肟酯光引发剂制造技术

本发明专利技术涉及式（Ⅰ）和（Ⅱ）的化合物，其中Ｍ↓［１］、Ｍ↓［２］和Ｍ↓［３］彼此独立地为无键、直接键、ＣＯ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ↓［２］或ＮＲ↓［１４］；条件是Ｍ↓［１］、Ｍ↓［２］或Ｍ↓［３］的至少一个为直接键、ＣＯ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ↓［２］或ＮＲ↓［１４］；Ｍ↓［４］是直接键、ＣＲ”↓［３］Ｒ”↓［４］、ＣＳ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ或ＳＯ↓［２］；Ｙ是Ｓ或ＮＲ↓［１８］；Ｒ↓［１］例如为氢、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷基、苯基或萘基，该苯基或萘基均任选被取代；Ｒ↓［２］例如为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基；Ｒ”↓［２］具有对Ｒ↓［２］给出的含义之一；Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］例如为氢、卤素、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基；Ｒ’↓［３］、Ｒ’↓［４］、Ｒ”↓［３］和Ｒ”↓［４］彼此独立地具有对Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］给出的含义之一；Ｒ↓［５］是例如氢、卤素、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基；条件是在式（Ⅰ）的化合物中，存在至少两个肟酯基团和条件是存在至少一个规定的取代基Ｒ↓［２］或Ｒ”↓［２］；该化合物在光聚合反应中显示出非常好的性能。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在多芳族体系中具有至少两个肟酯基团的特定肟酯化合物。前体常常可以是具有相应多芳族体系的聚酮化合物。酮向肟的转化可以以选择性方式进行，或以适中的选择性进行。在后一情况下，最终肟酯产物可以是超过一种化合物的混合物。因此，本专利技术还涉及此类混合物，条件是还包括式I或II的除如上面所述的构型异构体之外的至少一种化合物。 本专利技术的另一主题是式Ia或IIa的化合物 其中 R2、R”2、Y、M1、M2、M3和M4如上面所定义； R3、R’3、R”3、R4、R’4、R”4和R5如上面所定义，其中如上面所定义的基团 和/或 可以被 和/或 替代； R’2和R”’2如上面所定义； Z是氢、COR1、COR’1或COR”1； 条件是式Ia和IIa的化合物中至少一个基团Z是氢； 条件是至少两个包含基团Z的基团存在于该分子中；和条件是 (i)取代基 之一中的R2、R’2和R”’2中的至少一个是NR12R13或 或 (ii)取代基 之本文档来自技高网...

【技术保护点】
式Ⅰ或Ⅱ的化合物：　＊＊＊　（Ⅰ）　＊＊＊　（Ⅱ），其中　Ｍ↓［１］、Ｍ↓［２］和Ｍ↓［３］彼此独立地为无键、直接键、ＣＯ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ↓［２］或ＮＲ↓［１４］；条件是Ｍ↓［１］、Ｍ↓［２］或Ｍ↓［３］的至少一个 为直接键、ＣＯ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ↓［２］或ＮＲ↓［１４］；　Ｍ↓［４］是直接键、ＣＲ”↓［３］Ｒ”↓［４］、ＣＯ、ＣＳ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ或ＳＯ↓［２］；　Ｙ是直接键、Ｓ或ＮＲ↓［１８］；　Ｒ↓［１］是氢、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８ ］环烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［５］烯基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷氧基、未取代的Ｃ...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2007-5-11 07108028.7;EP 2007-6-20 07110645.41.式I或II的化合物其中M1、M2和M3彼此独立地为无键、直接键、CO、O、S、SO、SO2或NR14；条件是M1、M2或M3的至少一个为直接键、CO、O、S、SO、SO2或NR14；M4是直接键、CR”3R”4、CO、CS、O、S、SO或SO2；Y是直接键、S或NR18；R1是氢、C3-C8环烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基、未取代的C1-C20烷基或被一个或多个卤素、苯基、C1-C20烷基苯基和/或CN取代的C1-C20烷基；或R1是苯基或萘基，均是未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、C1-C4卤代烷基、卤素、CN、OR11、SR10和/或NR12R13取代的；或R1是苄氧基或苯氧基，均是未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、C1-C4卤代烷基和/或卤素取代的；R2是氢、C1-C20烷基，该C1-C20烷基任选含有一个或多个C-C多重键；或R2是任选地被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基，并且该未被插入或被插入的C3-C10环烷基任选地含有一个或多个C-C多重键；或R2是被一个或多个卤素、OR11、COOR11、NR12R13、C1-C20杂芳基、C1-C20杂芳基-(CO)O、C1-C20杂芳基-S、CONR12R13、苯基取代的C1-C20烷基，或所述C1-C20烷基被苯基取代，该苯基被卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、SR10、OR11或NR12R13取代；该取代的C1-C20烷基任选地含有一个或多个C-C多重键；或R2是被一个或多个O插入和/或任选被一个或多个卤素、OR11、COOR11、NR12R13、C1-C20杂芳基、C1-C20杂芳基-(CO)O、C1-C20杂芳基-S、CONR12R13、苯基或被SR10、OR11或NR12R13取代的苯基取代的C2-C20烷基，该被插入和任选取代的C2-C20烷基任选地含有C-C多重键；或R2是苯基、萘基、香豆素基或C1-C20杂芳基，各自任选被一个或多个C1-C12烷基、C2-C12烯基、C2-C12炔基、苯基、卤素、C1-C4卤代烷基、CN、NO2、SR10、OR11、NR12R13，或任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