本实用新型专利技术公开了一种石材抛磨机，包括机架、工作平台、磨头总成及相应的控制系统，磨头总成包括抛光磨头、升降机构、驱动抛光磨头的带轮及电机，其特征在于：所述机架的两端设有端梁，在端梁上安装有导轨，在导轨上安装有沿导轨往复移动的主梁，在主梁的两侧通过一主轴四方箱装置对称分布抛光磨头，主轴四方箱装置带动主梁两侧的抛光磨头在主梁上往复移动，主梁的两侧的抛光磨头通过一套程序控制系统控制运转，其中每两个与主梁对称的抛光磨头由一台电机带动。采用本实用新型专利技术在磨抛过程中经粗磨之后不需要暂停机器人工更换精磨头也能继续加工，具有使用更方便，效率更高的优点。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及石材加工机械领域,尤其涉及一种对石材表面进行 抛磨光的石材抛磨机。
技术介绍
现有石材抛磨机， 一般采用一个电机带动一个磨头运转，在石材磨抛 过程中，经过粗磨之后需要暂停机器更换上精磨头才能继续加工，这样工 序繁琐，工人劳动强度大，生产效率低。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种在磨抛过程中经粗磨之后不需要暂停 机器人工更换精磨头也能继续加工，具有使用更方便，效率更高的石材 抛磨机。本技术的目的通过以下技术方案来实现。一种石材抛磨机，包括机架、工作平台、磨头总成及相应的控制系 统，磨头总成包括抛光磨头、升降机构、驱动抛光磨头的带轮及电机， 其特征在于所述机架的两端设有端梁，在端梁上安装有导轨，在导轨上 安装有沿导轨往复移动的主梁，在主梁的两侧通过一主轴四方箱装置对 称分布抛光磨头，主轴四方箱装置带动主梁两侧的抛光磨头在主梁上往 复移动，主梁的两侧的抛光磨头通过一套发出指令使一侧的抛光磨头高 离工作面，另 一侧的抛光磨头依次启动下降接触工作面进行打磨。所述与主梁对称的每两个抛光磨头分别由一台电机带动。 所述主梁一侧的抛光磨头为从左到右打磨精度依次提高的抛光磨头 构成，另一侧的抛光磨头为从左到右打磨精度依次降低的抛光磨头构成，且其中 一侧的抛光磨头的打磨精度均高于另 一侧的抛光磨头的打磨精 度。本技术与现有技术相比具有以下优点本技术由于在主梁的两侧通过一主轴四方箱装置对称分布抛光 磨头，主轴四方箱装置带动主梁两侧的抛光磨头在主梁上往复移动，主 梁的两侧的抛光磨头通过一套发出指令使一侧的抛光磨头高离工作面， 另一侧的抛光磨头依次启动下降接触工作面，并依次序接触工作面打磨, 即为双排抛光磨头的抛磨机，在程序控制系统的控制下，便可实现主梁 的一侧的抛光磨头高离工作面空转，另一侧的抛光磨头降落接触工作面， 并依次序接触工作面打磨，粗磨的一排工作完成后，紧接着由精磨一排 进行工作。因此在石材磨抛过程中，经过粗磨之后不需要暂停机器人工更 换精磨磨头，故减少了工序，降低工人劳动强度，生产效率高。附图说明图1为本技术石材抛磨机实施例的结构示意图2是本技术石材抛磨机抛光磨头位置分布示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术石材抛磨机作进一步详细描述。 如图1-2所示，本技术石材抛磨机，包括机架l、工作平台、磨 头总成及相应的控制系统，磨头总成包括抛光磨头3、升降机构、驱动抛 光磨头的带轮4及电机5，在机架1的两端设有端梁6，在端梁6上安装 有导轨7，在导轨7上安装有沿导轨7往复移动的主梁8，在主梁8的两 侧通过一主轴四方箱装置2对称分布抛光磨头3,主轴四方箱装置2带动 主梁两侧的抛光磨头3在主梁8上往复移动，主梁8的两侧的抛光磨头3 通过一套程序控制系统控制运转，程序控制系统发出指令使一侧的抛光 磨头高离工作面空转，另一侧的抛光磨头降落接触工作面，并依次序接 触工作面打磨。