*** (1) 本发明专利技术的目的是提供加压素拮抗物和催产素拮抗物,其中含有的活性成分为通式(1)代表的苯并杂环化合物及其盐,各基团定义详见说明书。(*该技术在2013年保护过期,可自由使用*)
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及含苯并杂环化合物作为有效成分有效成分的后叶加压素质抗物和催产素拮抗物。一些在后叶加压素质抗物和催产物质抗物中用作有效成分的通式(I)所示苯并杂环化合并杂环化合物是新化合物。一些与本专利技术苯并杂环化合物有类似化学结构式的苯并杂环化合物已公布于EP-A-0382185 A2(公开日1990年8月15日)WO91/05549(公开日1991年5月2日)和EP-A-0470514A1(公开日1992年2月12日)。此外,EP-A-0514667A1(公开日1992年11月25日)公开了苯并杂环化合物,它已知是本专利技术的先期专利申请。在这些现有技术公开的苯并杂环化合物的1-位上结合的取代基在本质上不同于在本专利技术苯并杂环化合物的1-位上结合的取代基。本专利技术苯并杂环化合物及其盐如通式(1)所示 其中,R1为氢原子、卤素、羟基、低级链烷酰氧基、氨基低级烷氧基,该烷氧基可带有选自低级烷基和低级烷酰基的取代基、羧基取代的低级烷氧基、低级烷氧羰基取代的低级烷氧基、或一个可能带有低级烷基取代基的氨基羰基-低级烷氧基;R4为氢原子。式- 所示基团(其中R6和R7相同或不同,每一个可为氢、低级烷基、低级链烯基或在其苯环上带有卤素取代基的苯甲酰基)、低级链烯氧基、羟基取代的低级烷基、式-O-CO-A-N 所示基团(其中,A是一个低级亚烷基;R8和R9相同或不同,每一个可为氢或低级烷基R8和R9还可与它们所连接的相邻氮原子共同形成一个5-6元饱和或不饱和的杂环基团,其中可包括或不包括其它氮原子或氧原子,该杂环基团可被低级烷基取代)、式-O-R10所示基团(其中R10是一个氨基酸残基)、低级烷氧羰基取代的低级亚烷基、低级烷氧羰基取代的低级烷基、羧基取代的低级烷基、式-A-CO-N 所示基团(其中,A同上所示;R11和R12相同或不同,每一个可为氢、可带有羟基取代基的低级烷基、在哌啶环上可带有苯基低级烷基的哌啶基、氨基甲酰基取代的低级烷基、吡啶基取代的低级烷基、式-A-N 所示基团(其中,A为一个低级亚烷基;R39和R40相同或不同,每一个可为氢、或可带有羟基取代基的低级烷基;R39和R40还可与它们所连接的相邻氮原子共同形成一个5或6元饱和杂环基团,环中可包括或不包括其它氮原子或氧原子,该杂环可在其环上带有低级烷基)、吡嗪基取代的低级烷基,在其吡嗪环上可带有低级烷基取代其、吡咯基取代的低级烷基,在其吡咯环上可带有低级烷基取代基、吡咯烷基取代的低级烷基,在其吡咯环上可带有低级烷基取代基、或在其苯环上可带有卤素的苯基;此外,R11和R12可与它们所连接的相邻氮原子共同形成5-7元饱和杂环,环中可包括或不包括其它氮原子或氧原子;所说杂环基可被下述基团取代一个低级烷基、低级氧羰基、可被选自低烷基和低级链烷酰基取代的氨基、低级烷氧羰基取代的低级烷基、在其苯环上可带有卤素的苯基、氰基取代的低级烷基、低级链烯基、对苄基苯甲酰胺基(Oxyranyl)取代的低级烷基,氨基甲酰基取代的低级烷基、带有1-2个选自羟基和可带有低级烷基的氨基取代基的低级烷基、或吡咯烷基羰基一低级烷基)式 