【技术实现步骤摘要】
本技术涉及等离子刻蚀领域,尤其涉及一种等离子刻蚀机电极结构。
技术介绍
1、等离子刻蚀机(plasma etcher)是利用等离子体对材料进行选择性去除的半导体制造设备。其核心原理是通过气体放电产生的高能粒子(离子、电子、自由基等)与材料表面发生物理或化学反应,从而实现材料的精确去除;其主要包括真空室,真空室内设置有电极组件,电极组件包括若干平行等间距的电极板。
2、以电路板的刻蚀举例,工作前,在每两块电极板之间的居中位置均固定放置好电路板,之后将真空室抽真空,抽真空后再注入反应气体,待反应气体均匀弥散在真空室中,给电极组件通电,在电极组件的电作用下,反应气体被激发成高能粒子(离子、电子、自由基等),进而通过高能粒子对电路板进行刻蚀。
3、在整个反应过程中,位于第二块电极板和倒数第二块电极板之间的若干电路板,由于每相邻的两块电极板之间的间距均是相同的,第二块电极板到倒数第二块电极板之间的每块电路板刻蚀过程中可获得的反应气体的体积基本相同,所以这些电路板的刻蚀程度是一致的。
4、但是位于第一块电极板和第
...【技术保护点】
1.一种等离子刻蚀机电极结构,包括真空室(100),所述真空室(100)内设置有电极组件(101),所述电极组件(101)包括若干竖直且等间距的排列的电极板(103),其特征在于,所述真空室(100)内还设置有挡板(102),所述挡板(102)位于所述电极组件(101)的左右两侧,所述挡板(102)与所述电极板(103)平行,且所述挡板(102)到最近的电极板(103)的距离等于两个相邻的所述电极板(103)之间的距离的一半。
2.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机电极结构,其特征在于,所述挡板(102)与所述真空室(100)内壁绝缘连接。
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【技术特征摘要】
1.一种等离子刻蚀机电极结构,包括真空室(100),所述真空室(100)内设置有电极组件(101),所述电极组件(101)包括若干竖直且等间距的排列的电极板(103),其特征在于,所述真空室(100)内还设置有挡板(102),所述挡板(102)位于所述电极组件(101)的左右两侧,所述挡板(102)与所述电极板(103)平行,且所述挡板(102)到最近的电极板(103)的距离等于两个相邻的所述电极板(103)之间的距离的一半。
2.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机电极结构,其特征在于,所述挡板(102)与所述真空室(100)内壁绝缘连接。
3.根据权利要求2所述的一种等离子刻蚀机电极...
【专利技术属性】
技术研发人员:李志强,赵义党,李志华,
申请(专利权)人:珠海恒格微电子装备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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