其中每两个与主梁对称的拋光磨头分别由 一 台电机带动， 主梁一侧的抛光磨头为从左到右打磨精度依次提高的抛光磨头构成，另4一侧的ffi光磨头为从左到右打磨精度依次降低的抛光磨头构成。本实施例以主梁的两侧各设有四个抛光磨头为例进行说明，即抛光磨头31、 32、 33、 34组成一排，抛光磨头35、 36、 37、 38组成另一排 分置于主梁的两侧，其中抛光磨头31与38、抛光磨头32与37、抛光磨 头33与36、抛光磨头34与35对称分布，抛光磨头31与38、抛光磨头 32与37、抛光磨头33与36、抛光磨头34与35四对抛光磨头分别由一 台电机带动，抛光磨头由31-38每个打磨程度不同，31为最粗磨，38为 最精磨，32—37的打磨精度依次提高。以主梁8在导轨7上的前后往返运动为主，以主轴四方箱装置2在 主梁8上的左右往返滑动为辅，形成振幅级向前的运动轨迹。权利要求1、一种石材抛磨机，包括机架、工作平台、磨头总成及相应的控制系统，磨头总成包括抛光磨头、升降机构、驱动抛光磨头的带轮及电机，其特征在于所述机架的两端设有端梁，在端梁上安装有导轨，在导轨上安装有沿导轨往复移动的主梁，在主梁的两侧通过一主轴四方箱装置对称分布抛光磨头，主轴四方箱装置带动主梁两侧的抛光磨头在主梁上往复移动，主梁的两侧的抛光磨头通过一套发出指令使一侧的抛光磨头高离工作面，另一侧的抛光磨头依次降落接触工作面进行打磨工作。2、 根据权利要求1所述的石材抛磨机，其特征在于所述与主梁对 称的每两个抛光磨头由一台电机带动。3、 根据权利要求1或2所述的石材抛磨机，其特征在于所述主梁 一侧的抛光磨头为从左到右打磨精度依次提高的抛光磨头构成，另一侧 的抛光磨头为从左到右打磨精度依次降低的抛光磨头构成，且其中一侧 的抛光磨头的打磨精度均高于另一侧的抛光磨头的打磨精度。专利摘要本技术公开了一种石材抛磨机，包括机架、工作平台、磨头总成及相应的控制系统，磨头总成包括抛光磨头、升降机构、驱动抛光磨头的带轮及电机，其特征在于所述机架的两端设有端梁，在端梁上安装有导轨，在导轨上安装有沿导轨往复移动的主梁，在主梁的两侧通过一主轴四方箱装置对称分布抛光磨头，主轴四方箱装置带动主梁两侧的抛光磨头在主梁上往复移动，主梁的两侧的抛光磨头通过一套程序控制系统控制运转，其中每两个与主梁对称的抛光磨头由一台电机带动。采用本技术在磨抛过程中经粗磨之后不需要暂停机器人工更换精磨头也能继续加工，具有使用更方便，效率更高的优点。文档编号B24B7/20GK201346729SQ200920050290公开日2009年11月18日 申请日期2009年1月16日 优先权日2009年1月16日专利技术者曾锡坤 申请人:曾锡坤本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种石材抛磨机，包括机架、工作平台、磨头总成及相应的控制系统，磨头总成包括抛光磨头、升降机构、驱动抛光磨头的带轮及电机，其特征在于：所述机架的两端设有端梁，在端梁上安装有导轨，在导轨上安装有沿导轨往复移动的主梁，在主梁的两侧通过一主轴四方箱装置对称分布抛光磨头，主轴四方箱装置带动主梁两侧的抛光磨头在主梁上往复移动，主梁的两侧的抛光磨头通过一套发出指令使一侧的抛光磨头高离工作面，另一侧的抛光磨头依次降落接触工作面进行打磨工作。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：曾锡坤，
申请(专利权)人：曾锡坤，
类型：实用新型
国别省市：44[中国|广东]
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