的端面周边(例如顶端及上下的斜面)，检查有无异物、膜的剥离、膜内的气泡、膜的蔓延等缺陷。在这种检查装置中包括以下结构的装置等利用通过激光等的照射而产生的散射光检测异物等的结构的装置；通过线传感器将被检测物的图像形成为带状而检测异物等的结构的装置等。 专利文献1 :JP特开2004-325389号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题 此外，还具有通过图像取得装置局部地逐张取得被检测物的端面周边的图像并根 据多个图像数据检测异物等的结构的装置，但若使用具有能够识别小缺陷的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种观察装置，其特征在于，包括：摄像部，拍摄被检测物中的第一范围以及相对于上述第一范围向预定方向偏移的第二范围；差分处理部，得到上述第一范围的图像和上述第二范围的图像在上述预定方向上对应的部分的信号的差分；和显示部，显示上述差分处理部的处理结果。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：坂口直史，高桥正史，渡部贵志，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]