照明设备制造技术

技术编号:4977689 阅读:117 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种照明设备,该照明设备包括用于发射激光(3)的激光源(2)。该照明设备还包括用于修改激光的光学特性的第一激光修改单元(7)和用于修改激光的光学特性的第二激光修改单元(8),该第一激光修改单元(7)位于第一位置,且该第二激光修改单元(8)位于第二位置。该照明设备还包括用于将引导到第一和第二激光修改单元(7,8)至少之一上的激光分布(5,6)从第一激光分布修改为不同于该第一激光分布的第二激光分布的激光分布修改单元(4)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及照明设备、照明方法和用于控制照明设备的计算机程序。
技术介绍
WO 2006/007301A1公开了一种照明设备,其包括光源、包括输出表面的光导、布置 在光源和光导的输出表面之间的发射材料以及布置在发射材料和光导的输出之间的干涉 反射器。光源发射具有第一光学特性的光。发射材料在使用具有第一光学特性的光照射时 发射具有第二光学特性的光。干涉反射器基本上透射具有第二光学特性的光且基本上反射 具有第一光学特性的光。该照明设备具有照明配置是固定的且不能容易修改的缺点。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种照明设备、照明方法和用于控制该照明设备的计算机程 序,其中照明配置可以更容易地修改。在本专利技术的第一方面中,提供一种照明设备,该照明设备包括-激光源,用于发射激光,-第一激光修改单元,用于修改激光的光学特性,所述第一激光修改单元位于第一 位置,-第二激光修改单元,用于修改激光的光学特性,所述第二激光修改单元位于第二 位置,-激光分布修改单元,用于将引导到第一和第二激光修改单元至少之一上的激光 分布从第一激光分布修改为不同于该第一激光分布的第二激光分布。本专利技术基于以下认知如果激光源的激光被引导到分别位于第一和第二位置的第 一和第二激光修改单元至少之一上,且如果激光分布修改单元将引导到第一和第二激光修 改单元至少之一上的激光分布从第一激光分布修改为不同于第一激光分布的第二激光分 布,则可以容易地修改照明配置。例如,第一激光分布可以对应于仅引导到第一激光修改单 元上的激光,且第二激光分布可以对应于仅引导到第二激光修改单元上的激光。因为第一 和第二激光修改单元分别位于第一和第二位置,通过将激光分布从第一激光分布修改为第 二激光分布而修改照明配置。此外,因为激光源提供激光,激光束具有高能量密度属性,光 能可以在相对大的距离上传输到第一和第二激光修改单元至少之一,同时光能被约光束为 极小的光束直径。激光束位置中的小偏移,例如,几分之一毫米的小偏移可能就足以修改引 导到第一和第二激光修改单元至少之一上的激光分布。激光源、位于第一位置的第一激光 修改单元、位于第二位置的第二激光修改单元、以及用于将引导到第一和第二激光修改单 元至少之一上的激光分布从第一激光分布修改为第二激光分布的激光分布修改单元的组 合因而允许对照明配置进行容易的修改。第一和第二位置优选地不同。此外,照明设备可以包括若干第一和/或若干第二 激光修改单元,且激光分布可以修改为若干第一和/或若干第二激光分布,即,本专利技术不限于仅两个激光修改单元或仅两个激光分布。第一和第二激光修改单元适合于修改引导到这些单元上的激光的光学特性。可 以通过第一和/或第二激光修改单元修改的光学特性例如是光的光谱分布、其准直度、方 向、强度和/或光束图形。引导到第一和第二激光修改单元至少之一上的光的光谱分布和 其他属性例如可以通过发光材料修改,在激光被引导到发光材料上时该发光材料发射冷光 (luminescent light)。因而可以使用诸如有机或无机磷光体的发光材料通过全部或部分 转换而修改激光的光谱以及另外其他特性。在一个实施例中,可以由第一和第二激光修改 单元至少之一产生的光束图形例如是图片或文字。激光分布单元优选地包括光学元件,该光学元件允许将引导到第一和第二激光修 改单元至少之一上的激光分布从第一激光分布修改为不同于第一激光分布的第二激光分 布。这些光学元件例如是光束分离器、镜、偏振旋转器等。第一和第二激光修改单元可以彼此相邻布置,使得对于看到源于第一和第二激光 修改单元的光的人,光看上去从相同的位置发射。在另一实施例中,第一和第二激光修改单 元其中之一或形成第一组的若干第一和第二光修改单元可以位于第一位置,且第一和第二 激光修改单元中另一个或另一组第一和第二激光修改单元可以位于第二位置,其中第一和 第二位置彼此并不靠近,使得人们可以区分来自第一位置的光和来自第二位置的光。例如, 在一个实施例中,第一位置位于房间的天花板中,位于桌子上方以用于基本上仅仅照射该 桌子,且第二位置位于房间中间的天花板中以用于照射房间的较大部分。第一和第二位置 之间的距离优选地大于1厘米,更优选地大于10厘米且甚至更优选地大于1米。相邻激光 修改单元之间的距离优选地小于1厘米,优选地小于0. 5厘米,且优选地小于1毫米。在一个实施例中,如果照明设备位于房间的天花板中,房间优选地包括中间天花 板,在该中间天花板和位于该中间天花板之上的另一天花板之间形成空间。该中间天花板 优选地包括可以打开的瓦片,且该另一天花板优选地是混凝土天花板。照明设备优选地布 置在由中间天花板和另一天花板限定的空间内,使得可能位于房间内的人们不能接触激 光。尤其是,照明设备可以包括安全机制,该安全机制以这样的方式适合于使得如果中间天 花板的瓦片打开则激光源关闭。