所示基团(其中,A如上述;R23和R24相同或不同,每一个可为氢、低级烷基、低级烷氧基取代的低级烷基、羧基取代的低级烷基、其哌啶环上可带有低级烷基的哌啶基、式 所示基团(其中,B为一个亚烷基;R23A和R24A相同或不同,每一个可为氢或低级烷基;R23A和R24A还可与它们连接的相邻氮原子共同形成一个5-6元饱和杂环基,环中可包括或不包括其它氮原子或氧原子)、R23和R24还可与它们连接的相邻氮原子共同形成一个5-7元杂环基团,环中可包括或不包括其它氮原子或氧原子)、在其吡啶烷环上带有低级烷氧羰基的吡咯基羰基-低级烷氧基、低级烷氧基取代的低级链烷酰氧基、式 所示基团(其中,A如上所述;B为一个低级亚烷基;R25和R26相同或不同,每一个可为氢或低级烷基)、氨基取代的低级亚烷基、基-O-A-N 所示基团(其中,A如上所述;R27和R28相同或不同,每一个可为氢、低级烷基,低级链烯基、低级炔基、低级烷基磺酰基、其中可带有低级烷基取代基的氨基硫代羰基、式 所示其团(其中,R41为一个氢或氰基;R42为一个低级烷基或可带有低级烷基取代基的氨基)、氨基甲酰基、低级烷氧羰基、环烷基、基苯环上带有卤素取代基的苯基-低级烷基、氰基取代的低级烷基、卤素取代的低级烷基磺酰基、可带有低级烷基取代基的氨基取代的低级烷基;此外,R27和R28可形成一个5-10元单环或双环饱和或不饱和杂环,所说杂环上可被一个下述基团取代氧代基、低级烷基、低级烷氧羰基、低级链烷酰基或低级链烷酰氨基)、氰基、氰基取代的低级烷基、在其苯环上可带有低级烷基取代基的苯磺酰基、带有羟基的低级烷氧基、式 所示基团(其中,A如上所述;R29为一个氢或低级烷基;R30为一个低级链烯基、环烷基或低级炔基;此外,R29和R30可与它们所连接的相邻氮原子共同形成一个5-6元饱和杂环,环上可包括或不包括其它氮原子或氧原子;所说杂环基可被一个下述基团取代低级烷基、低级链烷酰基、可带有选自一个低级烷基和一个低级链烷酰基取代基的氨基、低级烷基磺酰基、低级烷氧羰基或可带低级烷基取代基的氨基羰基)、在其苯环上可带有低级烷基取代基的苯磺酰氧基取代的低级烷基、邻苯二甲酰亚胺基取代的低级烷基、氰基取代的低级亚烷基、卤素取代的低级烷基、咪唑基取代的低级烷基、1,2,4-三唑基取代的低级烷基、1,2,3,4-四唑基取代的低级烷氧基、1,2,3,5-四唑基取代的低级烷氧基、1,2,3,4-四唑基取代的低级烷基、1,2,3,5-四唑基取代的低级烷基、1,2,4-三唑基取代的低级烷基、羧基取代的低级烷氧基、低级烷氧羰基取代的低级烷氧基、吡啶硫代基取代的低级烷氧基、在嘧啶环上可带有低级烷基的嘧啶硫代基取代的低级烷氧基、咪唑硫代基取代的低级烷氧基、吡啶亚磺酰基取代的低级烷氧基、吡啶磺酰基取代的低级烷氧基、咪唑亚磺酰基取代的低级烷氧基和咪唑磺酰基取代的低级烷氧基;R5为一个氢或羟基;R4和R5可结合共同形成一个氧代基;R2为一个氢、低级烷基、羟基、卤素或低级烷氧基;R3为一个式 所示基团(其中,R13为一个卤原子、氢、氨基甲酰基、在哌嗪环的4-位上带有一个低级链烷酰基的哌嗪基-低级烷氧基、咪唑基取代的低级烷氧基、在哌啶环上带有低级链烷酰基氨基的哌啶基低级烷氧基、1,2,4-三唑基取代的烷氧基、其上可带有低级烷基的脲基取代的低级烷氧基、或其上带有低级烷基的氨基取代的低级烷氧基;m为0或1-3的一个整数)。