本发明专利技术提供一种兼顾抗皱性和起模性的脱模薄膜。本发明专利技术的脱模薄膜的至少一方的表面性状在利用基于ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１的方法，使用前端半径２μｍ、圆锥的锥角６０°的触针，测定力为０．７５ｍＮ，截断值为λｓ＝２．５μｍ，λｃ＝０．８ｍｍ的条件下测定的粗糙度曲线的最大高度粗糙度Ｒｚ为０．５～２０μｍ而且粗糙度曲线要素的平均长度ＲＳｍ为５０～５００μｍ。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种兼顾抗皱性和脱模性的脱模薄膜。
技术介绍
进行了如下所述的方法，即通过对依次层叠印刷基板、热固型粘合剂或热固性粘合片、覆盖薄膜或加强板、脱模薄膜、缓冲薄膜、冲压热板而成的层叠体进行加热加压冲压，来制造利用覆盖薄膜或加强板保护形成有电路的印刷基板本体的回路面的层叠基板的方法。这样的制造方法尤其在柔性印刷基板等的制造中被广泛进行。 近年来，在制造印刷基板时，存在的问题在于，在冲压时易转印在脱模薄膜中发生的皱纹，从而印刷基板的成品率悪化。 针对脱模薄膜的皱纹的发生的问题，例如在专利文献1～4中记载了向脱模薄膜的表面赋予凹凸形状从而防止皱纹的发生的方法。例如在专利文献2中记载了在将具有满足表面粗糙度(Ra)等一定条件的凹凸形状的表面粗化薄膜用作印刷基板制造的脱模薄膜时，可以防止皱纹的发生。但是，如果向脱模薄膜的表面赋予凹凸形状，则存在起模性低下的问题。 专利文献1特开平6-23840号公报 专利文献2特开2007-83459号公报 专利文献3特开平2-238911号公报 专利文献4特开平3-61011号公报
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种同时具有抗皱性与起模性的脱模薄膜。 本专利技术的脱模薄膜中，对于至少一方的表面性状而言，利用基于JISB06012001的方法，使用前端半径2μm、圆锥的锥角60°的触针，在测定力为0.75mN、截断值λs＝2.5μm、λc＝0.8mm的条件下测定的粗糙度曲线的最大高度粗糙度Rz为0.5～20μm且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为50～500μm。 以下详述本专利技术。 通常，作为提高脱模薄膜的起模性的方法，已知有实施在薄膜的表面涂布或散布脱模剂，或者在薄膜的表面实施化学的、物理的处理等脱模处理的方法。但是，即使对于专利文献1～4中记载的赋予了凹凸形状的薄膜实施这些脱模处理，也不能得到需要的脱模性能。本专利技术人等发现，即使向这些已赋予凹凸形状的薄膜实施脱模处理，也不能得到需要的起模性能的原因在于，在薄膜表面赋予的凹凸形状的间隔过细，不能充分地实施脱模处理直至凹部的底部，以及，由于凹凸而脱模薄膜与被脱模体之间的接触面积增大。另外，本专利技术人等还发现，越加大凹凸的间隔，则越提高起模性，在薄膜的表面平坦部分越多，则越提高脱模处理的効果。 接着，本专利技术人等着眼于薄膜表面的凹凸形状的粗糙度曲线，以使作为高度方向的参数的最大高度粗糙度Rz与作为横方向的参数的粗糙度曲线要素的平均长度RSm在一定的范围内的情况下，才可以兼顾高抗皱性和起模性，以至完成本专利技术。 本专利技术的脱模薄膜中，对于至少一方的表面(以下也称为“脱模面”。)的性状而言，利用基于JIS B06012001的方法，使用前端半径2μm、圆锥的锥角60°的触针，在测定力为0.75mN，截断值为λs＝2.5μm，λc＝0.8mm的条件下测定的粗糙度曲线的最大高度粗糙度Rz的下限为0.5、上限为20μm。如果上述粗糙度曲线的最大高度粗糙度Rz不到0.5μm，则抗皱性差，如果超过20μm，则起模性差。上述粗糙度曲线的最大高度粗糙度Rz的优选上限为10μm。 此外，上述脱模面可以为本专利技术的脱模薄膜的至少一方的表面，也可以为两面。 上述脱模面在利用基于JIS B06012001的方法，使用前端半径2μm、圆锥的锥角60°的触针，在测定力为0.75mN，截断值为λs＝2.5μm，λc＝0.8mm的条件下测定的粗糙度曲线要素的平均长度RSm的下限为50μm、上限为500μm。如果上述粗糙度曲线要素的平均长度RSm不到50μm，则起模性差，如果超过500μm，则抗皱性差。上述粗糙度曲线要素的平均长度RSm的优选下限为200μm，优选上限为400μm。 上述脱模面利用基于JIS B06012001的方法，使用前端半径2μm、圆锥的锥角60°的触针，在测定力为0.75mN、截断值为λs＝2.5μm、λc＝0.8mm的条件下测定的粗糙度曲线的偏斜度Rsk优选超过0.05。如果上述粗糙度曲线的偏斜度Rsk为0.05以下，则表面粗糙度曲线的分布为均等或偏向正侧，因此接触面积增加或者发生脱模处理的効果不充分的部分，有时不能得到充分的起模性。更优选粗糙度曲线的偏斜度Rsk超过0.1。 上述脱模面利用基于JIS B06011994的方法，利用原子力显微镜(AFMAtomic Force Microscope，以下称为AFM。)测定的谷部的以50μm正方形观察测定的表面粗糙度Rz(AFM)优选为500nm以下。如果上述表面粗糙度Rz(AFM)超过500nm，则有时不能得到充分的起模性。上述表面粗糙度Rz(AFM)的更优选上限为100nm。 