引导到第一和第二激光修改单元至少之一上的激光分布优选地限定这些单元中 每一个单元怎样被激光照射,例如,激光可以仅被引导到第一激光修改单元上,可以仅被引 导到第二激光修改单元上,或者引导到第一和第二激光修改单元上。第一和第二激光分布优选地是静态激光分布,S卩,激光分布并不连续地不停修改, 例如,光束不连续扫描显示器中的若干像素,而是激光分布以第一或第二激光分布保持预 定时间,该预定时间优选地大于0. 5秒,优选地大于1秒,优选地大于30秒且优选地大于1 分钟。优选地,第一和第二激光修改单元适合于不同地修改激光的光学特性。这允许通 过将激光分布从第一激光分布修改为第二激光分布来修改来自第一和第二激光修改单元 至少之一的光的光学特性。因而可以容易实现照明配置的进一步修改。还优选地,第一和第二激光修改单元至少之一包括发光材料,用于在激光被引导 到该发光材料上时发射冷光。冷光具有不同于激光的一个或若干波长的一个或若干波长。 激光和冷光的光谱分布可以对应于单个波长或若干波长。优选地,第一激光修改单元包括第一发光材料,用于在激光被引导到该第一发光 材料上时发射第一冷光,而第二激光修改单元包括第二发光材料,用于在激光被引导到该 第二发光材料上时发射第二冷光,且第一和第二冷光的光谱分布不同。特别是,第一和第二 冷光具有不同的颜色或不同的色温。在优选实施例中,照明设备可以包括用于产生具有可 修改颜色的光的至少一个彩色单元,其中彩色单元包括第一和第二发光材料的至少两种发 光材料,且激光分布修改单元适合于调节引导到至少两个发光材料其中之一上的激光强度 与引导到至少两个发光材料其中另一上的激光强度的比率,而激光强度的不同比率对应于 不同的第一和第二激光分布,该至少两个发光材料其中之一发射的冷光的光谱分布不同于 该至少两个发光材料其中另一发射的冷光的光谱分布。这允许通过将激光分布从第一激光 分布修改为第二激光分布,尤其通过修改引导到第一和第二两个发光材料至少之一上的激 光强度与引导到第一和第二两个发光材料其中另一上的激光强度之间的比率,修改由彩色 单元发射的光的颜色。在一个实施例中,通过将激光形成的激光点从一个发光材料移动到 另一发光材料来确定引导到第一和第二发光材料至少之一上的激光强度与引导到第一和 第二发光材料其中另一上的激光强度之间的比率。在该过程中,激光点可以仅位于这些本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种照明设备,包括:  -激光源(2),用于发射激光(3),  -第一激光修改单元(7),用于修改激光的光学特性,所述第一激光修改单元(7)位于第一位置,  -第二激光修改单元(8),用于修改激光的光学特性,所述第二激光修改单元(8)位于第二位置,  -激光分布修改单元(4),用于将引导到第一和第二激光修改单元(7,8)至少之一上的激光分布(5,6)从第一激光分布修改为不同于该第一激光分布的第二激光分布。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2008-6-4 08104256.61.一种照明设备,包括-激光源O),用于发射激光(3),-第一激光修改单元(7),用于修改激光的光学特性,所述第一激光修改单元(7)位于第一位置,-第二激光修改单元(8),用于修改激光的光学特性,所述第二激光修改单元(8)位于第二位置,-激光分布修改单元G),用于将引导到第一和第二激光修改单元(7,8)至少之一上的 激光分布(5,6)从第一激光分布修改为不同于该第一激光分布的第二激光分布。2.根据权利要求1所述的照明设备,其中该第一和第二激光修改单元(7,8)适合于不 同地修改激光的光学特性。3.根据权利要求1所述的照明设备,其中该第一和第二激光修改单元(7,8)至少之一 包括发光材料,用于在激光引导到该发光材料上时发射冷光。4.根据权利要求3所述的照明设备,其中该第一激光修改单元(7)包括第一发光材料, 用于在激光引导到该第一发光材料上时发射第一冷光,该第二激光修改单元(8)包括第二 发光材料,用于在激光引导到该第二发光材料上时发射第二冷光,且第一冷光(9)和第二 冷光(10)的光谱分布不同。5.根据权利要求1所述的照明设备,其中该第一激光分布包括引导到第一和第二激光 修改单元(7,8)至少之一上的激光(5,6)的强度分布,该强度分布不同于第二激光分布的 引导到第一和第二激光修改单元(7,8)至少之一上的激光(5,6)的强度分布。6.根据权利要求1所述的照明设备,其中该激光分布修改单元包括用于将激光(3)分 离为引导到第一激光修改单元(94)上的第一光束00)和引导到第二激光修改单元上的第 二光束(19)的至少一个光束分离单元(11),该至少一个光束分离单元(11)以这样的方式 适合于使得第一光束00)和第二光束(19)至少之一的强度能够修改。7.根据权利要求1所述的照明设备,其中该激光分布修改单元(4)包括用于将激光 (3)分离成第一光束OO)和第二光束(19)的若干光束分离单元(11),其中该第一和第二 激光修改单元至少之一(94)被分配给该光束分离单元(11)至少之一,所述光束分离单元 (11)适合于将光束分离单元(11)至少之一的第一光束OO)引导到分配给该至少一个光 束分离单元(11)的第一和第二激光修改单元至少之一(94),且将至少一个光束分离单元 (11)的第二光束(19)引导到另一光束分离单元,所述至少一个光束分离单元(11)以这样 的方式适合于使得...

【专利技术属性】
技术研发人员:RAM希克梅特T范博梅尔
申请(专利权)人:皇家飞利浦电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:NL

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1