带有1-3个选自下列取代基的苯基-低级链烷酰基氨基卤素、低级烷氧基、低级烷基和硝基、式 基团(其中n为1或2)、或式 所示基团;在苯并吖庚因骨架的4-和5-位间的C-C键为一个单键或双键;假定,当R1为一个氢或卤素;R4为氢、式 所示基团(其中,R6和R7如前所述,但在苯环上带有卤素取代基的苯甲酰基除外)、式 所示基团(其中,A如前所示;R8和R9如前所述,每一个可为氢或低级烷基)、羟基取代的低级烷基、羧基取代的低级烷氧基、低级烷氧羰基取代的低级烷氧基、或式 所示基团(其中,A如前所述;R27和R28相同或不同,每一个可为氢或低级烷基);且R5为本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种以通式(ⅠA)表示的苯并杂环化合物或其盐: *** (ⅠA) 其中,R↑[1]为氢原子,卤原子,羟基,低级烷酰氧基,可有选自低级烷基和低级烷酰基取代基的氨基低级烷氧基,羧基取代的低级烷氧基,低级烷氧基羰基取代的低级烷氧基或氨基羰基低级烷氧基(其中烷氧基可具有低级烷基取代基); R↑[4]可以是由式***表示的基团,(其中R↑[6]是氢原子,低级链烷基或低级链烯基;R↑[7]是在苯环上具有卤原子取代的苯甲酰基), 式-A-CO-***表示的基团,(其中,A是低级链烯基;R↑[11]是氢原子或低级烷基;R↑[12]是羟基取代的低级烷基,吡啶基取代的低级烷基,吡啶基,式-A-***表示的基团,(其中A与上述的相同,R↑[39]和R↑[40]可以相同也可以不同,它们每个都可以是氢原子,可含羟基取代基的低级烷基;R↑[39]和R↑[40]也可与其连接的相邻氮原子结合形成饱和的5或6员杂环基,环中可同时含或不含其他的氮原子或氧原子,该杂环可在其环上具有低级烷基),哌嗪基取代的低级烷基、吡咯基取代的低级烷基,其中哌嗪环或吡咯环上可含有低级烷基作为取代基,吡咯烷基取代的低级烷基,其中吡咯烷环上可含有低级烷基作为取代基,或苯环上含卤原子的苯环;R↑[11]和R↑[12]也可与连接其上的相邻氮原子结合形成饱和的5员或6员杂环基团,环中可同时含或不含其他氮原子或氧原子;该杂环可以被下面基团取代:低级烷基,低级烷氧基羰基,可含有低级烷基和低级烷酰基取代的氨基,低级烷氧基羰基取代的低级烷基,苯环上可含有卤原子的苯基,氰基取代的低级烷基,低级烯烃基,环氧乙烷基(oxyranyl)取代的低级烷基,氨基甲酰基取代的低级烷基,含有1-2个选自低级烷基的羟基和胺基取代基的低级烷基,或吡咯烷基羰基取代的低级烷基), 式-O-A-CO-***表示的基团,(其中,A与上述的相同;R↑[23]是氢原子或低级烷基;R↑[24]是由式-B-***表示的基团(其中,B是链烯基;R↑[23A]和R↑[24A]可相同也可不同,每个都可以是氢原子,低级烷基;R↑[23A]和R↑[24A]也可与键合其上的相邻氮原子结合形成饱和的5-6员杂环基团,环中可含或不含其他的氮原子或氧原子),R↑[23]和R↑[24]也可与键合其上的相邻氮原子结合形成饱和的5-7员杂环基团,环中可时含或不含其他的氮原子或氧原子,该杂环基团可含有低级烷基作为取代基), 式-O-A...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:小川英则,近藤一见,山下博司,中矢贤治,小松一,田中理纪,北野和良,富永道明,内洋一,
申请(专利权)人:大制药株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]