本专利技术的脱模薄膜可以由单层构成，也可以为层叠多层的层叠薄膜。 在本专利技术的脱模薄膜由单层构成的情况下，在单层的薄膜的单面或两面形成满足上述要件的凹凸形状(以下也称为“单层薄膜”。)。 在本专利技术的脱模薄膜为层叠薄膜的情况下，例如可以举出在单面形成有满足上述要件的凹凸形状的薄膜(以下也称为“脱模层”。)的没有形成上述凹凸形状的一侧的面上层叠其他树脂薄膜(以下也称为“树脂层”。)的2层结构体，或者，在上述树脂层的两面层叠有上述脱模层且使形成有上述凹凸形状的侧成为最外面的3层结构体等。 此外，在本专利技术的脱模薄膜为包含上述脱模层与树脂层的层叠体的情况下，上述脱模层与树脂层可以利用热粘接层叠，也可以借助粘合剂层叠。 作为构成上述单层薄膜或脱模层的树脂，没有特别限定，可以使用在通常的脱模薄膜中使用的树脂。具体而言，例如可以举出聚酯树脂、聚苯乙烯系树脂、聚烯烃系树脂等。另外，构成本专利技术的脱模薄膜的树脂可以为包含2种以上的单体成分的单体混合物共聚合而成的共聚物。这些树脂可以单独使用，也可以并用2种以上。其中，从耐热性出色出发，优选聚对苯二甲酸丁二醇酯系树脂、聚对苯二甲酸萘二酯(polynaphthaleneterephthalate)系树脂、间规聚苯乙烯系树脂、聚丙烯系树脂等。 在构成上述单层薄膜或脱模层的树脂含有结晶成分的情况下，可以通过提高该结晶成分的结晶度来提高起模性、抗皱性。另外，由于已提高结晶度的薄膜的透明性低，成为乳白色，所以在将柔性印刷基板、覆盖薄膜、脱模薄膜层叠进而加热冲压时，与透明的薄膜相比，变得容易进行对位。 作为提高上述结晶成分的结晶度的方法，例如可以举出并用结晶成核剂等促进结晶化的添加剂的方法或者在制造脱模薄膜时将溶融成形时的薄膜的冷却辊的温度或赋予形状的辊的温度设定成树脂的玻璃化转变温度以上或树脂的结晶化温度附近的方法等。 作为上述冷却辊或赋予形状的辊的表面温度，例如可以举出70～160℃的范围，可以对应使用的树脂等设定。 构成上述单层薄膜或脱模层的树脂也可以含有弹性体成分。通过含有弹性体成分，可以提高本专利技术的脱模薄膜的挠性，减低空隙。 上述弹性体成分可以以单独的树脂的形式配合，也可以以共聚物的成分的形式配合。 作为上述弹性体成分，没有特别限定，例如可以举出天然橡胶、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚丁二烯、聚异戊二烯、丙烯腈-丁二烯共聚物、乙烯-丙烯共聚物(EPM、EPDM)、氯丁橡胶、丁基橡胶、丙烯酸橡胶、硅橡胶、聚氨酯橡胶、烯烃系热塑性弹性体、苯乙烯系热塑性弹性体、氯乙烯系热本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种脱模薄膜，其特征在于， 对于至少一方的表面性状而言，利用基于ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１的方法，使用前端半径２μｍ、圆锥的锥角６０°的触针，在测定力为０．７５ｍＮ、截断值λｓ＝２．５μｍ、λｃ＝０．８ｍｍ的条件下测定的粗糙度曲线的 最大高度粗糙度Ｒｚ为０．５～２０μｍ且粗糙度曲线要素的平均长度ＲＳｍ为５０～５００μｍ。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-9-21 245140/20071.一种脱模薄膜，其特征在于，对于至少一方的表面性状而言，利用基于JIS B06012001的方法，使用前端半径2μm、圆锥的锥角60°的触针，在测定力为0.75mN、截断值λs＝2.5μm、λc＝0.8mm的条件下测定的粗糙度曲线的最大高度粗糙度Rz为0.5～20μm且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为50～500μm。2.根据权利要求1所述的脱模薄膜，其特征在于，粗糙度曲线的最大高度粗糙度Rz为0.5～10μm。3.根据权利要求1或2所述的脱模薄膜，其特征在于，粗糙度曲线要素的平均长度RSm为200～400μm。4.根据权利要求1所述的脱模薄膜，其特征在于，对于粗糙度曲线的最大高度粗糙度Rz为0.5～20μm且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为50～500μm的表面的性状而言，利用基于JIS B06012001的方法，使用前端半径2μm、圆锥的锥角60°的触针，在测定力为0.75mN、截断值λs＝2.5μm、λc＝0.8mm的条件下测定的粗糙度曲线的偏斜度Rsk超过0.05。5.根据权利要求1所述的脱模薄膜，其特征在于，对于粗糙度曲线的最大高度粗糙度Rz为0.5～20μm且粗糙度曲线要素的平均长度RSm为50～500μm的表面的性状而言，利用基于JIS B06011994的方法，用原子力显微镜测定的谷部的以50μm正方形观察测定的表面粗糙度Rz(AFM)为500...
【专利技术属性】
技术研发人员：土谷雅弘，松本弘丈，五藤靖志，森伸浩，
申请(专利权)人：积水化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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