基取代；或R2是C2-C20烷酰基、或未取代或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、苯基、SR10、OR11或NR12R13取代的苯甲酰基；或R2是任选被一个或多个O插入和/或任选被一个或多个OH取代的C2-C12烷氧基羰基；或R2是未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、C1-C4卤代烷基、卤素、苯基、SR10、OR11或NR12R13取代的苯氧基羰基；或R2是NR12R13或或或R2与同基团连接的苯基或萘基环的C原子之一形成环，其中所述形成的环是未取代或取代的；R”2具有对R2给出的含义之一；或R”2与同基团连接的苯基或萘基环的C原子之一形成环，其中所述形成的环是未取代或取代的；M5为无键、直接键、CO、O、S、SO、SO2或NR14；R3和R4彼此独立地为氢、卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基、任选被O、CO或NR14插入的C2-C12烯基，或为C4-C8环烯基、C2-C12炔基、苯基-C1-C4烷基、CN、NO2、或任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基；或R3和R4是未取代或被一个或多个SR10、OR11或NR12R13取代的苯基；或R3和R4是(CO)R15、SR10、OR11、SOR10、SO2R10或NR12R13，其中取代基(CO)R15、OR11、SR10和NR12R13任选经由基团R10、R11、R12R13和/或R15与苯基环上的其它取代基或与苯基环的碳原子之一形成5-或6-元环；或R3和R4一起为C1-C6亚烷基或C2-C6亚烯基，从而和与它们相连的苯基一起形成双环，其中所述双环任选被一个或多个C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、SR10、OR11、NR12R13、卤素、苯基、COOR11、CONR12R13、CN、NO2取代，或任选被任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基取代，或任选被由O、CO或NR14插入的C2-C20烷基取代，并且其中所述双环任选与其它芳环和/或杂芳环稠合；R’1具有对R1给出的含义之一；R’2具有对R2给出的含义之一；R’3、R’4、R”3和R”4彼此独立地具有对R3和R4给出的含义之一；R5是氢、卤素、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷基、被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基、任选被O、CO或NR14插入的C2-C12烯基，或为C4-C8环烯基、C2-C12炔基、苯基-C1-C4烷基、CN、NO2、或任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基；或R5是未取代或被一个或多个卤素、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷基、SR10、OR11、NR12R13、或被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基取代的苯基；或R5是(CO)R15、SR10、OR11、SOR10、SO2R10或NR12R13，其中取代基(CO)R15、OR11、SR10和NR12R13任选经由基团R10、R11、R12R13和/或R15与苯基环上的其它取代基或与苯基环的碳原子之一形成5-或6-元环；或R5是R6和R’6彼此独立地为氢、卤素、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷基、被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基、任选被O、CO或NR14插入的C2-C12烯基，或为C4-C8环烯基、C2-C12炔基、苯基-C1-C4烷基、CN、NO2、或任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基；或R6和R’6是未取代或被一个或多个卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、SR10、OR11或NR12R13取代的苯基；或R6和R’6是(CO)R15、SR10、OR11、SOR10、SO2R10或NR12R13，其中取代基(CO)R15、OR11、SR10和NR12R13任选经由基团R10、R11、R12R13和/或R15与苯基环上的其它取代基或与苯基环的碳原子之一形成5-或6-元环；或R6和R’6一起为C1-C6亚烷基或C2-C6亚烯基，从而和与它们相连的苯基一起形成双环，其中所述双环任选被一个或多个C1-C20烷基、被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基取代，任选被C1-C4卤代烷基、SR10、OR11、NR12R13、卤素、苯基、COOR11、CONR12R13、CN、NO2或任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基取代，且其中所述双环任选与其它芳环和/或杂芳环稠合；条件是基团或与所述双环的任一环连接；R7、R’7、R8和R’8彼此独立地具有对R3和R4给出的含义之一；R9和R’9彼此独立地为氢、卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基、或是任选被O、CO或NR14插入的C2-C12烯基，或是C4-C8环烯基、C2-C12炔基、苯基-C1-C4烷基、CN、NO2、或任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基；或R9和R’9是未取代或被一个或多个卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、SR10、OR11或NR12R13取代的苯基；或R9和R’9是(CO)R15、SR10、OR11、SOR10、SO2R10或NR12R13，其中取代基(CO)R15、OR11、SR10和NR12R13任选经由基团R10、R11、R12R13和/或R15与苯基环上的其它取代基或与苯基环的碳原子之一形成5-或6-元环；R10是氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、被C1-C20杂芳基取代的C1-C8烷基、或是C2-C12烯基、任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基，或R10是苯基-C1-C4烷基；被OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、-OCH2CH2CN、-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、-O(CO)-(C1-C4烷基)、-O(CO)-苯基、-(CO)OH、C1-C20杂芳基、C1-C20杂芳基-(CO)O、C1-C20杂芳基-S、或-(CO)O(C1-C4烷基)取代的C1-C20烷基；或R10是被一个或多个O或S插入的C2-C20烷基；或R10是-(CH2CH2O)nH、-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷酰基、苯甲酰基、C3-C6烯酰基；或R10是苯基、萘基或C1-C20杂芳基，各自为未取代的或被一个或多个卤素、C1-C12烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C12烷氧基、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫烷基、苯基硫烷基、-N(C1-C12烷基)2、二苯基氨基、-(CO)O(C1-C8烷基)或(CO)N(C1-C8烷基)2取代的；或R10是苯基、萘基或C1-C20杂芳基，它们经由直接键、C1-C4亚烷基、O、S、NR14或CO与和SR10相连的苯基环一起形成5-或6-元环，其中所述苯基或萘基为未取代的或被一个或多个C1-C20烷基、被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基取代，或被任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基取代，或被卤素、C1-C20烷氧基、C1-C20烷基羰基或苯基羰基取代；n是1-12的整数；R”1具有对R1和R’1给出的含义之一；R”’2具有对R2和R’2给出的含义之一；R11是氢、任选被一个或多个卤素或C1-C20杂芳基取代的C1-C20烷基；或为-(CH2CH2O)nH、-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷酰基、C2-C12烯基、C3-C6烯酰基、苯基-C1-C4烷基；被一个或多个O插入的C2-C20烷基；任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基；或R11是被OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、-OCH2CH2CN、-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、-O(CO)-(C1-C4烷基)、-O(CO)-苯基、-(CO)OH、C1-C20杂芳基、C1-C20杂芳基-(CO)O、C1-C20杂芳基-S、或-(CO)O(C1-C4烷基)取代的C1-C20烷基；或R11是未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、C1-C4卤代烷基、OH或C1-C4烷氧基取代的苯甲酰基；或R11是苯基、萘基或C1-C20杂芳基，各自为未取代的或被一个或多个卤素、OH、C1-C12烷基、C3-C10环烷基或C1-C12烷氧基取代；R12和R13彼此独立地为氢、C1-C20烷基、被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基、C2-C4羟烷基、C1-C12烷氧基、苯基-C1-C4烷基、(CO)R15、C2-C10烷氧基烷基、C3-C5烯基或任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基；或R12和R13是苯基或萘基，各自为未取代的或被一个或多个卤素、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷氧基、(CO)R15、苯基、NR16R17、SR10、OR11、C1-C20烷基、被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基取代，或被任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基取代；或R12和R13彼此独立地为C2-C5亚烷基或C2-C5亚烯基，其连接到与NR12R13相连的苯基或萘基环的C原子之一上，其中所述C2-C5亚烷基或C2-C5亚烯基任选被O、CO或NR14插入；或R12和R13彼此独立地为苯基，其经由直接键连接到NR12R13位于其上的苯基环上；或R12和R13和与它们相连的N-原子一起形成5-或6-元的饱和或不饱和环，其任选被O、N或NR14插入，且该环是未取代的或被一个或多个C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、＝O、SR10、OR11或NR16R17、(CO)R15、NO2、卤素、C1-C4卤代烷基、CN、苯基、取代，或被任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基取代；或R12和R13和与它们相连的N-原子一起形成杂芳环体系，该杂芳环体系为未取代的或被一个或多个C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷氧基、＝O、SR10、OR11、NR16R17、(CO)R15、卤素、NO2、CN、苯基取代，或被任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基取代；R14是氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、被O或CO插入的C2-C20烷基，或为苯基-C1-C4烷基、任选被O或CO插入的C3-C8环烷基，或为(CO)R15或苯基，该苯基为未取代的或被一个或多个C1-C20烷基、卤素、C1-C4卤代烷基、SR10、OR11、NR12R13或取代；R15是氢、OH、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基、任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基，或为苯基-C1-C4烷基、SR10、OR11或NR12R13；或R15是苯基、萘基、香豆素基或杂芳基，各自为未取代的或被一个或多个SR10、OR11、NR12R13、CN、NO2、卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、被O、CO或NR14插入的C2-C20烷基或任选被O、CO或NR14插入的C3-C10环烷基取代；R16和R17彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C10环烷基或苯...

【专利技术属性】
技术研发人员：松本亮，田边纯一，仓久敏，大和昌纪，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]